KR20130044118A - 유기 el 표시 패널, 표시 장치, 및 유기 el 표시 패널의 제조 방법 - Google Patents

유기 el 표시 패널, 표시 장치, 및 유기 el 표시 패널의 제조 방법 Download PDF

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KR20130044118A
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Abstract

텔레비전 등의 전자 기기에 사용되는 유기 EL 표시 패널(100)에 있어서, 중간층(9) 또는 발광층(10)을 웨트 방식으로 형성하면서, 상이한 발광색간의 중간층 등의 막 두께차를 용이하게 미세 조절할 수 있도록 하고, 발광 효율 또는 발광색을 향상시키는 것을 목적으로 한다. 유기 EL 소자(20)의 하층에 있는 층간 절연막(3)에 형성된 컨택트 홀(13)의 용적을 색마다 다르게 함으로써, 각 양극판(5)의 오목부(15)의 용적을 조절한다. 그리고, 잉크젯 방식에 의해 중간층 등의 재료를 포함하는 잉크가 적하된 경우, 오목부에 충전되는 잉크량에 따라 중간층 등의 막 두께가 변화한다. 즉, 각 색의 오목부의 용적차를 조절함으로써, 각 색의 중간층(9) 등의 막 두께차를 미세 조절할 수 있다.

Description

유기 EL 표시 패널, 표시 장치, 및 유기 EL 표시 패널의 제조 방법{ORGANIC EL DISPLAY PANEL, DISPLAY DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC EL DISPLAY PANEL}
본 발명은, 유기 전계 발광 소자(이하 「유기 EL 소자」라고 칭한다)를 배열한 유기 EL 표시 패널, 표시 장치, 및 유기 EL 표시 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 발광형의 표시 패널로서, 기판 상에 행렬 방향을 따라 유기 EL 소자를 복수 배열한 유기 EL 표시 패널이, 소형 전자 기기나 소형 표시 장치에 이용되고 있다. 유기 EL 소자는, 양극과 음극의 한쌍의 전극쌍의 사이에 유기 발광 재료를 포함하는 발광층이 형성된 기본 구조를 가지고 있다. 유기 EL 소자는, 한쌍의 전극쌍의 사이에 전압이 인가되면, 양극으로부터 발광층에 주입되는 홀과, 음극으로부터 발광층에 주입되는 전자의 재결합에 따라 광을 발한다. 이 유기 EL 표시 패널은, 각 유기 EL 소자가 자기 발광을 행하므로 시인성이 높다.
유기 EL 표시 패널에 있어서, 일반적으로 발광층은, 유기 EL 소자마다 절연 재료로 이루어지는 격벽(뱅크)으로 칸막이되어 있고, 이 격벽에 의해 발광층의 형성 영역이 규정되어 있다. 또한, 양극과 발광층의 사이에는, 홀 주입층, 홀 수송층, 홀 주입겸 수송층과 같은 중간층이 필요에 따라서 끼워 삽입된다. 또한, 음극과 발광층의 사이에도, 필요에 따라서 전자 주입층, 전자 수송층 또는 전자 주입겸 수송층이 끼워져 삽입된다.
풀 컬러 표시의 유기 EL 표시 패널에 있어서는, 이러한 유기 EL 소자가, RGB(적색 녹색 청색) 각 색의 서브 픽셀을 형성하고, 인접하는 RGB의 서브 픽셀이 합쳐져 1화소가 형성되어 있다.
각 유기 EL 소자의 발광층이나 중간층을 형성하는 방법에는, 인접하는 각 유기 EL 소자끼리를 칸막이하는 격벽을 기판 상에 형성해 두고, 고분자 재료나 박막 형성성이 좋은 저분자 재료를 포함하는 잉크를, 잉크젯 등으로 도포하는 웨트 방식이 많이 이용되고 있다. 이 웨트 방식에 의하면, 대형 패널에 있어서도 중간층이나 발광층을 비교적 용이하게 형성할 수 있다.
웨트 방식 중의 대표적인 잉크젯 방식으로는, 예를 들면, 도포 대상의 기판의 위쪽을 행렬 방향 중 어느 하나의 방향으로 잉크젯 헤드를 이동시키고, 기판 상의 격벽으로 구획된 영역에, 중간층, 발광층 등을 형성하기 위한 유기 재료와 용매를 포함하는 용액(이하, 간단히 「잉크」로 칭한다)의 액적을 노즐로부터 토출시켜 잉크를 도포한다(특허 문헌 1 참조).
특허 문헌 1:일본국 특허공개 2003-241683호 공보
그런데, 각 유기 EL 소자의 발광 효율을 높이는데 적합한 중간층의 막 두께는, 발광색의 파장에 의존한다. 예를 들면, 탑 에미션형의 유기 EL 소자에서는, 발광층으로부터 기판측으로 방사된 광이, 일단 기판측의 전극 등에 의해 반사된 후, 발광층을 통과하여 출사하는 반사광과, 발광층으로부터 직접 위쪽(기판과 반대측)으로 출사하는 광이 합쳐져 강해지도록 광로 길이가 설정되어 있는 것이 바람직하다.
즉, 적색광과 녹색광과 청색광에서는, 그 파장의 차이에 따라, 유기 EL 소자 내에서의 최적의 광로 길이(공진 조건)가 다르므로, 각 색 서브 픽셀에 있어서, 발광색의 파장에 맞추어 중간층의 막 두께차를 미세 조절하는 것이 발광 효율을 높이는데 있어서 바람직하다.
그러나, 실제로 웨트 방식으로 중간층을 형성할 때에는, 색마다 중간층의 막 두께를 미세 조절하는 것은 실제상 어렵다.
구체적으로는, 중간층의 재료를 포함하는 잉크는 모든 색에서 공통으로 하고, 각 서브 픽셀에 대해서 공급하는 중간층 형성용의 잉크량을 일정하게 하고 있다. 예를 들면, 잉크젯 방식으로 중간층의 잉크를 도포하는 경우, 각 색의 유기 EL 소자를 형성하는 영역에 대해서 토출하는 잉크의 액적수는 공통으로 하고, 또한 노즐로부터 토출되는 잉크 1적당의 체적도 동일하게 하면서 행하고 있다.
여기서, 잉크젯 방식의 경우, 서브 픽셀의 색마다 적하하는 잉크 액적수를 변경함으로써 중간층의 막 두께를 조절하는 것도 생각할 수 있는데, 각 서브 픽셀에 공급하는 잉크량은, 잉크 액적 단위로밖에 변경할 수 없으므로, 역시, 서브 픽셀의 색마다 중간층의 막 두께를 미세 조절하는 것은 실제상 어렵다.
또한, 발광층에 대해서는, 예를 들면, 원하는 휘도나 색도를 얻기 위한 적절한 막 두께가 색마다 다르기 때문에, 상이한 색에 대응하는 발광층간의 막두께 차를 미세 조절하는 것, 혹은 중간층과 마찬가지로 광로 길이를 발광색의 파장에 적합한 것으로 하기 위해서 막 두께 차를 미세 조절하는 것이 요구되고 있다.
이상에 기술한 예로부터 알 수 있듯이, 유기 EL 표시 패널에 있어서, 웨트 방식으로 중간층이나 발광층을 형성하는 경우에, 이들 막 두께 차를 미세 조절하는 것이 요구되고 있다.
본 발명은 이러한 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 유기 EL 표시 패널에 있어서, 중간층 또는 발광층을 웨트 방식으로 형성하면서, 상이한 발광색간의 중간층 등의 막 두께 차를 용이하게 미세 조절할 수 있도록 하고, 예를 들면, 발광 효율, 발광색 등을 향상시키는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에서는, TFT층과, 상기 TFT층의 위쪽에 설치된 층간 절연막과, 상기 층간 절연막 상에 형성되고, 라인 형상으로 배열된 복수의 제1 색용의 전극판을 포함하는 제1 전극판군과, 상기 층간 절연막 상에 상기 제1 전극판군과 인접하여 형성되고, 라인 형상으로 배열된 복수의 제2 색용의 전극판을 포함하는 제2 전극판군과, 상기 제1 전극판군의 한쪽의 장변 부분을 따라 형성된 제1 격벽과, 상기 제1 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분과, 상기 제2 전극판군의 한쪽의 장변 부분의 사이에 형성된 제2 격벽과, 상기 제2 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분을 따라 형성된 제3 격벽과, 상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽의 사이에 있어서 상기 제1 전극판군의 위쪽에 형성된 제1 유기 기능층과, 상기 제2 격벽과 상기 제3 격벽의 사이에 있어서 상기 제2 전극판군의 위쪽에 형성된 제2 유기 기능층과, 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층의 위쪽에 설치된 대향 전극을 구비하고, 상기 층간 절연막에는, 상기 제1 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제1 컨택트 홀, 및, 상기 제2 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제2 컨택트 홀이 설치되고 상기 제1 색용의 전극판의 각각은, 상기 제1 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제1 오목부를 가지고, 상기 제2 색용의 전극판의 각각은, 상기 제2 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제2 오목부를 가지고 있고, 상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀 및 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀의 적어도 한쪽은, 단계적으로 좁아지는 형상을 하고 있고, 상기 제1 컨택트 홀의 용적은, 상기 제2 컨택트 홀의 용적보다 크고, 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내이며, 상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양이 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 제2 오목부로 들어가는 상기 제2 유기 기능층의 양보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 있어서, 상기 제2 오목부 이외의 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제2 유기 기능층의 막 두께보다 얇다고 하는 구성이 채용되어 있다.
본 발명의 일 양태에 있어서의 표시 장치는, 상기 유기 EL 표시 패널을 구비하고 있다.
본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널의 제조 방법에서는, 기판을 준비하는 제1 공정과, 상기 기판 상에 TFT층을 형성하는 제2 공정과, 상기 TFT층 상에 층간 절연막을 형성하는 제3 공정과, 복수의 제1 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제1 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하고, 상기 제1 전극판군과 인접하여 복수의 제2 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제2 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하는 제4 공정과, 상기 제1 전극판군의 한쪽의 장변 부분을 따라 제1 격벽을 형성하고, 상기 제1 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분과 상기 제2 전극판군의 한쪽의 장변 부분의 사이에 제2 격벽을 형성하고, 상기 제2 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분을 따라 제3 격벽을 형성하는 제5 공정과, 상기 제1 격벽과 상기 제 2 격벽의 사이에 있어서 상기 제1 전극판군의 위쪽에 연속하여 제1 유기 기능층을 형성하는 제6 공정과, 상기 제2 격벽과 상기 제3 격벽의 사이에 있어서 상기 제2 전극판군의 위쪽에 연속하여 제2 유기 기능층을 형성하는 제7 공정과, 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층의 위쪽에 대향 전극을 형성하는 제8 공정을 구비하고, 상기 제3 공정에 있어서, 상기 층간 절연막에는, 상기 제1 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제1 컨택트 홀, 및, 상기 제2 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제2 컨택트 홀이 형성되고, 상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀 및 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀의 적어도 한쪽은, 단계적으로 좁아지는 형상으로 형성하고, 상기 제1 컨택트 홀은, 상기 제2 컨택트 홀보다 용적을 크게 형성하고, 상기 제4 공정에 있어서, 상기 제1 색용의 전극판의 각각에는, 상기 제1 컨택트 홀의 형상을 따라 제1 오목부가 형성되고, 상기 제2 색용의 전극판의 각각에는, 상기 제2 컨택트 홀의 형상을 따라 제2 오목부가 형성되고, 상기 제6 공정에서 형성된 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제7 공정에서 형성된 상기 제2 유기 기능층에 있어서, 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내이며, 상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양이 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 제2 오목부로 들어가는 상기 제2 유기 기능층의 양보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 있어서, 상기 제2 오목부 이외의 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제2 유기 기능층의 막 두께보다 얇다고 하는 구성이 채용되어 있다.
본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에 의하면, 제1 컨택트 홀과 제2 컨택트 홀의 적어도 한쪽을 단계적으로 좁아지는 형상으로 함으로써, 용이하게 제1 컨택트 홀의 용적(체적)을 제2 컨택트 홀의 용적(체적)보다 크게 할 수 있다.
이 때문에, 제1 오목부의 용적이 제2 오목부의 용적보다도 커지고, 웨 트 방식에 의한 유기 기능층의 형성에 있어서, 예를 들면, 전극판의 위쪽에 형성된 제1 유기 기능층과 제2 유기 기능층이 동체적인 경우에, 제1 오목부로 들어가는 제1 유기 기능층의 양을, 제2 오목부로 들어가는 제2 유기 기능층의 양보다 많게 할 수 있다. 그 결과, 예를 들면, 제1 색용의 전극판 및 제2 색용의 전극판의 위쪽에 동체적의 유기 기능층을 형성한 경우에, 제1 색용의 전극판의 제1 오목부 이외의 영역(예를 들면, 평탄한 영역)에 대응하는 제1 유기 기능층의 막 두께(이하, 간단히 제1 유기 기능층의 막 두께라고 한다)를, 제2 색용의 전극판의 제2 오목부 이외의 영역에 대응하는 제2 유기 기능층의 막 두께(이하, 간단히 제2 유기 기능층의 막 두께라고 한다)보다 얇게 할 수 있다.
여기서, 제1 오목부의 용적과 제2 오목부의 용적의 차는, 잉크젯식 도포 방법에 있어서 노즐로부터 토출하는 잉크 1적당의 체적보다도 작은 단위로 조절이 가능하다. 이 때문에, 제1 오목부의 용적과 제2 오목부의 용적의 차를 미세 조절함으로써, 제1 유기 기능층의 막 두께와, 제2 유기 기능층의 막 두께의 차를 용이하게 미세 조절할 수 있다.
따라서, 상이한 색에 대응하는 유기 기능층의 막 두께차를 미세 조절하기 쉬워진다. 그 결과, 예를 들면, 유기 EL 소자 내에서의 광의 공진 조건을 색마다 적절화할 수 있어, 발광 효율이 뛰어난 표시 패널을 용이하게 얻을 수 있다.
또한, 유기 EL 소자내에서의 광의 공진 조건을 색마다 적절화하기 위해서, 유기 기능층에서만 광로 길이를 적절화할 필요는 없고, 다른 층(예를 들면, 투명 전극층)도 색마다 막 두께를 조절할 수 있다.
본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널의 제조 방법에 의하면, 상술의 유기 EL 표시 패널을 제조할 수 있다.
도 1은 실시의 형태에 관련된 유기 EL 표시 패널(100)의 구성을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 2는 표시 패널(100)의 개략 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3(a)는 표시 패널(100)의 개략 구성을 나타내는 평면도, (b)는 (a)의 A-A’선으로 절단한 단면도, (c)는 (a)의 B-B’선으로 절단한 단면도이다.
도 4는 표시 패널(100)의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 표시 패널(100)의 층간 절연막을 형성하는 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 기판 상에 중간층 형성용의 잉크를 도포한 직후 및 건조 후의 모습을 나타내는 단면 모식도이다.
도 7은 오목부(15)의 용적과 홀 수송층(9)의 막 두께의 관계를 설명하기 위한 모식도이다.
도 8은 컨택트 홀(13)의 상면적을 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 유기 EL 소자(20) 내의 광의 진행 방향을 설명하기 위한 모식도이다.
도 10은 변형예 1에 관련된 컨택트 홀(13d)의 형상을 나타내는 모식도이다.
도 11은 실시의 형태에 관련된 표시 장치(200)의 전체 구성을 나타내는 도면이다.
도 12는 표시 장치(200)를 이용한 텔레비전 시스템의 일예를 나타내는 외관 형상이다.
<발명의 양태>
본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에 있어서는, TFT층과, 상기 TFT층의 위쪽에 설치된 층간 절연막과, 상기 층간 절연막 상에 형성되고, 라인 형상으로 배열된 복수의 제1 색용의 전극판을 포함하는 제1 전극판군과, 상기 층간 절연막 상에 상기 제1 전극판군과 인접하여 형성되고, 라인 형상으로 배열된 복수의 제2 색용의 전극판을 포함하는 제2 전극판군과, 상기 제1 전극판군의 한쪽의 장변 부분을 따라 형성된 제1 격벽과, 상기 제1 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분과, 상기 제2 전극판군의 한쪽의 장변 부분의 사이에 형성된 제2 격벽과, 상기 제2 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분을 따라 형성된 제3 격벽과, 상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽의 사이에 있어서 상기 제1 전극판군의 위쪽에 형성된 제1 유기 기능층과, 상기 제2 격벽과 상기 제3 격벽의 사이에 있어서 상기 제2 전극판군의 위쪽에 형성된 제2 유기 기능층과, 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층의 위쪽에 설치된 대향 전극을 구비하고, 상기 층간 절연막에는, 상기 제1 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제1 컨택트 홀, 및, 상기 제2 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제2 컨택트 홀이 설치되고, 상기 제1 색용의 전극판의 각각은, 상기 제1 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제1 오목부를 가지고, 상기 제2 색용의 전극판의 각각은, 상기 제2 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제2 오목부를 가지고 있고, 상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀 및 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀의 적어도 한쪽은, 단계적으로 좁아지는 형상을 하고 있고, 상기 제1 컨택트 홀의 용적은, 상기 제2 컨택트 홀의 용적보다 크고, 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내이며, 상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양이 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 제2 오목부로 들어가는 상기 제2 유기 기능층의 양보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 있어서, 상기 제2 오목부 이외의 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제2 유기 기능층의 막 두께보다 얇다고 하는 구성이 채용되어 있다.
본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에 의하면, 제1 컨택트 홀과 제2 컨택트 홀의 적어도 한쪽을 단계적으로 좁아지는 형상으로 함으로써, 용이하게 제1 컨택트 홀의 용적(체적)을 제2 컨택트 홀의 용적(체적)보다 크게 할 수 있다.
이 때문에, 제1 오목부의 용적이 제2 오목부의 용적보다도 커지고, 웨트 방식에 의한 유기 기능층의 형성에 있어서, 예를 들면, 전극판의 위쪽에 형성된 제1 유기 기능층과 제2 유기 기능층이 동체적인 경우에, 제1 오목부로 들어가는 제1 유기 기능층의 양을, 제2 오목부로 들어가는 제2 유기 기능층의 양보다 많게 할 수 있다. 그 결과, 예를 들면, 제1 색용의 전극판 및 제2 색용의 전극판의 위쪽에 동체적의 유기 기능층을 형성한 경우에, 제1 색용의 전극판의 제1 오목부 이외의 영역(예를 들면, 평탄한 영역)에 대응하는 제1 유기 기능층의 막 두께(이하, 간단히 제1 유기 기능층의 막 두께라고 한다)를, 제2 색용의 전극판의 제2 오목부 이외의 영역에 대응하는 제2 유기 기능층의 막 두께(이하, 간단히 제2 유기 기능층의 막 두께라고 한다)보다 얇게 할 수 있다.
여기서, 제1 오목부의 용적과 제2 오목부의 용적의 차는, 잉크젯식 도포 방법에 있어서 노즐로부터 토출하는 잉크 1적당의 체적보다도 작은 단위로 조절이 가능하다. 이 때문에, 제1 오목부의 용적과 제2 오목부의 용적의 차를 미세 조절함으로써, 제1 유기 기능층의 막 두께와 제2 유기 기능층의 막 두께의 차를 용이하게 미세 조절할 수 있다.
따라서, 상이한 색에 대응하는 유기 기능층의 막 두께 차를 미세 조절하기 쉬워진다. 그 결과, 예를 들면, 유기 EL 소자 내에서의 광의 공진 조건을 색마다 적절화할 수 있어, 발광 효율이 뛰어난 표시 패널을 용이하게 얻을 수 있다.
또한, 유기 EL 소자 내에서의 광의 공진 조건을 색마다 적절화하기 위해서, 유기 기능층에서만 광로 길이를 적절화할 필요는 없고, 다른 층(예를 들면, 투명 전극층)도 색마다 막 두께를 조절할 수 있다.
여기서, 유기 EL 소자 내에서의 광의 공진 조건이 색마다 적절화되어 있으면, 예를 들면, 만일, 본 양태의 유기 EL 표시 패널과 동일한 제조 조건(유기 EL 소자의 치수, 잉크 도포량 등의 조건)으로, 제1 및 제2 컨택트 홀의 용적을 동일하게 하여 유기 EL 표시 패널을 제조한다고 한 경우에, 제1 색용 및 제2 색용의 유기 EL 소자의 양쪽의 발광 효율을 향상시키는 것은 양립할 수 없지만, 제1 및 제2 컨택트 홀의 용적을 다르게 함으로써 양립시키는 상태를 말한다.
또한, 만일 제1 및 제2 컨택트 홀의 용적을 동일하게 한 경우에, 제1 색용 및 제2 색용의 유기 EL 소자의 양쪽의 발광 효율을 향상시키는 것을 양립할 수 없는 상태의 구체적인 예로는, 만일 본 양태의 유기 EL 표시 패널의 제1 컨택트 홀의 용적을 작게 하여 제2 컨택트 홀의 용적과 동일하게 한 경우에, 제1 색용의 유기 EL 소자의 발광 효율이 저하하고, 한편, 만일 제2 컨택트 홀의 용적을 크게 하여 제1 컨택트 홀의 용적과 동일하게 한 경우에, 제2 색용의 유기 EL 소자의 발광 효율이 저하하는 등과 같은 상태이다.
또한, 유기 EL 소자의 발광색을 색마다 적절화하는 경우에 대해서도 상기와 같다고 할 수 있다. 또한, 발광색의 적절화는, 예를 들면, 각 발광색의 색 순도를 향상시킴으로써 행해진다.
상기 제 1 컨택트 홀의 용적을 제1 오목부의 용적과, 제2 컨택트 홀의 용적을 제2 오목부의 용적과 바꿔읽어도 된다.
단계적으로 좁아지는 컨택트 홀의 형상은, 예를 들면, 컨택트 홀이 형성되는 층간 절연막을, 하프톤 마스크를 이용하여 노광, 현상함으로써 형성된다. 그리고, 단계적으로 좁아지는 컨택트 홀의 단차수나 각 단차의 넓이 및 깊이는 임의로 형성할 수 있다. 또한, 단차는 컨택트 홀의 내주부의 일부에 형성되어 있어도 되고, 전 둘레에 걸쳐서 형성되어 있어도 된다.
또한, 전극판 상에 유기 기능층 이외의 층(예를 들면, 화소 규제층)이 형성되어 있어도, 유기 기능층 이외의 층이 오목부에 오목하게 들어가 있으면, 유기 기능층의 막 두께차를 미세 조절할 수 있다.
여기서, 「제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 제1 유기 기능층의 체적이, 각 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내」라고 하는 것은, 제1 유기 기능층의 체적과 제2 유기 기능층의 체적이 실질적으로 동일(오차 범위내)한 것, 수치적으로는 제1 유기 기능층의 체적과 제2 유기 기능층의 체적의 차가, 제1 유기 기능층의 체적에 대해서 10% 이내인 것을 의미하는 것으로 한다.
본 양태에 있어서, 제1 오목부의 용적과 제2 오목부의 용적의 차를, 잉크 1적의 체적보다도 크게 해도 된다(예를 들면, 1.5적분).
또한, 제1 유기 기능층의 체적과 제2 유기 기능층의 체적의 차는, 제1 오목부에 퇴적한 제1 유기 기능층의 체적으로부터 제2 오목부에 퇴적한 제2 유기 기능층의 체적을 뺀 체적 미만인 것이 바람직하다.
여기서, 「제1 오목부 이외의 제1 색용의 전극판 상의 영역」이란, 예를 들면, 평면에서 봐서, 제1 색용의 전극판 상의 영역 중, 제1 오목부가 형성된 영역(제1 오목부의 주위의 영역을 포함하는 경우가 있다)을 제외한 평탄한 영역을 말한다. 구체적으로는, 예를 들면, 평면에서 봐서 발광 영역에 위치하는 부분이다. 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대해서도 동일하다.
본 양태에 있어서, 위쪽이란, 유기 기능층 등의 적층 방향의 위쪽을 의미하고 있고, TFT층으로부터 멀어지는 방향이 된다.
또한, 전극판 상에 유기 기능층 이외의 층(예를 들면, 화소 규제층)이 형성되어 있어도, 유기 기능층 이외의 층이 오목부에 오목하게 들어가 있으면, 유기 기능층의 막 두께차를 미세 조절할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널은, 상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀의 상면적과 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀의 상면적은, 동일 또는 동일의 근방치의 범위내라고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에 의하면, 제1 컨택트 홀의 상면적과 제2 컨택트 홀의 상면적을 동일 또는 동일의 근방치의 범위내로 한 경우에도, 제1 컨택트 홀과 제2 컨택트 홀의 적어도 한쪽에 단차를 설치함으로써, 제1 컨택트 홀의 용적을 제2 컨택트 홀의 용적보다도 크게 할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 제2 컨택트 홀내에 단차를 설치하고, 단차면보다 아래쪽의 용적을 작게 함으로써, 제2 컨택트 홀의 용적을 제1 컨택트 홀보다도 작게 할 수 있다. 그 결과, 제1 유기 기능층의 막 두께와 제2 유기 기능층의 막 두께의 차를 미세 조절할 수 있다.
또한, 제1 및 제2 컨택트 홀의 상면적을 실질적으로 동일하게 함으로써, 제 1 및 제2 오목부의 개구 면적도 실질적으로 동일해지고, 도포된 잉크의 오목부 내로의 유입의 용이함을 대체로 동일하게 할 수 있다.
또한, 상면적은, 예를 들면, 층간 절연막의 상면에 개구한 컨택트 홀의 개구 면적으로 하거나, 컨택트 홀의 상부를 유기 기능층 등의 적층 방향과 수직인 단면에 의해 절단한 경우에 있어서의 개구의 면적으로 할 수 있다. 컨택트 홀의 상부는, 예를 들면, 컨택트 홀의 둘레 가장자리부의 최상부와 컨택트 홀의 깊이 치수의 15% 하강한 위치의 사이의 어느 하나의 부분으로 할 수 있다.
또한, 「동일 또는 동일의 근방치의 범위 내」란, 제1 컨택트 홀의 상면적과 제2 컨택트 홀의 상면적이 실질적으로 동일(오차 범위내)한 것, 수치적으로는 제1 컨택트 홀의 상면적과 제2 컨택트 홀의 상면적의 차가, 제1 컨택트 홀의 상면적에 대해서 10% 이내인 것을 의미하는 것으로 한다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 컨택트 홀의 상면적은, 상기 층간 절연막에 있어서의 상기 컨택트 홀의 둘레 가장자리부의 가장 높은 위치로부터 10%, 또는 10%의 근방치의 범위 내로 내려간 위치에 있어서의 상기 컨택트 홀의 직경으로 규정되는 원의 면적이라고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태는, 컨택트 홀의 평면 형상이 원형으로 되어 있고, 컨택트 홀의 둘레 가장자리부의 가장 높은 위치로부터 컨택트 홀의 깊이의 10% 전후로 하강한 위치에 있어서의 컨택트 홀의 직경에 의해 상면적을 규정하는 것이다. 이에 따라, 컨택트 홀의 둘레 가장자리부의 가장 높은 위치 및 그 부근에 있어서, 형상이나 높이의 편차가 존재하는 경우에도, 그 영향을 저감할 수 있다. 또한, 10%의 근방치의 범위내는, 예를 들면, 9% 이상이고 11% 이하인 범위 내의 값으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 상기 제1 오목부는, 제1 화소 규제층에 의해 덮이고, 상기 제1 화소 규제층의 위쪽에 제1 유기 기능층이 형성되고, 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 상기 제2 오목부는, 제2 화소 규제층에 의해 덮이고, 상기 제2 화소 규제층의 위쪽에 제2 유기 기능층이 형성되어 있다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에 의하면, 절연성을 가지는 화소 규제층에 의해 오목부를 덮음으로써, 오목부와 유기 기능층을 전기적으로 절연할 수 있다. 이에 따라, 예를 들면, 오목부의 개구 가장자리 위쪽에 있어서, 발광층이, 국소적 전류의 집중에 의해 오목부의 주위와 다른 휘도로 발광하는 것을 방지할 수 있다.
제1 화소 규제층 및 제2 화소 규제층의 각각은, 예를 들면, SiO2(산화규소)막, 혹은 SiN(질화규소)막, SiON(산질화규소)막 등의 산화물(질화물을 포함한다)로 형성된다. 상기 SiO막, SiN막 등의 산화물은, 제1 유기 기능층 및 제2 유기 기능층의 각각과의 습윤성이 양호하므로, 상기 화소 규제층 상에 유기 기능층을 포함하는 잉크가 직접 도포되는 경우에는, 제1 유기 기능층의 제1 오목부로의 유입 및 제2 유기 기능층의 제2 오목부로의 유입이 양호해진다.
따라서, 상이한 색에 대응하는 유기 기능층의 막 두께차를 미세 조절하기 위해서 보다 적합하다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널은, 상기 제1 유기 기능층은, 잉크젯식 도포 방법에 의해 소정 체적의 액적이 도포됨으로써, 상기 제1 전극판군의 위쪽에 연속하여 형성되고, 상기 제2 유기 기능층은, 잉크젯식 도포 방법에 의해 상기 소정의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내의 체적의 액적이 도포됨으로써, 상기 제2 전극판군의 위쪽에 연속하여 형성되고, 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내라고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태는, 유기 기능층의 형성에 있어서, 잉크젯식 도포 방법에 의해, 적하되는 액적의 체적이, 제1 유기 기능층의 형성과 제2 유기 기능층의 형성에서 실질적으로 동일(예를 들면, 체적차가 10% 이내의 오차 범위 내)하게 되어 있다. 또한, 제1 유기 기능층의 체적은 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내(예를 들면, 체적차가 10% 이내의 오차 범위 내)이며, 각 전극판 상의 영역에 적하되는 액적수는 동일하게 되어 있다.
여기서, 전술과 같이, 제1 컨택트 홀의 용적이 제2 컨택트 홀의 용적보다도 크게 되어 있으므로, 제1 색용의 전극판의 제1 오목부 이외의 부분에 대응하는 제1 유기 기능층의 막 두께를, 제2 색용의 전극판의 제2 오목부 이외의 부분에 대응하는 제2 유기 기능층보다도 얇게 할 수 있다.
이와 같이, 본 양태에 의하면, 잉크젯식 도포 방법에 있어서, 도포 조건을 동일하게 함으로써, 제조 장치 혹은 제조 프로세스를 간이화함과 더불어, 제1 컨택트 홀의 용적을 제2 컨택트 홀보다도 크게 함으로써, 제1 유기 기능층의 막 두께를 제2 유기 기능층보다도 얇게 할 수 있다. 즉, 상이한 색에 대응하는 유기 기능층의 막 두께차를 미세 조절할 수 있다.
종래, 잉크젯식 도포 방법으로 유기 EL 발광 소자의 유기 기능층을 형성하는 경우는, 잉크젯 장치의 쇼트수(예를 들면, 서브 픽셀당 잉크의 적하수)를 RGB 등의 색마다 조절하여 각 유기 기능층의 막 두께를 조절하고 있기 때문에, 유기 기능층의 막 두께의 미세 조절이 곤란했다. 예를 들면, 제1 색용의 전극판에 대응하는 영역에, 유기 기능층을 구성하는 유기 잉크의 액적의 10적을 적하하는 경우에는, 쇼트수를 11적으로 변경하면, 막 두께는 약 1.1배(약 10% 증가)로 된다. 즉, 이 경우에는, 잉크젯 장치에서는 약 10% 이하에서의 막 두께 제어는 행할 수 없다. 따라서, 상이한 색에 대응하는 유기 기능층의 막 두께차를 미세 조절할 수 없다.
또한, 상기 유기 기능층이 중간층인 경우는, RGB 등의 각 색에서 동일한 재료를 이용하여 인쇄한다. 이 때에, 상이한 색에 대응하는 유기 기능층의 막 두께차를 조절하기 위해서는, 잉크젯 장치의 RGB 각각의 노즐에 대해서 쇼트수 제어가 필요해져, 장치가 복잡해진다.
이에 대해, 본 양태에서는, 제1 유기 기능층의 체적과, 제2 유기 기능층의 체적이 실질적으로 동일하다. 그리고, 컨택트 홀의 용적차를, 예를 들면 잉크의 1.5적분 등으로 할 수 있어, 각 색의 쇼트수가 같아도 유기 기능층의 막 두께차를 미세 조절할 수 있다. 즉, 본 양태에서는 RGB 각 색에 있어서 유기 기능층의 막을 형성할 때의 잉크젯 장치에 의한 적하량은 같아도, 막 두께를 각 발광색에 대응하여 임의로 미세 조절할 수 있게 된다.
또한, 각 발광색에 대응한 잉크젯 장치의 전체 노즐로부터의 액적의 적하가, 동일한 조건으로 도포할 수 있으므로, 잉크젯 장치의 각 발광색에 대응한 각 노즐의 제어의 필요가 없어, 장치의 제어를 간이화하는 것이 가능하다.
이 결과, 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내로 하면서, 상기 오목부의 체적의 조절에 의해, 상기 유기 기능층의 막 두께를 미세 조절할 수 있게 된다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 제1 유기 기능층의 막 두께와 상기 제2 유기 기능층의 막 두께의 차는, 상기 잉크젯식 도포 방법에 의해 상기 소정 체적의 액적이 도포되는 경우, 상기 제1 색용의 전극판마다 도포되는 상기 액적수가, n개 증가함으로써 형성되는 상기 제1 유기 기능층의 막 두께보다 크고, 상기 액적수가 n+1개 증가함으로써 형성되는 상기 제1 유기 기능층의 막 두께보다 작다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에서는, 제1 색용의 전극판의 제1 오목부 이외의 부분에 대응하는 제1 유기 기능층의 막 두께와, 제2 색용의 전극판의 제2 오목부 이외의 부분에 대응하는 제2 유기 기능층의 막 두께의 차를, 잉크젯 장치의 노즐로부터 적하되는 액적의 최소 단위인 1개의 액적으로 형성되는 막 두께보다도 작게 미세 조절할 수 있다(예를 들면, 액적의 반의 막 두께). 또한, n은 0이상의 정수(n≥0)이다.
또한, 「액적수가 n개 증가함으로써 형성되는 제1 유기 기능층의 막두께」는, n개의 액적에 의한 제1 유기 기능층의 막 두께의 증가분으로 할 수 있다. 또한,「액적수가 n+1개 증가함으로써 형성되는 상기 제1 유기 기능층의 막 두께」는, n+1개의 액적에 의한 제2 유기 기능층의 막 두께의 증가분으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 제1 색은 청색이라고 하는 구성을 채용할 수 있다.
유기 EL 발광 소자에 있어서, 예를 들면, 전극판측에서 반사하여 대향 전극측으로 출사하는 광의 광로 길이를 각 색의 광의 파장에 적절한 것으로 하여, 발광층으로부터 대향 전극측으로 직접 출사하는 광과 합쳐져 강해지도록 간섭시키는 캐비티 구조가 채용되는 경우가 있다. 이 캐비티 구조의 일부를 유기 기능층이 구성하고 있는 경우에는, 청색에 대응하는 유기 기능층의 막 두께를 얇게 하는 것이 바람직하다. 이는, 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 발광색 중에서 청색의 광의 파장이, 적색, 녹색의 광의 파장보다 짧기 때문에, 광로 길이를 짧게 하는 것이 바람직하기 때문이다.
본 양태는, 상기 제1 색을 청색으로 하고 있다. 이 때문에, 다른 색의 발광색의 상기 유기 기능층의 막 두께보다, 상기 청색의 상기 유기 기능층의 막 두께를 얇게 하게 된다. 따라서, 예를 들면, 광 취출 효율이 뛰어난 다수색의 유기 EL 발광 소자를 실현할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 제2 전극판군과 인접하여 형성되고, 라인 형상으로 배열된 복수의 제3 색용의 전극판을 제3 전극판군과, 상기 제3 전극판군의 상기 제2 전극판군과 반대측의 장변 부분을 따라 형성된 제4 격벽과, 상기 제3 격벽과 상기 제4 격벽의 사이에 있어서 상기 제3 전극판군의 위쪽에 형성된 제3 유기 기능층을 포함하고, 상기 대향 전극은, 상기 제3 유기 기능층의 위쪽에 설치되고, 상기 층간 절연막에는, 상기 제3 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제3 컨택트 홀이 설치되고, 상기 제3 색용의 전극판은, 상기 제3 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제3 오목부를 가지고 있고, 상기 제3 색용의 전극판에 대응하는 제3 컨택트 홀은, 단계적으로 좁아지는 형상을 하고 있고, 상기 제1 컨택트 홀의 체적은, 상기 제3 컨택트 홀의 체적보다 크고, 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제3 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제3 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위내이며, 상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양이 상기 제3 컨택트 홀에 대응하는 제3 오목부로 들어가는 상기 제3 유기 기능층의 양보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 있어서, 상기 제3 오목부 이외의 상기 제3 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제3 유기 기능층의 막 두께보다 얇다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에서는, 상기 제1 전극판군과 상기 제2 전극판군에 대응한 유기 EL 발광 소자에 추가하여, 제3 전극판군에 대응한 유기 EL 발광 소자가 존재한다. 즉 3색의 발광색에 의해 화상을 표시하는 유기 EL 표시 패널을 실현할 수 있다. 그리고, 상기 3색을 적, 녹, 청(RGB)으로 함으로써, 범용성이 높은 유기 EL 표시 패널을 실현할 수 있다.
본 양태에 있어서, 제3 컨택트 홀의 용적을, 제2 컨택트 홀의 용적과 다르게 한 경우에는, 컨택트 홀의 체적을 RGB마다 다르게할 수 있다. RGB의 각 서브 픽셀에서는, 통상, 방사되는 광의 취출 효율을 향상시키기 위해서 전술의 캐비티 구조가 채용된다. 이 경우, RGB의 각 색의 광의 파장에 대응한 최적의 광로 길이가 되도록 유기 기능층의 막 두께차를 미세 조절할 수 있는 것이 바람직하다.
본 양태에 의하면, 컨택트 홀의 체적은, 컨택트 홀을 형성할 때의 마스크 형상, 노광·세정·큐어 등의 형성 조건으로 결정할 수 있으므로, 미세 조절이 용이한 것이다. 그 결과 유기 기능층의 막 두께차의 미세 조절을 실현할 수 있다.
따라서, 잉크젯식 도포 방법으로 유기 기능층을 형성하는 경우에 있어서, 각 서브 픽셀의 캐비티를 적절화하기 위한 상기 유기 기능층의 막 두께차를, RGB의 각 색에 대응하여 형성된 컨택트 홀의 체적을 바꿈으로써 미세 조절할 수 있다.
특히, RGB의 각 색의 발광 파장에 대응하여 캐비티를 적절화하기 위해서, 예를 들면, 컨택트 홀의 체적을, B, G, R의 순서로 작게 할 수 있다(B>G>R). 이에 따라, 유기 기능층의 막 두께를, B, G, R의 순서로 두껍게 할 수 있다(B<G<R). 또한, 캐비티에는 유기 기능층 이외의 층이 포함되어 있으므로, 유기 기능층 이외의 층의 막 두께에 따라서는, RGB의 각 색에 대응하는 유기 기능층의 막 두께의 두께를 상기 순서와 다르게 해도 된다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀의 상면적, 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀의 상면적 및 상기 제3 색용의 전극판에 대응하는 제3 컨택트 홀의 상면적은, 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내라고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에 의하면, 각 색에 대응하는 컨택트 홀의 상면적을 실질적으로 동일하게 한 경우에도, 컨택트 홀의 형상에 따라, 상기 유기 기능층의 막 두께를 미세 조절할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 컨택트 홀의 상면적은, 상기 층간 절연막에 있어서의 상기 컨택트 홀의 둘레 가장자리부의 가장 높은 위치로부터 10% 내려간 위치에 있어서의 상기 컨택트 홀의 직경으로 규정되는 원의 면적인, 구성을 채용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층은, 전하 주입층 혹은 전하 수송층 중의 어느 하나이며, 상기 제1 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제1 유기 발광층이 형성되고, 상기 제2 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제2 유기 발광층이 형성되어 있다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 제1 유기 기능층, 상기 제2 유기 기능층, 및 상기 제3 유기 기능층은, 전하 주입층 혹은 전하 수송층 중의 어느 하나이며, 상기 제1 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제1 유기 발광층이 형성되고, 상기 제2 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제2 유기 발광층이 형성되고, 상기 제3 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제3 유기 발광층이 형성되어 있다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층은, 유기 발광층이라고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에 의하면, 제1 컨택트 홀의 용적을, 제2 컨택트 홀의 용적보다도 크게 함으로써, 각 색에 대응하는 유기 발광층의 막 두께의 차를 미세 조절할 수 있다. 그 결과, 유기 발광층의 색도나 휘도를 보다 적절하게 할 수 있다. 혹은, 광의 취출 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 제1 유기 기능층, 상기 제2 유기 기능층, 및 상기 제3 유기 기능층은, 유기 발광층이라고 하는 구성을 채용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 전극판은 양극이며, 상기 대향 전극은 음극이라고 하는 구성을 채용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널에, 상기 전극판은 음극이며, 상기 대향 전극은 양극이라고 하는 구성을 채용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 표시 장치는, 상기 어느 하나의 양태에 기재된 유기 EL 표시 패널을 구비하고 있다.
본 양태에 의하면, 상기 어느 하나의 양태에 기재된 유기 EL 표시 패널을 구비한 표시 장치를 실현할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널의 제조 방법은, 기판을 준비하는 제1 공정과, 상기 기판 상에 TFT층을 형성하는 제2 공정과, 상기 TFT층 상에 층간 절연막을 형성하는 제3 공정과, 복수의 제1 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제1 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하고, 상기 제1 전극판군과 인접하여 복수의 제2 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제2 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하는 제4 공정과, 상기 제1 전극판군의 한쪽의 장변 부분을 따라 제1 격벽을 형성하고, 상기 제1 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분과 상기 제2 전극판군의 한쪽의 장변 부분의 사이에 제2 격벽을 형성하고, 상기 제2 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분을 따라 제3 격벽을 형성하는 제5 공정과, 상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽의 사이에 있어서 상기 제1 전극판군의 위쪽에 연속하여 제1 유기 기능층을 형성하는 제6 공정과, 상기 제2 격벽과 상기 제3 격벽의 사이에 있어서 상기 제2 전극판군의 위쪽에 연속하여 제2 유기 기능층을 형성하는 제7 공정과, 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층의 위쪽에 대향 전극을 형성하는 제8 공정을 구비하고, 상기 제3 공정에 있어서, 상기 층간 절연막에는, 상기 제1 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제1 컨택트 홀, 및 상기 제2 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제2 컨택트 홀이 형성되고, 상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀 및 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀의 적어도 한쪽은, 단계적으로 좁아지는 형상으로 형성하고, 상기 제1 컨택트 홀은, 상기 제2 컨택트 홀보다 용적을 크게 형성하고, 상기 제4 공정에 있어서, 상기 제1 색용의 전극판의 각각에는, 상기 제1 컨택트 홀의 형상을 따라 제1 오목부가 형성되고, 상기 제2 색용의 전극판의 각각에는, 상기 제2 컨택트 홀의 형상을 따라 제2 오목부가 형성되고, 상기 제6 공정에서 형성된 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제7 공정에서 형성된 상기 제2 유기 기능층에 있어서, 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위내이며, 상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양이 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 제2 오목부로 들어가는 상기 제2 유기 기능층의 양보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 있어서, 상기 제2 오목부 이외의 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제2 유기 기능층의 막 두께보다 얇다고 하는 구성을 채용하고 있다.
본 양태에 의하면, 전술의 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널을 제조할 수 있다. 따라서, 예를 들면, 제1 컨택트 홀의 용적과 제2 컨택트 홀의 용적의 차를 미세 조절함으로써, 제1 유기 기능층의 막 두께와, 제2 유기 기능층의 막 두께의 차를 용이하게 미세 조절할 수 있다. 그 결과, 예를 들면, 유기 EL 소자 내에서의 광의 공진 조건을 색마다 적절화할 수 있어, 발광 효율이 뛰어난 표시 패널을 용이하게 얻을 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널의 제조 방법으로, 상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 컨택트 홀의 상면적과 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 컨택트 홀의 상면적을, 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내로 형성하는, 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에 의하면, 전술의 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널을 제조 할 수 있다. 따라서, 예를 들면, 제1 컨택트 홀의 상면적과 제2 컨택트 홀의 상면적을 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내로 한 경우라도, 제1 컨택트 홀과 제2 컨택트 홀의 적어도 한쪽에 단차를 설치하여 형상을 다르게 함으로써, 제1 컨택트 홀의 용적을 제2 컨택트 홀의 용적보다도 크게 할 수 있다.
따라서, 상이한 색에 대응하는 유기 기능층의 막 두께차를 미세 조절하기 쉬워진다. 그 결과, 예를 들면, 발광 효율이 뛰어난 유기 EL 표시 패널을 제조할 수 있다.
또한, 제1 및 제2 컨택트 홀의 상면적을 실질적으로 동일하게 함으로써, 제1및 제2 오목부의 개구 면적도 대략 동일하게 되어, 유기 기능층을 포함하는 잉크의 오목부 내로의 유입의 용이함을 대체로 동일하게 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널의 제조 방법으로, 상기 제4 공정과 상기 제5 공정의 사이에, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 상기 제1 오목부를 덮도록 제1 화소 규제층을 형성하고, 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 상기 제2 오목부를 덮도록 제2 화소 규제층을 형성하는 공정을 설치하고, 상기 제6 공정에 있어서, 상기 제1 화소 규제층의 위쪽에 상기 제1 유기 기능층이 형성되고, 상기 제7 공정에 있어서, 상기 제2 화소 규제층의 위쪽에 상기 제2 유기 기능층이 형성된다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에 의하면, 절연성을 가지는 화소 규제층에 의해 오목부를 덮음으로써, 오목부와 유기 기능층을 전기적으로 절연할 수 있다. 이에 따라, 예를 들면, 오목부의 개구 가장자리 위쪽에 있어서, 발광층이, 국소적 전류의 집중에 의해 오목부의 주위와 다른 휘도로 발광하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 제1 화소 규제층 및 제2 화소 규제층의 각각이, 예를 들면, SiO2막, 혹은 SiN막 등의 산화물(질화물을 포함한다)로 형성되고, 또한, 상기 화소 규제층 상에 유기 기능층을 포함하는 잉크가 직접 도포되는 경우에는, 제1 유기 기능층의 제1 오목부로의 유입 및 제2 유기 기능층의 제2 오목부로의 유입이 양호해진다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널의 제조 방법으로, 상기 제6 공정에 있어서, 상기 제1 유기 기능층은, 잉크젯식 도포 방법에 의해 소정 체적의 액적을 도포함으로써, 상기 제1 전극판군의 위쪽에 연속하여 형성하고, 상기 제7 공정에 있어서, 상기 제2 유기 기능층은, 잉크젯식 도포 방법에 의해 상기 소정의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내의 체적의 액적을 도포함으로써, 상기 제2 전극판군의 위쪽에 연속하여 형성된다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에 의하면, 잉크젯식 도포 방법에 있어서, 색마다의 도포 조건을 동일하게 함으로써, 제조 장치 혹은 제조 프로세스를 간이화함과 더불어, 제1 컨택트 홀의 용적을 제2 컨택트 홀보다도 크게 함으로써, 제1 유기 기능층의 막 두께를 제2 유기 기능층보다도 얇게 할 수 있다. 즉, 상이한 색에 대응하는 유기 기능층의 막 두께차를 미세 조절할 수 있다.
상기 제1 유기 기능층의 막 두께와 상기 제2 유기 기능층의 막 두께의 차는, 상기 잉크젯식 도포 방법에 의해 상기 소정 체적의 액적이 도포되는 경우, 상기 제1 색용의 전극판마다 도포되는 액적수가, n개 증가함에 의한 상기 제1 유기 기능층의 막 두께의 증가분보다 크고, 상기 액적수가 n+1개 증가함에 의한 상기 제1 유기 기능층의 막 두께의 증가분보다 작다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에 의하면, 제1 유기 기능층의 막 두께와 제2 유기 기능층의 막 두께의 차를, 잉크젯 장치의 노즐로부터 적하되는 액적의 최소 단위인 1개의 액적으로 형성되는 막 두께보다도 작게 미세 조절할 수 있다. 또한, 상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 제1 유기 기능층 중의 제1 색용의 전극판의 제1 오목부 이외에 대응하는 부분의 막 두께이다. 제2 유기 기능층의 막 두께에 대해서도 동일하다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널의 제조 방법으로, 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층은, 전하 주입층 혹은 전하 수송층 중 어느 하나이며, 상기 제1 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제1 유기 발광층이 형성되고, 상기 제2 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제2 유기 발광층이 형성되어 있다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널의 제조 방법으로, 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층은, 유기 발광층이라고 하는 구성을 채용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 있어서의 유기 EL 표시 패널의 제조 방법은, 기판을 준비하는 제1 공정과, 상기 기판 상에 TFT층을 형성하는 제2 공정과, 상기 TFT층 상에 층간 절연막을 형성하는 제3 공정과, 복수의 제1 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제1 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하고, 상기 제1전극판군과 인접하여 복수의 제2 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제2 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하고, 상기 제2 전극판군과 인접하여 복수의 제3 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제3 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하는 제4 공정과, 상기 제1 전극판군의 한쪽의 장변 부분을 따라 제1 격벽을 형성하고, 상기 제1 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분과 상기 제2 전극판군의 한쪽의 장변 부분의 사이에 제2 격벽을 형성하고, 상기 제2 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분과 상기 제3 전극판군의 한쪽의 장변 부분의 사이에 제3 격벽을 형성하고, 상기 제3 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분을 따라 제4 격벽을 형성하는 제5 공정과, 상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽의 사이에 있어서 상기 제1 전극판군의 위쪽에 연속하여 제1 유기 기능층을 형성하는 제6 공정과, 상기 제2 격벽과 상기 제3 격벽의 사이에 있어서 상기 제2 전극판군의 위쪽에 연속하여 제2 유기 기능층을 형성하는 제7 공정과, 상기 제3 격벽과 상기 제4 격벽의 사이에 있어서 상기 제3 전극판군의 위쪽에 연속하여 제3 유기 기능층을 형성하는 제8 공정과, 상기 제1 유기 기능층, 상기 제2 유기 기능층 및 상기 제3 유기 기능층의 위쪽에 대향 전극을 형성하는 제9 공정을 구비하고, 상기 제3 공정에 있어서, 상기 층간 절연막에는, 상기 제1 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제1 컨택트 홀, 상기 제2 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제2 컨택트 홀, 및, 상기 제3 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제3 컨택트 홀이 설치되고, 상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀, 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀, 및, 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제3 컨택트 홀 중 적어도 2개는, 단계적으로 좁아지는 형상으로 형성하고, 상기 제1 컨택트 홀은, 상기 제2 컨택트 홀 및 제3 컨택트 홀의 각각보다 용적을 크게 형성하고, 상기 제4 공정에 있어서, 상기 제1 색용의 전극판의 각각에는 상기 제1 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제1 오목부가 형성되고, 상기 제2 색용의 전극판의 각각에는 상기 제2 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제2 오목부가 형성되고, 상기 제3 색용의 전극판의 각각에는 상기 제3 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제3 오목부가 형성되고, 상기 제6 공정, 상기 제7 공정 및 상기 제8 공정에서 각각 형성된 상기 제1 유기 기능층, 상기 제2 유기 기능층 및 상기 제3 유기 기능층에 있어서, 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적 및 상기 제3 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제3 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내이며, 상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양이, 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 제2 오목부로 들어가는 상기 제2 유기 기능층의 양 및 상기 제3 컨택트 홀에 대응하는 제3 오목부로 들어가는 상기 제3 유기 기능층의 양보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 있어서, 상기 제2 오목부 이외의 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제2 유기 기능층의 막 두께 및 상기 제3 오목부 이외의 상기 제3 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제3 유기 기능층의 막 두께보다 얇다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
본 양태에 의하면, 상기 제1의 전극판군과 상기 제2의 전극판군에 대응한 유기 EL 발광 소자에 추가하여, 제3의 전극판군에 대응한 발광색, 즉 3색의 발광색을 가지는 유기 EL 발광 소자를 실현할 수 있다. 그리고, 상기 3색을 적색, 녹색, 청색(RGB)으로 함으로써, 광 취출 효율이 높은 유기 EL 표시 패널을 실현할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 관련된 유기 EL 표시 패널에서는, 상기 구성에 있어서, 상기 컨택트 홀은, 층간 절연막의 상면측에 개구하는 상측 개구부와, 하면측에 개구하는 하측 개구부를 가지고 있고, 상기 전극판은, 상기 컨택트 홀을 따라 움푹 들어간 오목부에 있어서, 상기 하측 개구부를 통하여 상기 TFT층과 전기적으로 접속되어 있다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태에 관련된 유기 EL 표시 패널에서는, 상기 구성에 있어서, 상기 컨택트 홀은, 상기 상측 개구부로부터 상기 하측 개구부에 근접함에 따라 연속적으로 축경하는 형상의 상단 부분과, 상기 하측 개구부로부터 상기 상측 개구부에 근접함에 따라 연속적으로 확경하는 형상의 하단 부분을 가지고, 상단 부분과 하단 부분의 사이에 단차(혹은 단차면)가 존재한다고 하는 구성을 채용할 수 있다.
<실시의 형태>
(표시 패널(100)의 구성)
도 1은, 실시의 형태 1에 관련된 표시 패널(100)의 주요부 구성을 모식적으로 나타낸 단면도이다. 도 2는, 표시 패널(100)의 주요부 구성을 나타내는 사시도이다.
표시 패널(100)은, 유기 재료의 전계 발광 현상을 이용한 유기 EL 표시 패널이다. 표시 패널(100)에서는, 화소(픽셀)가 세로 방향 및 가로 방향(X방향 및 Y방향)으로 매트릭스형상으로 배열되어 있고, 각 화소는, 인접하는 RGB(적색 녹색 청색) 3색의 서브 픽셀에 의해 구성되어 있다. 도 2에 나타내는 유기 EL 소자(20a, 20b, 20c)는 탑 에미션형의 유기 EL 소자이며, 유기 EL 소자(20a)는 제1 색(청색)의 서브 픽셀, 유기 EL 소자(20b)는 제2 색(녹색)의 서브 픽셀, 유기 EL 소자(20c)는 제3 색(적색)의 서브 픽셀에 대응한다.
여기서, 평면에서 봐서, 각 유기 EL 소자(20)가 형성된 영역을 「소자 형성 영역」으로 칭하고, 소자 형성 영역 중, 발광에 기여하는 영역을 「서브 픽셀」로 칭한다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 청색의 유기 EL 소자(20a…)가 세로 방향(Y방향)으로 라인 형상으로 배열되고, 이에 인접하여, 녹색의 유기 EL 소자(20b…)가 세로 방향(Y방향)으로 라인 형상으로 배열되고, 또한, 이에 인접하여, 적색의 유기 EL 소자(20b…)가 세로 방향(Y방향)으로 라인 형상으로 배열되어 있다. 그리고, 가로 방향(X방향)에 인접하는 3개의 유기 EL 소자(20a, 20b, 20c)로 1화소가 형성된다.
도 1은, 배열된 유기 EL 소자(20c…)를 세로 방향(Y방향)으로 절단한 단면을 나타내고 있다. 표시 패널(100)은, 기판(1)과, 기판(1)의 주면 상에 적층 형성된 TFT층(2)(박막 트랜지스터층)으로 이루어지는 TFT 기판을 구비하고 있다.
또한, 표시 패널(100)에 있어서, TFT 기판 상에, 층간 절연막(3), 양극판(5), 화소 규제층(6), 홀 주입층(7)이 순서대로 적층되어 있다. 또한, 이들 위에, 격벽(8), 홀 수송층(9), 유기 발광층(10)(이하, 간단히 발광층이라고 한다), 음극층(11)이 형성되고, 유기 EL 소자(20a, 20b, 20c)가 형성되어 있다.
또한, 도 1에 있어서, Z축 방향의 최상부에, 절단면의 안쪽에 있는 격벽(8)의 측면이 흰색으로 나타나 있다(도 3등도 마찬가지이다). 또한, 도 2에서는, 홀 수송층(9), 발광층(10), 음극층(11)은 나타내지 않는다.
기판(1)은, 표시 패널(100)의 베이스 부분이 되는 기판이며, 무알칼리 유리, 소다 유리, 무형광 유리, 인산계 유리, 붕산계 유리, 석영, 아크릴계 수지, 스틸렌계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 에폭시계 수지, 폴리에틸렌, 폴리에스테르, 실리콘계 수지, 또는 알루미나 등의 절연성 재료로 형성되어 있다.
TFT층(2)은, 패널 전체의 각 유기 EL 소자(20a~20c)를 액티브 매트릭스 방식으로 구동하기 위한 TFT(박막 트랜지스터) 및 배선 등으로 이루어진다. 또한 도 1에 있어서, TFT층(2)을 2점 쇄선으로 모식적으로 나타내고, TFT의 소스 전극 또는 드레인 전극에 접속된 SD 전극(22)을 대표적으로 도시하고 있다.
층간 절연막(3)은, 절연성이 뛰어난 유기 재료, 예를 들면 폴리이미드, 폴리아미드, 아크릴계 수지 재료로 이루어지고, 기판(1)의 상기 TFT층(2)을 전체적으로 피복하고 있다.
이 층간 절연막(3)에는, 각 유기 EL 소자(20a, 20b, 20c)마다, 각각 두께 방향(Z방향)으로 파내려간 컨택트 홀(13a, 13b, 13c)이 형성되어 있다(도 1, 도 3 참조). 컨택트 홀(13)은, 층간 절연막(3)의 상면측 및 하면측의 양측에 개구한 원형의 구멍이다. 각 컨택트 홀(13a, 13b, 13c)을 구별하지 않고, 간단히 컨택트 홀(13)로 기재하는 경우가 있다. 또한, 컨택트 홀(13)의 단면 형상(XY 평면에 평행한 단면의 형상)에는, 원형 이외에, 타원형, 직사각형 등의 형상을 채용해도 된다.
또한, 컨택트 홀(13) 내에는, 그 내부 형상에 추종하여 양극판(5), 화소 규제층(6), 및 홀 주입층(7)이 오목하게 들어가 적층되는 결과, 홀 주입층(7)에, 컨택트 홀(13)과 유사한 형상의 오목부(15)가 형성된다. 도 2에서는, 컨택트 홀(13)이 오목부(15)의 아래에 가려져 있기 때문에, 파선의 인출선을 이용하여 컨택트 홀(13)에 부호를 붙이고 있다(도 3(a)도 동일하다).
다음에, 도 3(a)~(c)를 참조하면서, 상기 표시 패널(100)의 구성을 상세하게 설명한다. 도 3(a)는 표시 패널(100)의 개략 구성을 나타내는 평면도, 도 3(b)는 도 3(a)의 A-A’선으로 절단한 단면, 도 3(c)는 도 3(a)의 B-B’선으로 절단 한 단면이다. 또한, 도 3에 있어서도, 홀 수송층(9), 발광층(10), 음극층(11)은 나타내지 않는다.
도 3(b), (c)에 나타내는 바와 같이, 층간 절연막(3)은, 상면의 대부분이 평탄면인데, 컨택트 홀(13)이 형성된 개소는 움푹 들어가 있다.
도 3(a)에 나타내는 바와 같이, 컨택트 홀(13)은, 유기 EL 소자(20)와 동일하게 행렬상으로 배열되어 있다. 그리고, 컨택트 홀(13)은, 가로 방향(X 방향)에 있어서 근접하여 배열되고, 세로 방향(Y방향)에 있어서 소정의 이간 거리에서 등 피치로 배열되어 있다.
도 3(b)에 나타내는 바와 같이, 각 색에 대응하는 컨택트 홀(13a, 13b, 13c)의 상면적이 실질적으로 동일하게 되어 있다(상면적에 대해서는 후에 상술한다). 그 한편으로, 3개의 컨택트 홀(13a, 13b, 13c)은, 형상 및 용적이 상이하다. 구체적으로는, 컨택트 홀(13a)은, 단차가 없고, 층간 절연막(3)의 하면(SD 전극측)에 근접함에 따라 단면이 연속적으로 좁아지는 형상을 하고 있다. 한편, 컨택트 홀(13b, c)은, 단차면(14)을 가지고 있고, 층간 절연막(3)의 하면에 근접함에 따라 단면이 단계적으로 좁아지는 형상을 하고 있다.
컨택트 홀(13b, c)은, 하단 부분(단차면(14)보다도 하측의 부분)에 있어서, 컨택트 홀(13a)보다도 직경이 작고, 전체적으로 용적이 작게 되어 있다. 또한, 컨택트 홀(13c)은, 컨택트 홀(13b)보다도 용적이 작게 되어 있다.
즉, 청색 녹색 적색의 각 색에 대응하는 컨택트 홀(13a, 13b, 13c)의 용적(체적)은, 청색에 대응하는 컨택트 홀(13a)의 용적이 가장 크게 설정되고, 적색에 대응하는 컨택트 홀(13c)의 용적이 가장 작게 설정되어 있다. 이 때문에, 청색의 소자 형성 영역에 형성되는 오목부(15a)의 용적이 가장 크고, 적색의 소자 형성 영역에 형성되는 오목부(15c)의 용적이 가장 작게 되어 있다.
양극판(5)(5a~5c)은, 전극판의 일예이며, 평면에서 봐서 직사각형 형상을 이루고 있다. 양극판(5)은, 층간 절연막(3) 상에 있어서, 각 유기 EL 소자(20)의 소자 형성 영역(서브 픽셀 영역 및 컨택트 홀(13) 상의 영역)에 형성되어 있다. 각 양극판(5)은, 사이즈가 동일하게 되고, 세로 방향(Y방향) 및 가로 방향(X방향)에 있어서, 다른 양극판(5)과 소정 거리 이간된 상태로 행렬형상으로 배열되어 있다.
양극판(5)에는, 도 3(b), (c)에 나타내는 바와 같이, 그 일부가 컨택트 홀(13)의 내면을 따라 오목하게 들어감으로써, 컨택트 홀(13)과 유사 형상의 오목부(23)가 형성되어 있다. 그리고, 양극판(5)은, 오목부(23)의 저벽 부분에 있어서, TFT층(2)의 SD 전극(22)과 전기적으로 접속되어 있다.
이 양극판(5)을 형성하는 재료는, 광 반사성인 것이 바람직하고, 예를 들면, 은―팔라듐―구리의 합금, Ag(은), 은―루비듐―금의 합금, MoCr(몰리브덴과 크롬의 합금), NiCr(니켈과 크롬의 합금), 알루미늄, 알루미늄 합금 등의 금속 재료가 이용된다. 또한, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(In203-ZnO), ZnO, InO, SnO 등의 반도체 재료를 이용해도 된다. 또한, 상기 금속 재료막 상에 상기 반도체 재료막을 적층하여 양극판(5)을 형성해도 된다.
화소 규제층(6)은, 가로 방향(X방향)으로 연장하여 설치된 전기 절연성의 막이며, 양극판(5)의 세로 방향(Y방향)에 있어서의 단부나, 오목부(23)를 피복하고 있다.
이 화소 규제층(6)이 형성된 개소는, 양극판(5)과 음극층(11)의 사이의 전기적 도통이 차단되고, 유기 EL 소자(20)에 구동 전압이 인가되어도 발광하지 않도록 되어 있다. 따라서, 이 화소 규제층(6)에 의해, 세로 방향(Y 방향)으로 배열되는 복수의 서브 픽셀이 구획되어 있다. 또한, 각 화소 규제층(6)은, 세로 방향(Y방향)에 있어서, 복수의 서브 픽셀의 사이즈가 균등하게 되도록, 등폭으로 되고, 등 피치로 배치되어 있다.
또한, 화소 규제층(6)에 의해, 양극판(5)의 상기 단부나 오목부(23)를 피복함으로써, 하기의 휘도 편차의 발생이나, 양극판(5)과 음극층(11)의 사이의 쇼트의 발생을 방지할 수 있다. 구체적으로는, 양극판(5)의 상기 단부나 오목부(23)의 개구 가장자리 위쪽에 있어서 발광층(10)의 막 두께가 얇아지고, 국소적으로 전류가 집중하면, 국소적으로 휘도가 커져 휘도 편차가 발생한다. 또한, 양극판(5)의 상기 단부나 오목부(23)의 개구 가장자리 위쪽에 있어서, 발광층(10)이나 그 외의 층이 도중에 끊겨 있으면 양극판(5)과 음극층(11)의 사이에서 쇼트가 발생하는 경우가 있다.
화소 규제층(6)은, 실리콘옥사이드(SiO2), 실리콘 나이트 라이드(SiN), 실리콘 옥시나이트 라이드(SiON) 등에 의해 형성된 절연성 무기막이다. 그 두께는 100㎚~300㎚ 정도이다.
홀 주입층(7)(7a~7c)은, 양극판(5) 및 화소 규제층(6) 상에 몰리브덴이나 텅스텐 등의 산화물이 적층되어 형성되어 있다.
또한, 홀 주입층(7)은, 컨택트 홀(13) 상의 영역에 있어서, 화소 규제층(6)과 함께 양극판(5)의 오목부(23)에 오목하게 들어가고, 오목부(23)와 유사 형상의 오목부(15)를 형성하고 있다. 또한, 오목부(23)의 크기(직경이나 깊이 치수)에 비해, 화소 규제층(6)이나 홀 주입층(7)의 막 두께가 훨씬 작기 때문에, 홀 주입층(7)에 형성된 오목부(15)의 용적과, 양극판(5)에 형성된 오목부(23)의 용적은, 대략 같다.
격벽(8)(8a~8c)은, 절연성의 유기 재료(예를 들면 아크릴계 수지, 폴리이미드계 수지, 노볼락형 페놀 수지 등)로 이루어지고, 적어도 표면이 발액성을 가지도록 형성되어 있다. 각 격벽(8a, 8b, 8c)은 세로 방향(Y방향)으로 긴 라인 형상의 형상을 이루고 있고, 가로 방향(X방향)에 연속하여 배열되는 유기 EL 소자(20a, 20b, 20c)끼리의 사이를 통과하도록 가로 방향(X 방향)으로 등 피치로 형성되어 있다. 각 격벽(8a, 8b, 8c)의 단면 형상은 사다리꼴이며, 각 격벽폭(X방향의 치수)은 균일하다.
홀 수송층(9)(9a~9c)은, 상기 유기 기능층의 일예이며, 인접하는 격벽(8)끼리의 사이에 끼워진 영역에, 홀 주입층(7)을 덮도록 형성되어 있다. 그리고, 각 홀 수송층(9)은, 화소 규제층(6) 상에 있어서 상기 오목부(15)에 부분적으로 들어가 있다. 홀 수송층(9)은, 세로 방향(Y방향)에 연속하여 형성되어 있다.
또한, 후술하는 바와 같이, 각 색에 대응하는 컨택트 홀(13a, 13b, 13c)의 용적의 차이에 따라 오목부(15)의 용적이 다르기 때문에, 발광 영역 등에 있어서의 홀 수송층(9)의 막 두께가 상이하다.
여기서, 격벽(8a)과 격벽(8b)의 사이에는, 청색에 대응하는 홀 수송층(9a)이 형성되고, 격벽(8b)과 격벽(8c)의 사이에는, 녹색에 대응하는 홀 수송층(9b)이 형성되고, 격벽(8c)과 격벽(8a)의 사이에는, 적색에 대응하는 홀 수송층(9c)이 형성되어 있다.
또한, 발광층(10)(10a~10c)은, 인접하는 격벽(8)끼리의 사이에 끼워진 영역에 있어서, 홀 수송층(9)의 위에 형성되어 있다. 그리고, 각 발광층(10)은, 각 홀 수송층(9)과 함께 상기 오목부(15)에 부분적으로 들어가 있다.
여기서, 홀 수송층(9a)의 위쪽에 청색의 광을 발광하는 발광층(10a)이 형성되고, 홀 수송층(9b)의 위쪽에 녹색의 광을 발광하는 발광층(10b)이 형성되고, 홀 수송층(9c)의 위쪽에 적색의 광을 발광하는 발광층(10c)이 형성된다.
홀 수송층(9)은, 정공 이동도가 뛰어난 재료로 이루어지고, 발광층(10)에 홀을 수송한다. 홀 수송층(9)을 형성하는 재료의 구체적인 예로는, 4, 4’―비스[N―(나프틸)―N―페닐-아미노]비페닐(α―NPB 또는α―NPD), N, N’―비스(3―메틸페닐)―(1, 1’―비페닐)―4, 4’―디아민(TPD) 등의 트리아릴아민계 화합물을 들 수 있다. 그 외의 예로서, 비페닐 유도체, 안트라센 유도체, 아닐린 유도체, 티오펜 유도체 등이 있다.
또한, 양극판(5), 홀 주입층(7), 홀 수송층(9)은, 3색의 유기 EL 소자(20a, 20b, 20c)로 공통의 재료가 이용되고 있는데, 발광층(10)은, 3색의 유기 EL 소자(20a, 20b, 20c)에서 따로 따로, 청색, 녹색, 적색의 광을 발하는 발광 재료로 형성되어 있다.
발광층(10)의 재료로는, 예를 들면, 일본국 특개평 5-163488호 공보에 기재된 옥시노이드 화합물, 페릴렌 화합물, 쿠마린 화합물, 아자쿠마린 화합물, 옥사졸 화합물, 옥사디아졸 화합물, 페리논 화합물, 피롤로피롤 화합물, 나프탈렌 화합물, 안트라센 화합물, 플루올렌 화합물, 플루오란텐 화합물, 테트라센 화합물, 피렌 화합물, 코로넨 화합물, 퀴놀론 화합물 및 아자퀴놀론 화합물, 피라졸린 유도체 및 피라졸론 유도체, 로다민 화합물, 크리센 화합물, 페난트렌 화합물, 시클로펜타디엔 화합물, 스틸벤 화합물, 디페닐퀴논 화합물, 스티릴 화합물, 부타디엔 화합물, 디시아노메틸렌피란 화합물, 디시아노메틸렌티오피란 화합물, 플루올레세인 화합물, 피릴륨 화합물, 티아피릴륨 화합물, 세레나피릴륨 화합물, 테룰로피릴륨 화합물, 방향족 아르다디엔 화합물, 올리고페닐렌 화합물, 티옥산텐 화합물, 안스라센 화합물, 시아닌 화합물, 아크리딘 화합물, 8―하이드록시퀴놀린 화합물의 금속 착체, 2―비피리딘 화합물의 금속 착체, 시프염과 Ⅲ족 금속의 착체, 옥신 금속 착체, 희토류 착체 등의 형광 물질 등을 들 수 있다.
음극층(11)은, 대향 전극의 일예이며, 3색의 유기 EL 소자(20a, 20b, 20c)의 발광층(10)을 일괄하여 덮도록 형성되어 있다. 음극층(11)은, 광 투과성의 재료, 예를 들면 ITO, IZO(산화인듐아연) 등으로 형성된다.
또한, 도시는 하지 않지만, 음극층(11)의 위에는, 밀봉층이 설치된다. 이 밀봉층은, 예를 들면 SiN(질화실리콘), SiON(산질화실리콘) 등의 광 투과성 재료로 형성된다.
이러한 표시 패널(100)에 있어서, 상기와 같이 격벽(8)의 피치 및 격벽폭은 균등하고, 화소 규제층(6)의 피치 및 폭도 균등하므로, 격벽(8) 및 화소 규제층(6)으로 둘러싸인 서브 픽셀의 사이즈는 균등하다.
본 실시의 형태에 있어서, 도 3에 나타내는 바와 같이, 표시 패널(100)에 있어서, 복수의 청색용의 양극판(5a)이 세로 방향(Y방향) 라인 형상으로 배열되어 제1 양극판군(제1 전극판군의 일예이다)이 형성되어 있다. 당해 제1 양극판군에 인접하여, 복수의 녹색용 양극판(5b)이 세로 방향(Y방향) 라인 형상으로 배열되어 제2 양극판군(제2 전극판군의 일예이다)이 형성되어 있다. 당해 제2 양극판군에 인접하여 복수의 적색용 양극판(5c)이 세로 방향(Y방향) 라인 형상으로 배열되어 제3 양극판군(제3 전극판군의 일예이다)이 형성되어 있다.
여기서, 도 3(a)에 있어서, 각 양극판군의 전체적인 형상은 세로 방향(Y방향)으로 가늘고 긴 장방형을 하고 있고, 각 양극판군은 좌우 합해 2개의 장변 부분을 가지고 있다. 그리고, 제1 양극판군의 한쪽(좌측)의 장변 부분을 따라 제1 격벽(격벽(8a))이 형성되고, 제1 양극판군의 다른 쪽(우측)의 장변 부분과 제2 양극판군의 한쪽(좌측)의 장변 부분의 사이에 제2 격벽(격벽(8b))이 형성되고, 제2 양극판군의 다른 쪽(우측)의 장변 부분과 상기 제3 양극판군의 한쪽(좌측)의 장변 부분의 사이에 제3 격벽(격벽(8c))이 형성되고, 상기 제3 전극판군의 다른 쪽(우측)의 장변 부분을 따라 제4 격벽(격벽(8a))이 형성되어 있다. 또한, 제4 격벽(격벽(8a))은, 인접하는 화소에 있어서의 제1 격벽(격벽(8a))이 된다.
(표시 패널(100)의 제조 방법)
우선, 표시 패널(100)의 제조 방법의 주요 부분에 대해서, 도 4를 참조하면서 그 일예를 설명한다.
TFT 기판을 제작하는 공정에 대해서 설명한다.
표시 패널(100)의 사이즈에 따른 기판(1)을 준비한다. 또한, 표시 패널(100)의 몇배의 크기의 기판을 준비하고, 복수의 표시 패널(100)의 제조를 동시에 진행해도 된다.
TFT층 형성 공정:
기판(1) 상에, 공지의 제조 방법(예를 들면, 일본국 특허공개 2003-241683호 공보, 일본국 특허공개 2008-300611호 공보 등에 기재)에 의해, TFT 및 배선, SD 전극(22)으로 이루어지는 TFT층(2)을 형성한다(도 4(a)). 예를 들면, 스퍼터링법이나 CVD법(화학 기상 성막법) 등에 의해, TFT, SD 전극(22), 배선 등이 형성된다.
TFT의 형성에 있어서, 게이트 전극, 게이트 절연막, 소스, 드레인, 채널층 등이 형성된다. SD 전극(22)은, 소스 및 드레인 중 어느 한쪽에 전기적으로 접속하여 형성되어 있다. 배선은, 예를 들면, Y방향으로 연장하여 설치된 복수의 신호용 배선이나, X방향으로 연장하여 설치된 복수의 주사용 배선이 형성되고, 각 TFT와 접속된다. 또한, TFT는, 게이트 전극이 소스, 드레인 등보다도 위쪽에 형성된 탑 게이트형으로 해도 되고, 게이트 전극이 소스, 드레인 등보다도 아래쪽에 형성된 보텀 게이트형으로 해도 된다.
층간 절연막을 형성하는 공정에 대해서 설명한다.
층간 절연막 형성 공정:
상기 TFT층(2) 상에, 포지티브형의 감광성 유기 재료로 이루어지는 레지스트막(26)을 도포한 후, 그 레지스트막(26)의 SD 전극(22) 상에 위치하는 부분에 컨택트 홀(13)을 형성한다.
레지스트막(26)은, 스핀 코팅법 등의 액층 성막법에 의해 도포되고, T FT층(2) 상의 요철이 메워짐으로써 표면이 평탄화된다. 또한, 딥 코팅법, 슬릿 코팅법, 스프레이 코팅법, 롤 코팅법, 다이코팅법 등의 액층 성막법에 의해 도포할 수도 있다.
컨택트 홀(13)의 형성에는 포토리소그래피법이 이용된다. 콘택트 홀(13b, 13c)에는, 각각 단차면(14b, 14c)의 상하에 상단 부분과 하단 부분이 형성되어 있다(도 5 참조). 이는, 노광 및 현상 처리에 있어서, 상단 부분과 하단 부분을, 2회로 나누어 별개로 형성한다. 예를 들면, 최초의 노광 및 현상 처리에 의해 개구 직경이 큰 상단 부분을 형성한 후, 다시 노광 및 현상 처리에 의해 개구 직경이 작은 하단 부분을 형성한다.
또한, 멀티 톤 마스크를 이용하여 1회의 노광 및 현상 처리로, 콘택트 홀(13b, 13c)을 형성할 수도 있다. 이 방법에 대해서, 도 5(a), (b)를 이용하여 설명한다. 도 5(a), (b)는, 포트리소그래피법을 이용하여 컨택트 홀(13)을 형성하는 처리를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
노광 처리에 이용되는 멀티 톤 마스크(30)는, 광을 투과시키는 투광부(31)와, 투과광을 약하게 하는 반투광부(32)와, 광을 차단하는 차광부(33)로 이루어진다. 반투광부(32)는, 노광기의 해상도보다도 충분히 미세한 패턴을 배치하고, 단위 면적당 배치하는 미세 패턴의 수를 조절하여 투과율을 조절한 것이나, 소정의 투과율을 가진 막을 더 적층하여 투과율을 조절한 것 등이 있고, 이러한 반투광부(32)에 의해 중간 노광을 실현하고 있다. 특히, RGB마다 컨택트 홀(13)의 용적을 다르게 하는 경우의 멀티 톤 마스크(30)는, 노광기의 해상도보다도 충분히 미세한 패턴을 배치하고, 단위 면적당 배치하는 미세 패턴의 수를 조절하여 투과율을 조절한 것이, 적합하다.
각 컨택트 홀(13)을 형성하기 위해서, 각 투광부(31a, 31b, 31c)의 개구 직경은, 컨택트 홀(13a, 13b, 13c)의 하측 개구부(35a, 35b, 35c)(기판(1)측의 개구, 혹은 저면)의 직경과 대략 같게 되어 있다. 또한, 각 반투광부(32b, 32c)의 외경은, 컨택트 홀(13b, 13c)의 단차면(14b, 14c)(상단 부분의 저면에 상당한다)의 외경과 대략 동일하게 되어 있다. 그리고, 멀티 톤 마스크(30)에 있어서, 투광부(31) 및 반투광부(32) 이외의 부분은 차광부(33)로 되어 있다.
투광부(31)는 광의 투과율이 높고, 레지스트막(26) 중, 투광부(31)를 투과한 광이 조사된 부분은, 현상 처리 후에 레지스트막(26)의 하면측에 개구한다. 한편, 반투광부(32)에서는 조사광이 약해지므로, 반투광부(32)를 투과한 광이 조사된 부분은, 현상 처리 후에 상부가 제거되어 단차면(14b, 14c)이 형성된다. 상기 멀티 톤 마스크(30)에 의한 노광에 의해, 도 5(a)에 있어서 2점 쇄선(36a, 36b, 36c)에 의해 모식적으로 나타내는 범위가 감광하고, 현상 처리에 있어서 용해한다. 또한, 투광부(31) 및 반투광부(32)를 투과한 광은 회절에 의해 확산되므로, 레지스트막(26)에 있어서, 투광부(31) 및 반투광부(32)보다도 넓은 부분도 다소 노광되어, 컨택트 홀(13)의 측면이 경사면이 된다.
이 외에, 상면이 평탄면으로 된 절연막을 형성한 후, 컨택트 홀(13)을 형성하고자 하는 부분을 에칭으로 제거하는 방법에 의해서도, 컨택트 홀(13)을 형성할 수도 있다.
구체적으로 설명한다. 절연막 상에 포토레지스트를 겹쳐 도포하고, 그 위에, 형성하고자 하는 컨택트 홀(13)에 맞춘 패턴 마스크를 겹친다. 또한, 단차를 가지는 컨택트 홀(13b, 13c)에 대해서는, 상단 부분용 패턴 마스크와, 하단 부분용 패턴 마스크가 필요하다.
한편, 단차를 가지지 않는 컨택트 홀(13a)에 대해서는, 컨택트 홀(13b, 13c)의 하단 부분용 패턴 마스크와 공용할 수 있다.
이어서 패턴 마스크의 위로부터 감광한 후, 포토레지스트의 감광 부분(혹은 비감광 부분)을 현상 처리에 의해 제거함으로써, 레지스트 패턴을 형성한다. 그 후, 절연막 중 레지스트 패턴의 개구 부분에 노출된 부분을, 예를 들면, 웨트 에칭(드라이 에칭이어도 된다)에 의해 제거함으로써, 절연막에 상단 부분(하단 부분, 컨택트 홀(13a))이 형성된다. 이러한 노광 및 현상 처리를 2회 행함으로써도 절연막을 패터닝하여, 층간 절연막(3)을 형성할 수 있다.
이하에, 각 색의 유기 EL 소자를 형성하는 공정에 대해서 설명한다.
양극판 형성 공정:
스퍼터링법에 의해, 층간 절연막(3)의 위에, 금속 재료(은, 팔라듐 및 구리의 합금)를 두께 100~200㎚ 정도로 박막 성형하고, 금속 재료막 상에 반도체 재료(IZO)를 두께 90㎚ 정도로 박막 성형한다.
그 후, 포토리소그래피법에 의해, 행렬형상으로 배열되는 평면에서 봐서 직사각형의 양극판(5)이 형성된다. 구체적으로는, 반도체 재료막 상에 레지스트막을 형성하고, 직사각형의 양극판 형상이 행렬형상으로 배열되어 형성된 마스크 패턴을 이용하여 레지스트막을 노광 후, TMAH(수산화테트라메틸암모늄)에 의해 노광 부분을 용해 제거하여 현상한다. 또한, 웨트 에칭(예를 들면, 인산, 질산, 아세트산의 수용액)에 의해, 금속 재료막 및 반도체 재료막 중 레지스트막에 의해 피복되어 있지 않은 격자형상의 부분을 제거하여 패터닝함으로써, 직사각형의 양극판(5)을 형성한다.
이 때 양극판(5)은, 컨택트 홀(13)의 내면에도 형성되므로, 양극판(5)은 컨택트 홀(13)의 내면을 따라 오목하게 들어가고, 양극판(5)에 오목부(23)가 형성된다. 오목부(23)의 저벽 부분은, 컨택트 홀(13)의 하측의 개구를 통하여, SD 전극(22)에 면 접촉하여 전기 접속된다(도 4(c)).
화소 규제층 형성 공정:
다음에, CVD법에 의해, SiON을 100~300㎚의 두께로 성막한다. 그 후, 포토리소그래피법을 이용하여, 드라이 에칭으로 패터닝함으로써, 화소 규제층(6)을 형성한다(도 4(e)).
홀 주입층 형성 공정:다음에, 양극판(5) 및 화소 규제층(6)의 위에, 산화몰리브덴이나 산화 텅스텐 등의 산화 금속막을 반응성 스퍼터법으로 성막함으로써, 홀 주입층(7)을 형성한다(도 4(d)).
화소 규제층(6) 및 홀 주입층(7)도, 양극판(5)을 따라 부분적으로 오목부(23a, 23b, 23c)내에 오목하게 들어간 형태로 된다. 그 결과, 홀 주입층(7)에 오목부(15a~15c)가 형성된다. 또한, 화소 규제층(6) 및 홀 주입층(7)은, 서브 픽셀에 있어서의 막 두께와, 오목부(23)에 있어서의 막 두께가 동일한 정도로 된다.
격벽 형성 공정:
다음에, 격벽 재료로서, 예를 들면 감광성의 레지스트 재료, 혹은 불소계나 아크릴계 재료를 함유하는 레지스트 재료를, 층간 절연막(3) 상에 도포하고, 포토리소그래피법으로 패터닝함으로써 격벽(8a, 8b, 8c)을 형성한다(도 4(f)).
또한, 이 격벽 형성 공정에서는, 다음의 공정에서 도포되는 잉크에 대한 발액성을 부여하기 위해서, 격벽(8)의 표면을 알칼리성 용액이나 물, 유기용매 등에 의해 표면 처리하거나, 플라즈마 처리를 실시해도 된다.
홀 수송층 형성 공정:
다음에, 홀 수송층(9)을, 잉크젯 방식(잉크젯식 도포 방법)으로 형성한다(도 4(g)).
즉, 홀 수송층 재료인 유기 재료와 용매를 소정 비율로 혼합하여 홀 수송층용의 잉크를 제작하고, 그 잉크를, 인접하는 격벽(8)끼리의 사이에 도포한다. 즉, 공지의 잉크젯 방식에 의해, 제1 격벽인 격벽(8a)과 제2 격벽인 격벽(8b)의 사이, 제2 격벽인 격벽(8b)과 제3 격벽인 격벽(8c)의 사이, 제3 격벽인 격벽(8c)과 제4 격벽인 격벽(8a)의 사이의 영역을 따라, 잉크를 도포한다.
도 6은, 잉크젯 방식으로, 기판 상에 홀 수송층 형성용의 잉크를 도포한 직후의 모습을 나타내는 단면 모식도이다. 또한, 도 6에 있어서, 홀 주입층(7)의 도시가 생략되어 있다.
당 도면에 있어서 각 화살표는, 잉크젯 장치의 노즐로부터, 각 소자 형성 영역에 있어서 소정의 복수 개소에 잉크를 적하하는 것을 나타내고 있다. 즉, 각 소자 형성 영역에 적하되는 액적수(예를 들면, 8적) 및, 각 소자 형성 영역에 있어서의 액적이 적하되는 복수의 개소가 동일하게 되어 있다. 이에 따라, 도포된 잉크는, 홀 주입층(7)의 위를 전체적으로 피복하고, 컨택트 홀(13)의 존재에 의해 형성된 오목부(15)의 안으로도 들어간다.
여기서, 노즐로부터 토출하는 각 잉크 액적의 양은 일정하므로, 복수의 소자 형성 영역에 대해서, 잉크의 도포량이 균일하게 된다. 즉, 각 양극판(5) 위쪽에 도포되는 잉크량도 동등하고, 그 편차는 5% 이내이다.
또한, 홀 수송층(9)을 형성하는 잉크를 뱅크간에 충전하는 방법으로서, 이 외에, 디스펜서법, 노즐 코팅법, 인쇄법 등을 이용해도 되고, 어떠한 방법이나, 각 양극판(5) 및 홀 주입층(7)의 위에 도포하는 잉크의 양은, 모든 색의 서브 픽셀에서 동등하다.
이와 같이 형성된 잉크층을 건조시킴으로써 홀 수송층(9)이 형성된다.
발광층 형성 공정:
홀 수송층(9)의 위에, 잉크젯 방식으로 발광층(10)을 형성한다. 이 공정은, 상기 홀 수송층 형성 공정과 동일하고, 발광층 형성용 유기 발광 재료를 용해시킨 잉크를, 인접하는 격벽(8)끼리의 사이에 도포하고, 건조시킴으로써 형성하는데, 이용하는 유기 발광 재료가 발광색마다 상이하다.
또한, 홀 수송층(9)의 위에, 예를 들면, 진공 증착법에 의해 저분자계 유기 발광 재료로 이루어지는 발광층(10)을 형성할 수도 있다. 또한, 발광층(10)을 형성하는 잉크를 뱅크간에 충전하는 방법으로서, 이 외에, 디스펜서법, 노즐 코팅법, 인쇄법 등을 이용해도 된다.
음극층 형성 공정 등;
다음에, 발광층(10)의 표면 상에, ITO, IZO 등의 재료를, 스퍼터링법, 혹은 진공 증착법으로 성막한다. 이에 따라 음극층(11)을 형성한다. 또한, 음극층(11)의 표면 상에, SiN(질화실리콘), SiON(산질화실리콘) 등의 재료를 스퍼터링법, 혹은 진공 증착법으로 성막함으로써, 밀봉층을 형성한다.
이상의 공정에 의해, 모든 유기 EL 소자(20a~20c)가 형성되고, 표시 패널(100)이 완성된다.
(컨택트 홀(13) 및 오목부(15)의 용적과 홀 수송층(9)의 막 두께에 대해서)
표시 패널(100)에 있어서, 컨택트 홀(13)의 용적은, 청색에 대응하는 컨택트 홀(13a)이 가장 크고, 적색에 대응하는 컨택트 홀(13c)이 가장 작게 설정되어 있다(13a>13b>13c). 따라서, 오목부(15)의 용적은, 컨택트 홀(13a) 위쪽에 형성된 오목부(15a)가 가장 크고, 컨택트 홀(13c) 위쪽에 형성된 오목부(15c)가 가장 작아진다(15a>15b>15c). 각 색에 대응하는 홀 수송층(9a, 9b, 9c)은, 각 양극판(5) 위쪽의 영역에 있서어 서로 동일한 체적으로 되어 있는데, 오목부(15a, 15b, 15c)로 들어가는 체적(양)이 상이하다.
그 결과, 청색 서브 픽셀의 홀 수송층(9a)의 막 두께(양극판(5) 상의 영역에 있어서의 오목부(15) 이외의 영역에서의 막 두께)가 가장 얇아져, 녹색 서브 픽셀의 홀 수송층(9b)의 막 두께는 중간적 두께로 되고, 적색 서브 픽셀의 홀 수송층(9c)의 막 두께가 가장 두꺼워진다.
이와 같이, 각 오목부(15a, 15b, 15c)의 용적을 다르게 함으로써, 각 홀 수송층(9a, 9b, 9c)의 막 두께차를 미세 조절할 수 있다. 따라서, 표시 패널(100)에 있어서는, 서브 픽셀의 색마다, 홀 수송층(9)의 막 두께를, 발광색의 파장에 맞는 적절한 값으로 설정하는 것이 용이하다.
이하에, 양극판(5)의 위쪽에 형성된 오목부(15)의 용적과 홀 수송층(9)의 막 두께의 관계에 대해서 상세하게 고찰한다. 또한, 오목부(15)는, 엄밀하게 말하면, 양극판(5)에 형성된 오목부(23)에 오목하게 들어간 홀 주입층(7)이, 오목부(23)의 형상을 따라 오목하게 들어감으로써 형성되어 있다. 그리고, 화소 규제층(6)이나 홀 주입층(7)은, CVD나 스퍼터법으로 형성되어 있으므로, 오목부(15)의 형상은 오목부(23)와 매우 유사한 형상이 된다. 또한, 오목부(23)의 크기(직경 및 깊이)와 비교해 홀 주입층(7) 등의 막 두께는 훨씬 더 작고, 오목부(23)의 용적에 대한 영향은 작다.
이상과 같은 사정에서, 오목부(23)와 오목부(15)를 동일시해도 특별히 문제는 없다. 따라서, 정확하게는, 제1, 제2, 제3 오목부는, 각각 오목부(23a, 23b, 23c)에 의해 구성되어 있지만, 편의적으로, 제1, 제2, 제3 오목부를, 각각 오목부(15a, 15b, 15c)가 구성해 있다고 생각해도 된다.
또한, 양극판(5)의 세로 방향(Y방향)의 길이와 비교해, 세로 방향에 인접하는 양극판(5)간의 간극은 매우 작기 때문에, 간극을 고려하지 않고 계산을 행하는 것으로 한다. 또한, 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9)의 막 두께를, 간단히 홀 수송층(9)의 막 두께로 기재하는 것으로 한다.
1개의 소자 형성 영역에서, 양극판(5) 상의 잉크 도포 영역(도 3(a)에 있어서 부호 5로 표시하는 영역)의 면적을 S, 중간층용의 잉크의 용질 농도를 N으로 한다. 또한, 1개의 잉크 도포 영역에 도포되는 잉크(도 6중의 사선 영역 C)의 도포량을 VO, 양극판(5) 상에 형성되는 오목부(15)의 용적을 V1(각 색에 대응하는 오목부(15a, 15b, 15c)의 용적을, 각각 V1a, V1b, V1c)으로 한다.
도 7(a), (b), (c)는, 각각, 잉크 도포 영역에 잉크가 도포된 상태(좌측)와, 잉크가 건조한 상태(우측)를, 도 6보다도 대폭 간략화하여 나타내는 모식도이다. 이하에는, 잉크 도포 영역, 오목부(15) 등을 도 7에 나타내는 단순한 모델로 하여, 오목부(15)의 용적과 홀 수송층(9)의 막 두께의 관계에 대해서 고찰한다. 또한, 도 7에 있어서, 양극판(5), 화소 규제층(6) 등의 도시가 생략되어 있다.
(1) 오목부의 유무에 의한 홀 수송층(9)의 막 두께의 차이에 대해서
우선, 오목부(15)의 용적과 홀 수송층(9)의 막 두께의 관계에 대해서 기술한다.
도 7(a)에, 오목부(15)가 형성되어 있지 않다고 가정한 경우에 있어서의 잉크의 건조 전후의 상태를 나타낸다. 만일 양극판(5)의 상면 전체가 평탄하고, 오목부가 없다고 하면, 양극판(5)의 위쪽에 도포되는 잉크층의 가상 높이(H0)는, 도포량(V0)을 면적(S)으로 나누어 얻어진다.
H0=V0/S…(1-1)
건조 후에 형성되는 홀 수송층(9)의 가상 막 두께(h0)는, 잉크층의 가상 높이(H0)에 용질 농도(N)를 곱해 구한다.
h0=N·H0
=N·V0/S…(1-2)
한편, 도 7(b), (c)에, 오목부(15)가 형성되어 있는 경우에 있어서의 잉크의 건조 전후 상태를 나타낸다. 또한, 당 도면에 있어서, 오목부(15) 내에 충전된 잉크가 건조되어 이루어지는 부분과, 오목부(15) 위쪽의 잉크층이 건조되어 이루어지는 부분이 구별되어 나타나 있다. 이에 대해서는, 후에 설명한다.
양극판(5) 위쪽에 오목부(15)(체적(V1))가 형성되어 있는 경우, 도포된 잉크의 일부가 그 오목부(15)에 충전된다. 또한, 도 6중, 사선 영역(D)과 같이 오목부(15)의 전체에 잉크가 충전되는 것으로 한다. 또한, 도포된 잉크의 상면에 다소의 요철이 생기는 경우가 있는데, 평탄하다고 간주하여 개산한다.
그러면, 서브 픽셀에 있어서의 잉크층의 높이(H)는, 잉크의 도포량(VO)으로부터 오목부(15)로의 충전량(V1)만큼 뺀 잉크 잔량(V0-V1)을, 오목부가 없는 양극판 상에 도포한 경우에 있어서의 높이와 동일한 것으로 간주할 수 있다(도 7(b) 참조).
따라서, 잉크층의 높이(H)는, 잉크 잔량(V0-V1)을 면적(S)으로 나누어, 다음 식에 의해 얻을 수 있다.
H=(VO-V1)/S…(1-3)
잉크 건조 후의 홀 수송층(9)의 막 두께(h)는, 잉크층의 높이(H)에, 중간층용의 잉크의 용질 농도(N)를 곱함으로써 구해진다.
h=N·H
=N(VO-V1)/S…(1-4)
도 7의 (a)와 (b)를 비교하면, 잉크가 오목부(15)에 충전됨으로써, 서브 픽셀에 있어서의 잉크층의 높이(H)가, 가상 높이(H0)(도 7(b)에 있어서 직선 J로 표시한다)보다도 작아지는 것을 알 수 있다. 그 결과, 건조 후에 홀 수송층(9)의 막 두께(h)가, 가상 막 두께(h0)보다도 작아진다.
여기서, 양극판(5)에 오목부(15)가 형성되어 있지 않다고 가정한 경우, 전술과 같이 홀 수송층(9)의 가상 막 두께(h0)는, N·V0/S이다. 따라서, 가상 막 두께(h0)와의 비교에 있어서, 오목부(15)의 존재에 의해 홀 수송층(9)의 막 두께(h)가 감소한 양(E)은, 다음 식이 된다.
E=h0-h
=N·V0/S-N(V0-V1)/S
=N·V1/S…(1-5)
즉, 홀 수송층(9)의 가상 막 두께(h0)에 대한 막 두께(h)의 감소량(E)은, 원칙적으로, 오목부(15)의 용적에 의거하여 정해지는 것이다. 따라서, 오목부(15)의 용적(V1)을 크게 하면, 홀 수송층(9)의 막 두께(h)의 가상 막 두께(h0)에 대한 감소량(E)을 크게 할 수 있다.
그리고, 각 색의 오목부(15)의 용적(V1a, V1b, V1c)의 대소는, V1a>V1b>V1c로 되어 있다. 따라서, 예를 들면, 잉크의 도포량(V0) 및 용질 농도(N)를 같게 한 경우, 청색의 서브 픽셀의 홀 수송층(9a)의 막 두께가 가장 얇아지고, 적색의 서브 픽셀의 홀 수송층(9c)의 막 두께가 가장 두꺼워진다.
(2) 각 색에 대응하는 오목부(15)의 용적의 차이와, 홀 수송층(9)의 막 두께의 차에 대해서
도 7(b), (c)에는, 잉크층의 높이(Ha, Hb)와, 홀 수송층(9a, 9b)의 막 두께(ha, hb)를 나타낸다. 또한, 도 7에서는, 간략화를 위해, 양극판(5) 등의 도시를 생략하고, 오목부(15)의 단면 형상을 직사각형으로 하고 있다.
여기서, 상이한 색에 대응하는 오목부(15a, 15b, 15c)간의 용적의 차 ΔV1과, 홀 수송층(9)의 막 두께(ha, hb, hc)의 막 두께차 Δh의 관계에 대해서 기술한다.
또한, 잉크의 도포량(V0) 및 용질 농도(N)는, 각 색의 잉크 도포 영역에서 서로 동일하게 되어 있는 것으로 한다. 이 경우에, 예를 들면, 청색의 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9a)의 막 두께(ha)와, 녹색의 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9b)의 막 두께(hb)의 막 두께차 Δhab는, 다음 식에 의해 얻어진다.
Δhab=ha-hb
= N(V0-V1a)/S-N(V0-V1b)/S
= N(V1b-V1a)/S
=N·ΔV1ab/S…(2-1)
즉, 각 색의 잉크 도포 영역에서 잉크량(V0) 및 용질 농도(N)가 동일한 경우, 상기 막 두께차 Δhab는, 원칙적으로, 청색에 대응하는 오목부(15a)의 용적과, 녹색에 대응하는 오목부(15b)의 용적의 차 ΔV1ab 에 비례하는 것이다. 따라서, 오목부(15a, 15b, 15c) 간의 용적의 차 ΔV1(예를 들면, V1a-V1b)를 조절함으로써, 그 용적의 차 ΔV1에 따라, 각 색에 대응하는 홀 수송층(9)의 막 두께(ha, hb, hc)의 막 두께차 Δh(예를 들면, ha-hb)를 조절할 수 있다. 여기서, 오목부(15a)의 용적(V1a)은, 오목부(15b)의 용적(V1b)보다 크기 때문에, 용적(V1b)으로부터 용적(V1a)를 빼면 음의 값이 되는데, 이는, 막 두께(ha)가 막 두께(hb)보다도 작은 것을 나타내고 있다.
또한, 대응색에 의해 잉크의 도포량(V0)이나 용질 농도(N)가 상이해도, 동일한 원리로 막 두께차 Δh를 조절할 수 있다.
(3) 홀 수송층(9)의 막 두께차의 조절 단위에 대해서
각 오목부(15)의 크기는, 층간 절연막(3)에 형성하는 컨택트 홀(13)의 크기에 따라 규정되어 있고, 후술하는 바와 같이 미세 조절 가능하다. 따라서, 오목부의 체적(V1a, V1b, V1c)은, 잉크 액적 1개의 체적과 비교해, 세세한 단위로 조절할 수 있으므로, 대응색이 상이한 홀 수송층(9)의 막 두께차를 미세 조절할 수 있다.
우선, 비교예로서, 서브 픽셀의 색마다 도포하는 잉크 액적의 적수를 바꾸는 방법으로 막 두께를 조절한 경우에 대해서 설명한다. 각 잉크 도포 영역에 도포하는 잉크의 액적수를 M개로 하면, 잉크 1방울의 체적은, 잉크의 도포량(VO)을 잉크의 액적수(M)로 나눈 값(V0/M)이 된다. 따라서, 각 잉크 도포 영역에 도포하는 잉크 액적의 적수를 1개 증감시킨 경우(예를 들면, M개와 M+1개를 비교한 경우), 형성되는 중간층의 막 두께는 N(V0/M)/S만큼 증감하므로, N(VO/M)/S 단위로 밖에 막 두께차를 조절할 수 없다.
다음에, 본 실시 형태에 의하면, 예를 들면, 오목부(15a, 15b, 15c)간의 용적의 차(예를 들면, V1a-V1b)를, 잉크 1방울의 체적(V0/M)보다도 작은 단위로 조절할 수 있다(예를 들면, 잉크 반 방울분의 체적 V0/2M). 따라서, 홀 수송층(9)의 막 두께차 Δh를, 예를 들면 N(V0/2M)/S로 하고, 잉크 액적수를 1개 증감시킨 경우의 막 두께차보다도 작게 설정할 수 있다. 또한, 홀 수송층(9)의 막 두께차 Δh를, 예를 들면, 잉크 액적수를 n개 증감시킨 경우의 막 두께차보다 크고, 액적수를 n+1개 증감시킨 경우의 막 두께차보다도 작게 설정할 수도 있다.
따라서, 예를 들면, (i) 청색 서브 픽셀의 홀 수송층(9a)의 막 두께(ha)와, 녹색 서브 픽셀의 홀 수송층(9b)의 막 두께(hb)의 막 두께차 Δhab를, (ⅱ) 청색 서브 픽셀에 적하하는 잉크의 액적수를 n개 증가시킨 경우의 홀 수송층(9a)의 막 두께(ha)의 증가분보다도 크고, 또한, 잉크의 액적수를 n+1개 증가시킨 경우의 홀 수송층(9a)의 막 두께(ha)의 증가분보다도 작게 할 수 있다.
(4) 홀 수송층(9) 중의 오목부(15)로 들어간 부분에 대해서
도 7(b), (c)에 나타내는 바와 같이, 오목부(15) 내의 홀 수송층(9)의 막 두께는, 대체로 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9)의 막 두께보다도 두꺼워진다. 이는 오목부(15)에 충전된 잉크에 의한 것이다.
여기서, 도 6의 하측의 도면에 있어서, 오목부(15)로 들어가는 홀 수송층(9)의 양(체적)(v3)은, 직선(E)와 직선(F)의 사이에 끼워진 부분의 체적을 가리킨다. 즉, 오목부(15)로 들어가는 홀 수송층(9)의 양은, 평면에서 봐서 오목부(15)와 동일한 영역에 형성되어 있는 홀 수송층(9)의 양으로 표현할 수 있다.
그리고, 도 7로 되돌아와, 오목부(15)로 들어가는 홀 수송층(9)의 양(체적)(v3)은, 오목부(15) 내에 충전된 제1 잉크 부분(41)(체적 V1)이 건조되어 이루어지는 제1 부분(42)의 체적(v1)과, 잉크층 중의 오목부(15) 위쪽에 위치하는 제2 잉크 부분(43)(체적(V2))이 건조되어 이루어지는 제2 부분(44)의 체적(v2)의 합이 된다.
v3=v1+v2…(3-1)
또한, 체적(v1)과 체적(v2)은, 다음 식으로 나타내진다.
v1= N·V1…(3-2)
v2=N·V2…(3-3)
여기서, 도 7(b), (c)에 나타내는 바와 같이, 오목부(15)로 들어간 홀 수송층(9) 중, 제2 부분(44)의 근원이 되는 제2 잉크 부분(43)은, 서브 픽셀에 있어서의 잉크층의 높이(H)에 따라 변화할 뿐이고, 홀 수송층(9)의 막 두께(h)의 변화에 기여하지 않는다고 생각된다. 또한, 식(1-5)에서도 명백하다.
따라서, 오목부(15)로 들어간 홀 수송층(9)의 체적(v3) 중, 홀 수송층(9)의 막 두께(h)의 변화에 기여하는 것은 제1 부분(42)의 체적(v1)이다. 그리고, 오목부(15)의 용적(V1)이 조절되는 결과, 제1 부분(42)의 체적(v1)이 적절화되어, 홀 수송층(9)의 막 두께(h)를 적절한 것으로 할 수 있다.
또한, 각 색에 대응하는 제1 잉크 부분(41a, 41b)의 용적(V1a, V1b)의 차를 미세 조절함으로써, 제1 부분(42)의 체적(v1a, v1b)의 차가 적절화되고, 각 색의 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9a, 9b, 9c)의 막 두께차가 미세 조절되어 있다.
그러나, 실제로, 오목부(15)로 들어간 홀 수송층(9)을 제1 부분(42)과 제2 부분(44)으로 구별하는 것은 곤란하다. 따라서, 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9)의 양에 의거하여, 제2 부분(44)의 체적(v2)에 상당하는 체적 상당치(v2’)를 산출하는 것으로 한다.
여기서, 제2 잉크 부분(43)의 높이는, 서브 픽셀에 있어서의 잉크층(4 5)의 높이(H)와 동일하다. 따라서, 오목부(15)의 상면적이 S1이라고 하면, 서브 픽셀에 있어서, 홀 수송층(9)의 면적(S1)당(부호 46으로 예시하는 부분)의 체적(v4)이, 제2 부분(44)의 체적(v2)에 상당하고, 체적 상당치(v2’)로 된다고 생각된다.
여기서, 상기 체적(v4)은, 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9)의 막 두께(h)에 면적(S1)을 곱해 산출할 수 있다. 또한, 막 두께(h)는, 예를 들면, 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9)의 막 두께의 평균적인 막 두께로 할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9)의 막 두께를 복수 개소에서 측정하여, 그 평균치로 할 수 있다.
v2’=v4
=h·S1…(3-4)
따라서, 제2 잉크 부분(43)의 체적 상당치(v2’)가 얻어져, 제1 잉크(41)의 체적 상당치(v1’)를 산출할 수 있다. 또한, 합계 체적(v3)의 상당치(v3’)는, 예를 들면, 오목부(15) 내로 들어간 홀 수송층(9)의 단면에 의거하여 산출할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 오목부(15)의 중심축을 포함하는 단면이 얻어지는 경우는, 홀 수송층(9)의 단면 형상을 중심축 둘레로 1회전시킨 회전체의 체적을 상당치(v3’)로 할 수 있다.
v1’=v3’-v2’
=v3’-h·S1…(3-5)
또한, 이상적으로는, 체적 상당치(v1’)와, 오목부(15a) 용적(V1)에 용질 농도(N)를 곱하여 얻어진 체적(v1)은, 동일한 정도의 값이 된다(예를 들면,±10%의 범위 내).
오목부(15)의 상면적(S1)은, 후술하는 컨택트 홀(13)의 상면적과 동일하게 정의할 수도 있다. 즉, 오목부(15)의 둘레 가장자리부의 가장 높은 위치로부터 약 10% 내려간 위치에 있어서의 오목부(15)의 직경으로 규정되는 원의 면적으로 해도 된다.
본 실시의 형태에 있어서, [i]상기 제1 컨택트 홀(13a)의 용적(V1a)은, 상기 제2 컨택트 홀(13b)의 용적(V1b)보다 크고,[ⅱ]상기 제1 색용의 전극판(5a) 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층(9a)의 체적(예를 들면, N·VO)은, 상기 제2 색용의 전극판(5b) 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층(9b)의 체적(예를 들면, N·VO)과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내이며,[ⅲ]상기 제1 유기 기능층의 막 두께(ha)는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부(15a)로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양(v3a)이 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 제2 오목부(15b)로 들어가는 상기 제2 유기 기능층의 양(v3b)보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역(예를 들면, 청색의 서브 픽셀에 있어서의 9a)에 있어서, 상기 제2 오목부 이외의 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역(예를 들면, 녹색의 서브 픽셀에 있어서의 9b)에 형성된 상기 제2 유기 기능층의 막 두께(hb)보다 얇다.
또한, 본 실시의 형태에 있어서, [i] 상기 제1 컨택트 홀(13a)의 용적(V1a)은, 상기 제2 컨택트 홀(13b)의 용적(V1b)보다 크고,[ⅱ]제1 색용의 전극판(예를 들면, 5a)의 제1 오목부(15a)로 들어가는 상기 제1 유기 기능층(9a)의 양(v3a)과, 제1 색용의 전극판의 제1 오목부 이외의 부분(예를 들면, 청색의 서브 픽셀에 있어서의 9a)에 대응하는 상기 제1 유기 기능층이, 평면에서 봐서 상기 제1 오목부와 동일한 넓이(표면적(S1))당 형성된 양(v2a)의 차(v3a-v2a=v1a)는,[ⅲ]제2 색용의 전극판(예를 들면, 5b)의 제2 오목부(15b)로 들어가는 상기 제2 유기 기능층(9b)의 양(v3b)과, 제2 색용의 전극판의 제2 오목부 이외의 부분(예를 들면, 녹색의 서브 픽셀에 있어서의 9b)에 대응하는 상기 제2 유기 기능층이, 평면에서 봐서 상기 제2 오목부와 동일한 넓이(표면적(S1))당 형성된 양(v2b)의 차(v3b-v2b=v1b)보다도 크다고 할 수도 있다.
또한, 상기 괄호 내의 체적(v1, v2, v3)을, 상술의 체적 상당치(v1’, v2’, v3’)로 할 수 있다.
또한, 본 실시의 형태에 있어서, 청색의 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9a)이 상기 제1 유기 기능층에 상당하고, 녹색의 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9b)이 상기 제2 유기 기능층에 상당하고, 적색의 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9c)이 상기 제3 유기 기능층에 상당한다.
여기서, 청색의 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9a)이 상기 제1 유기 기능층에 상당하고, 적색의 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9c)이 상기 제2 유기 기능층에 상당한다고 생각할 수도 있다. 또한, 녹색의 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9b)이 상기 제1 유기 기능층에 상당하고, 적색의 서브 픽셀에 있어서의 홀 수송층(9c)이 상기 제2 유기 기능층에 상당한다고 생각할 수도 있다.
(4) 다음에 구체적인 수치예를 넣어 고찰한다.
예를 들면, 1개의 서브 픽셀에서, 양극판(5) 상의 잉크 도포 영역(도 3(a)의 부호 5로 표시하는 영역)의 사이즈를 세로 300㎛, 가로 70㎛로 하면, 양극판(5) 상의 잉크 도포 영역의 면적 S=21000㎛2가 된다.
또한, 중간층용 잉크의 용질 농도(N)를 0.02(2vol%)로 하고, 잉크 젯으로 토출되는 1적당의 액적량이 3pL이고, 각 서브 픽셀의 양극판(5)의 위에 7적씩 충전하는 것으로 하면, 각 잉크 도포 영역에 충전되는 잉크의 충전량 V0=21pL(21000㎛3)가 된다.
양극판(5)에 오목부가 없다고 하면, 양극판(5)의 위에 충전되는 잉크층의 가상 높이(H0)는, VO/S=1㎛(=1000㎚)로 되고, 건조 후에 형성되는 홀 수송층(9)의 막 두께(h0)는, 다음 식에 의해 얻어진다.
h0=N·H0
=O.02㎛=20㎚…(3-1)
여기서, 청색에 대응하는 오목부(15a)는, 상면 반경이 하면 반경보다도 큰 원추 사다리꼴 형상으로 하고, 상면 반경(r1)을 20㎛, 하면 반경(r2)을 약 17.7㎛, 높이(T)를 4㎛, 측면의 경사 각도가 60[°](XY 평면에 대한 경사 각도)로 했다. 오목부(15a)의 용적(V1a)은, 다음 식으로 구해지고, π가 3.14로 하면, 4468㎛3(4.468pL)로 된다.
V1=π·T(r1 2+r1·r2+r2 2)/3…(3-2)
그 결과, 청색 서브 픽셀의 홀 수송층(9a)의 막 두께(ha)는, 다음 식에 의해 얻어진다.
ha=N(V0-V1a)/S=15.7㎚…(3-3)
녹색에 대응하는 오목부(15b)는, 상측이 확경한 2개의 원추대가 상하로 겹쳐진 형상이며, 상하의 부분을 개별적으로 계산한다. 우선, 상측의 원추대 부분은, 상면 반경 20㎛, 하면 반경을 약 19.1㎛, 높이를 1.5㎛, 측면의 경사 각도가 60[°](XY 평면에 대한 경사 각도)로 했다. 다음에, 하측의 원추대 부분은, 상면 반경 15㎛, 하면 반경을 약 13.6㎛, 높이를 2.5㎛, 측면의 경사 각도를 60[°](XY 평면에 대한 경사 각도)로 했다.
그리고, 상측의 원추대 부분의 용적은, 1800㎛3(1.800pL), 하측의 원추대 부분의 용적은, 1607㎛3(1.607pL)이 된다. 따라서, 오목부(15b)의 용적(V1b)은, 3407㎛3(3.407pL)로 된다. 그 결과, 녹색 서브 픽셀의 홀 수송층(9b)의 막 두께(hb)는, 다음 식에 의해 얻어진다.
hb=N(V0-V1b)/S=16.8㎚…(3-4)
적색에 대응하는 오목부(15c)도, 상측이 확경한 2개의 원추대가 상하로 겹쳐진 형상이며, 상하의 부분을 개별적으로 계산한다. 우선, 상측의 원추대 부분은, 상면 반경 20㎛, 하면 반경을 약 19.1㎛, 높이를 1.5㎛, 측면의 경사 각도가 60[°](XY 평면에 대한 경사 각도)로 했다. 다음에, 하측의 원추대 부분은, 상면 반경 10㎛, 하면 반경을 약 8.6㎛, 높이를 2.5㎛, 측면의 경사 각도를 60[°](XY 평면에 대한 경사 각도)로 했다.
그리고, 상측의 원추대 부분의 용적은, 1800㎛3(1.800pL), 하측의 원추대 부분의 용적은, 680㎛3(0.680pL)로 된다. 따라서, 오목부(15c)의 용적(V1c)은, 2480㎛3(2.480pL)로 된다. 그 결과, 적색 서브 픽셀의 홀 수송층(9c)의 막 두께(hc)는, 다음 식에 의해 얻어진다.
hc=N(V0-V1c)/S=17.6㎚…(3-5)
따라서, 청색 서브 픽셀의 홀 수송층(9a)의 막 두께(ha)와, 녹색 서브 픽셀의 홀 수송층(9b)의 막 두께(hb)의 막 두께차 Δhab는, 1.O㎚이 된다. 또한, 막 두께(hb)와 막 두께(hc)의 막 두께차 Δhbc는, 0.9㎚이 된다. 또한, 막 두께(ha)와 막 두께(hc)의 막 두께차 Δhac는, 1.9㎚이 된다. 상기의 경우, 컨택트 홀(13)의 용적차 ΔV1는, 각각 ΔV1ab(청색과 녹색) 및 ΔV1bc(녹색과 적색)가 1000㎛3(1pL) 정도, ΔV1ac(청색과 적색)가 2000㎛3(2pL) 정도이다.
이와 같이 하여, 각 색의 서브 픽셀간에 있어서 홀 수송층(9)의 막 두께차를, 미소 단위(예를 들면, 1㎚ 이하)로 조절할 수 있다.
한편, 비교예에서는, 1개의 서브 픽셀당 충전하는 잉크 액적의 적수를 1개 증감시킨 경우, 형성되는 중간층의 막 두께는 약 2.9㎚만큼 증감하므로, 약 2.9㎚단위로 밖에 막 두께를 조절할 수 없다.
이상과 같이, 본 실시 형태의 표시 패널(100)의 제법에 의하면, 각 색 서브 픽셀에 형성하는 오목부(15a, 15b, 15c)의 체적을 잉크 액적의 체적보다도 세세하게 미세 조절함으로써, 각 색 서브 픽셀의 홀 수송층(9)의 막 두께차를 비교적 용이하게 미세 조절할 수 있다. 그 결과, 홀 수송층(9)의 막 두께를, 서브 픽셀의 색마다, 발광색의 파장에 맞는 적절한 값으로 설정하여 효율적으로 광을 취출하도록 하는 것이 용이해진다.
또한, 상기 계산예에 있어서, 컨택트 홀(13)의 측면의 경사(테이퍼 각도)를 60도로 했는데, 60도에 한정되지 않고, 임의의 경사 각도로 할 수 있다. 또한, 상단 부분과 하단 부분에서 경사 각도가 상이해도 된다.
또한, 상기 막 두께차 Δh는, 1㎚나 2㎚에 한정되지 않고, 예를 들면, 조건에 따라 1㎚ 미만으로 하거나, 3㎚ 이상으로 할 수 있다.
또한, 컨택트 홀(13)의 상면 반경도 20㎛에 한정되지 않고, 예를 들면 25㎛ 이상으로 하는 등, 임의의 값으로 해도 된다.
여기서, 컨택트 홀(13)의 상측 개구부는, 격벽(8)의 높이나 형상에 영향을 미치지 않도록 하기 위해, 평면에서 봐서 격벽(8)이 형성된 영역과 이간하여 형성되는 것이 바람직하다.
대응색이 상이한 컨택트 홀(13)의 용적차 ΔV1은, 컨택트 홀(13a)의 용적의 오차보다도 큰 것이 바람직하다. 예를 들면, 컨택트 홀(13a)의 용적이 4500㎛3이고, 오차가 10%인 경우는, 예를 들면 용적차 ΔV1ab가 450㎛3를 초과하는 것이 바람직하다.
(상면적에 대해서)
여기서, 컨택트 홀(13)의 상면적에 대해서 설명한다.
본 실시의 형태에 있어서, 각 색에 대응하는 컨택트 홀(13a, 13b, 13c)의 상면적이 실질적으로 동일하게 되어 있다. 또한, 컨택트 홀(13)의 상면적은, 컨택트 홀(13)의 둘레 가장자리부의 가장 높은 위치로부터 약 10% 내려간 위치에 있어서의 컨택트 홀(13)의 직경으로 규정되는 원의 면적으로 된다.
도 8(a), (b), (c)는, 각각 컨택트 홀(13)의 단면을 모식적으로 나타내는 도면이다(또한, 컨택트 홀(13b)의 단면을 대표적으로 나타내고 있다). 또한, 각 도면에 있어서의 컨택트 홀(13)의 형상은, 둘레 가장자리부에 있어서 상이하다. 이러한 경우에, 컨택트 홀(13)의 직경을 어떻게 규정할지를 설명한다.
도 8(a)에서는, 컨택트 홀(13)의 둘레 가장자리부의 가장 높은 위치는, 층간 절연막(3)의 상면(50)과 동일한 높이(직선 O1)가 된다. 그리고, 10% 내려간 위치란, 컨택트 홀(13)의 깊이(P1)의 10%(P1/10)이고, 직선 Q1로 표시한다. 따라서, 당 도면의 단면에 있어서, 직선 Q1과 컨택트 홀(13)의 측면의 2개의 교점의 거리가 컨택트 홀(13)의 직경 φ1이 된다. 그 결과, 컨택트 홀(13)의 상면적은, 예를 들면, 직경 φ1의 원의 면적이 된다.
도 8(b)에서는, 컨택트 홀(13)의 개구 가장자리가 만곡부(51)로 되어 있다. 이러한 경우는, 만곡부(51)가 컨택트 홀(13)의 둘레 가장자리부를 구성하고 있다고 생각하여, 만곡부(51)의 가장 높은 위치, 즉, 층간 절연막(3)의 상면(50)의 높이 위치가 된다. 그리고, 10% 내려간 위치는, 상기 Q1과 마찬가지로, 층간 절연막(3)의 상면(50)으로부터 깊이(P2)의 10%(P2/10) 내려간 위치(Q2)가 된다. 따라서, 당 도면의 단면에 있어서, 직선(Q2)과 컨택트 홀(13)의 측면의 2개의 교점의 거리가 컨택트 홀(13)의 직경 φ2가 된다.
도 8(c)에서는, 컨택트 홀(13)에 인접하여 융기부(52)가 형성되어 있다. 도면과 같이, 융기부(52)의 측면(53)이 컨택트 홀(13)의 측면의 일부로 간주할 수 있는 경우에는, 융기부(52)의 꼭대기부(54)의 위치가, 컨택트 홀(13)의 둘레 가장자리부의 가장 높은 위치에 해당한다. 이 경우, 컨택트 홀(13)의 깊이(P3)는, 융기부(52)의 꼭대기부(54)로부터 바닥까지의 거리(P3)가 된다. 따라서, 가장 높은 위치로부터 약 10% 내려간 위치는, 꼭대기부(54)로부터 깊이(P3)의 10%(P3/10) 내려간 위치(Q3)가 된다. 그리고, 당 도면의 단면에 있어서, 직선(Q2)과 컨택트 홀(13)의 측면의 2개의 교점의 거리가 컨택트 홀(13)의 직경 φ3이 된다.
(광로 길이에 대해서)
도 9는, 유기 EL 소자(20) 내에서의 광의 광로를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
당 도면에는, 발광층(10)으로부터 음극층(11)측으로 직접 출사하는 직출광(61)과, 양극판(5)측에서 반사하고 나서 출사하는 반사광(62)이 나타나 있다. 또한, 당 도면에 있어서, 양극판(5)을, 금속층(63)과 투명 전극층(64)(IZO)으로 나누어 나타내고 있다. 이 경우, 양극판(5)의 반사면은, 투명 전극층(64)측의 금속층(63)의 주면에 의해 구성되어 있다.
도 9에서는, 예를 들면, 홀 수송층(9), 홀 주입층(7), 및 투명 전극층(64)의 광로 길이에 대해서, 유기 EL 소자(20) 내에서의 광의 공진 조건을 최적화할 수 있다. 이러한 구조를 캐비티 혹은 캐비티 구조로 칭한다.
본 실시의 형태에 있어서, 홀 수송층(9)의 막 두께만으로 광로차를 조절해도 되고, 홀 수송층(9)에 추가하여, 홀 주입층(7), 투명 전극층(64) 등의 막 두께도 조절하여 광로차를 조절해도 된다.
컨택트 홀의 용적차를 결정하는 방법에 대해서 간단하게 기술한다. 예를 들면, 유기 EL 표시 패널의 시작품을 제조하여, 광의 공진 조건을 색마다 최적화하기 위헤서 각 색의 유기 기능층의 막 두께차를 어떻게 바꿀지, 혹은, 유기 기능층의 막 두께차를 유지하면서 전체적으로 막 두께를 변화시킬지를 결정한다. 그리고, 시작품과 동일한 제조 조건(잉크의 도포 조건) 하, 컨택트 홀의 용적을 변경하여 유기 EL 표시 패널을 제조한다. 이와 같이 하여, 유기 EL 소자 내에서의 광의 공진 조건이 최적화되어, 발광 효율이 높은 유기 EL 표시 패널이 얻어진다.
<변형예 1>
상기 실시의 형태에 있어서, 컨택트 홀(13b, 13c)은, 상단 부분과 하단 부분을 가지고 있고, 하단 부분의 상면 반경이 상이했다. 이에 대해, 상단 부분과 하단 부분의 깊이를 바꿈으로써도 컨택트 홀(13)의 용적을 다르게 할 수 있다.
도 10은, 도 3(b) 중 컨택트 홀(13b, 13c)에 상당하는 부분을 모식적으로 나타내는 단면도이다. 당 도면에서는, 상기 실시의 형태의 컨택트 홀(13b)을 대신하여, 컨택트 홀(13d)이 형성되어 있다. 또한, 컨택트 홀(13c)은, 도 3(b)에 기재한 것과 동일하게 되어 있다.
본 변형예에서는, 컨택트 홀(13d)은, 단차면(14d)보다 상측의 상단 부분의 깊이가 컨택트 홀(13c)의 상단 부분보다도 깊게 되어 있다. 이와 같이 함으로써, 컨택트 홀(13d)의 용적을, 상기 컨택트 홀(13a)보다도 작고, 컨택트 홀(13c)보다도 크게 할 수 있다.
본 변형예에 있어서, 컨택트 홀(13c, 13d)을 형성하기 위해서 노광 시에 이용되는 멀티 톤의 패턴 마스크에 대해서 설명한다.
멀티 톤 마스크(70)는, 광을 투과시키는 투광부(71, 72)와, 광의 투과율이 낮은 제1 반투광부(73)와, 제1 반투광부(73)보다도 더욱 광의 투과율이 낮은 제2 반투광부(74)와, 광을 차단하는 차광부(75)로 이루어진다. 또한, 투광부(71) 및 제1 반투광부(73)는 컨택트 홀(13d)에 대응하고, 투광부(72) 및 제2 반투광부(74)는 컨택트 홀(13c)에 대응하고 있다.
투광부(71, 72)의 평면 형상(평면에서 봐서 개구의 형상)은, 각각 컨택트 홀(13d, 13c)의 저면 형상(35d, 35c)과 대략 동일하다. 또한, 제1 반투광부(73)의 평면 형상은, 외주부의 윤곽에 있어서, 컨택트 홀(13d)의 상단 부분의 저면 형상(단차면(14d)의 형상)과 대략 동일하다. 마찬가지로, 제2 반투광부(74)의 평면 형상은, 외주부의 윤곽에 있어서, 컨택트 홀(13c)의 상단 부분의 저면 외형(단차면(14c)의 형상)과 대략 동일하다.
제1 반투광부(73)를 투과한 광은, 제2 반투광부(74)를 투과한 광보다도 밝기 때문에, 레지스트막(26)(도 5(a) 참조)의 깊게까지 노광되는 결과, 컨택트 홀(13d)의 상단 부분이 깊어진다.
본 변형예에서는, 컨택트 홀(13)간의 상단 깊이(d2, d4)와 하단 깊이(d1, d3)를 다르게 하고 있다. 그리고, 상단 깊이(d2, d4)를 작게 함으로써, 컨택트 홀(13)의 용적을 작게 할 수 있다.
여기서, 컨택트 홀(13d, 13c)간의 저면 직경(r1, r3)은 서로 같게 되어 있는 것으로 한다. 이와 같이 컨택트 홀(13)간의 저면 직경(r1, r3)을 동일하게 한 경우에는, 각 양극판(5)과 SD 전극(22)의 접촉 면적을 동일하게 할 수 있다.
또한, 상단 부분의 저면 직경(r2, r4)은, 측면의 경사 각도와, 전술의 상면적을 규정할 때의 원의 직경에 따라 정해진다.
또한, 컨택트 홀(13)간의 상단 깊이(d2, d4) 및 하단 깊이(d1, d3)와, 저면 직경(r1, r3)의 양쪽을 다르게 할 수 있다. 또한, 측면의 경사 각도를 다르게 해도 된다.
또한, 상기 실시의 형태 및 변형예에서는 컨택트 홀(13b, 13c, 13d)은 단차면(14)이 1개이고 상하 2단으로 되어 있는데, 단차면을 복수 형성하여 3단 이상으로 해도 된다.
<변형예 2>
상기 실시의 형태 및 변형예 1에 있어서, 각 색에 대응하는 컨택트 홀(13)의 용적을 바꿈으로써, 홀 수송층(9)의 막 두께차를 미세 조절하고 있는데, 유기 기능층의 일예인 발광층(10)의 막 두께차를 미세 조절할 수도 있다.
본 변형예에서는, 각 컨택트 홀(13a, 13b, 13c) 등의 용적차에 따라, 각 색의 서브 픽셀에 있어서의 발광층(10a, 10b, 10c)의 막 두께차가 발생한다. 그 결과, 각 색의 발광층(10)에 적절한 휘도나 색도를 얻기 쉬워진다. 혹은, 유기 EL 소자(20) 내에 있어서의 광의 공진 조건이 적절화되어, 광의 취출 효율이 향상된다. 또한, 각 색의 서브 픽셀에 도포하는 유기 발광 재료를 포함하는 잉크의 액적수를 다르게 한 다음, 다시, 컨택트 홀(13)의 용적차에 의해 막 두께차를 미세 조절해도 된다.
또한, 본 변형예에 있어서, 홀 수송층은, 증착법이나 스퍼터법에 의해 형성할 수 있다. 또한, 홀 수송층을 전술의 잉크젯법 등에 의해 형성해도 되고, 생략 해도 된다.
그런데, 홀 주입층을 잉크젯 방식에 의해 형성하고, 그 막 두께차를 미세 조절해도 된다. 이 경우는, 홀 주입층의 재료로서, PEDOT-PSS, 방향족 아민계 고분자 재료, 폴리페닐렌비닐렌 등의 유기 재료를 이용할 수 있다.
[그 외]
1. 표시 장치의 구성예
도 11은, 상기 표시 패널(100)을 이용한 표시 장치(200)의 구성을 나타내는 도면이다.
도 12는, 표시 장치(200)를 이용한 텔레비전 시스템의 일예를 나타내는 외관 형상이다.
표시 장치(200)는, 유기 EL 표시 패널(100)과, 이에 접속된 구동 제어부(120)로 구성되어 있다. 구동 제어부(120)는, 4개의 구동 회로(121~124)와 제어 회로(125)로 구성되어 있다. 구동 제어부(120)에는 도시를 생략하는 전원 공급부로부터 전력이 공급된다.
또한, 상기 TFT층(2)은, 행렬형상으로 배열된 유기 EL 소자(20)의 각 열에 대응하는 신호선용 배선과 각 행에 대응하는 주사선용 배선을 구비하고 있다. 신호선용 배선은, Y방향으로 연장하여 설치되고, 구동 회로(121)와 구동 회로(122)의 적어도 한쪽에 접속됨과 더불어, 각 열의 유기 EL 소자(20)에 대응하는 TFT와 접속되어 있다. 또한, 주사선용 배선은, X방향으로 연장하여 설치되고, 구동 회로(123)와 구동 회로(124)의 적어도 한쪽에 접속됨과 더불어, 각 행의 유기 EL 소자(20)에 대응하는 TFT와 접속되어 있다.
2. 상기 실시의 형태 및 변형예 1, 2에서는, 본 발명의 구성 및 작용·효과를 알기 쉽게 설명하기 위해서 일예로서의 각 구성을 채용하는 것이며, 본 발명은, 본질적인 부분을 제외하고, 상기 형태에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 실시의 형태에서는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 발광층(10)에 대해서, 그 Z축 방향 하측에 양극판(5)이 배치되어 있는 구성을 일예로서 채용했는데, 본 발명은, 이에 한정하지 않고 유기 발광층(10)에 대해서, 그 Z축 방향 하측에 음극이 배치되어 있는 구성을 채용할 수도 있다.
3. 상기 실시의 형태 및 변형예에서는, 양극판(5)을 반사 금속으로 하고, 음극층(11)을 투명 혹은 반투명 금속으로 한 탑 에미션 구조로 해도 되고, 양극판(5)을 투명 혹은 반투명 금속으로 하고, 음극층(11)을 반사 금속으로 한 보텀 에미션 구조로 해도 된다.
4. 상기 실시의 형태 및 변형예 1~5에서는, 기판 상에 TFT층(2)을 가지는 액티브 매트릭스 구동을 전제로 설명했는데, 본원은 패시브 매트릭스 구동에도 적용할 수 있다. 이 경우, TFT층은 필요없고, 유기 발광층을 구동하기 위한 구동 배선에 의해 유기 발광층에 전류를 공급할 수 있다.
5. 상기 실시의 형태 및 변형예에 있어서, 화소 규제층(6)이, 양극판(5)과 홀 주입층(7)의 사이에 형성되어 있는데, 홀 주입층(7)의 위에 화소 규제층(6)을 형성해도 된다.
6. 상기 실시의 형태에서는, 양극판(5)의 위쪽에, 중간층으로서 홀 수송층을 웨트 방식으로 형성하는 예를 나타냈는데, 중간층으로서, 홀 주입층, 홀 주입겸 수송층을 웨트 방식으로 형성하는 경우도, 동일하게 하여, 그 중간층의 막 두께를 미세 조절하여, 각 발광색의 광을 효율적으로 할 수 있다.
7. 상기 실시의 형태 및 변형예에 있어서, 홀 수송층(9) 및 발광층(10)의 양쪽을 잉크젯 방식으로 도포하는 경우, 서로 다른 색의 서브 픽셀간에 있어서의 막 두께차의 조절을, 홀 수송층(9) 및 발광층(10)의 2개의 층에서 행할 수 있다.
<산업상의 이용 가능성>
본 발명에 관련된 유기 EL 표시 패널은, 휴대전화나 텔레비전 등의 전자 기기의 디스플레이로서 이용할 수 있다.
1 : 기판 2 : TFT층
3 : 층간 절연막 5(5a~5c) : 양극판
6 : 화소 규제층 7(7a~7c) : 홀 주입층
8(8a~8c) : 격벽 9(9a~9c) : 중간층
10(10a~10c) : 유기 발광층 11 : 음극층
13(13a~13c) : 컨택트 홀 14 : 단차면
15(15a~15c) : 오목부 20a~20c : 유기 EL 소자
22 : SD 전극 23(23a~23c) : 오목부
100 : 표시 패널

Claims (25)

  1. TFT층과,
    상기 TFT층의 위쪽에 설치된 층간 절연막과,
    상기 층간 절연막 상에 형성되고, 라인 형상으로 배열된 복수의 제1 색용의 전극판을 포함하는 제1 전극판군과,
    상기 층간 절연막 상에 상기 제1 전극판군과 인접하여 형성되고, 라인 형상으로 배열된 복수의 제2 색용의 전극판을 포함하는 제2 전극판군과,
    상기 제1 전극판군의 한쪽의 장변 부분을 따라 형성된 제1 격벽과,
    상기 제1 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분과, 상기 제2 전극판군의 한쪽의 장변 부분의 사이에 형성된 제2 격벽과,
    상기 제2 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분을 따라 형성된 제3 격벽과,
    상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽의 사이에 있어서 상기 제1 전극판군의 위쪽에 형성된 제1 유기 기능층과,
    상기 제2 격벽과 상기 제3 격벽의 사이에 있어서 상기 제2 전극판군의 위쪽에 형성된 제2 유기 기능층과,
    상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층의 위쪽에 설치된 대향 전극을 구비하고,
    상기 층간 절연막에는, 상기 제1 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제1 컨택트 홀, 및, 상기 제2 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제2 컨택트 홀이 설치되고,
    상기 제1 색용의 전극판의 각각은, 상기 제1 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제1 오목부를 가지고, 상기 제2 색용의 전극판의 각각은, 상기 제2 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제2 오목부를 가지고 있고,
    상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀 및 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀의 적어도 한쪽은, 단계적으로 좁아지는 형상을 하고 있고,
    상기 제1 컨택트 홀의 용적은, 상기 제2 컨택트 홀의 용적보다 크고,
    상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내이며,
    상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양이 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 제2 오목부로 들어가는 상기 제2 유기 기능층의 양보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에서, 상기 제2 오목부 이외의 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제2 유기 기능층의 막 두께보다 얇은, 유기 EL 표시 패널.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀의 상면적과 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀의 상면적은, 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내인, 유기 EL 표시 패널.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 컨택트 홀의 상면적은, 상기 층간 절연막에서의 상기 컨택트 홀의 둘레 가장자리부의 가장 높은 위치로부터 10%, 또는 10% 근방치의 범위 내로 내려간 위치에서의 상기 컨택트 홀의 직경으로 규정되는 원의 면적인, 유기 EL 표시 패널.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 상기 제1 오목부는, 제1 화소 규제층에 의해 덮이고, 상기 제1 화소 규제층의 위쪽에 제1 유기 기능층이 형성되고,
    상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 상기 제2 오목부는, 제2 화소 규제층에 의해 덮이고, 상기 제2 화소 규제층의 위쪽에 제2 유기 기능층이 형성되어 있는, 유기 EL 표시 패널.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 유기 기능층은, 잉크젯식 도포 방법에 의해 소정 체적의 액적이 도포됨으로써, 상기 제1 전극판군의 위쪽에 연속하여 형성되고,
    상기 제2 유기 기능층은, 잉크젯식 도포 방법에 의해 상기 소정의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내의 체적의 액적이 도포됨으로써, 상기 제2 전극판군의 위쪽에 연속하여 형성되고,
    상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내인, 유기 EL 표시 패널.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 제1 유기 기능층의 막 두께와 상기 제2 유기 기능층의 막 두께의 차는, 상기 잉크젯식 도포 방법에 의해 상기 소정 체적의 액적이 도포되는 경우, 상기 제1 색용의 전극판마다 도포되는 상기 액적수가, n개 증가함으로써 형성되는 상기 제1 유기 기능층의 막 두께보다 크고, 상기 액적수가 n+1개 증가함으로써 형성되는 상기 제1 유기 기능층의 막 두께보다 작은, 유기 EL 표시 패널.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 색은 청색인, 유기 EL 표시 패널.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 제2 전극판군과 인접하여 형성되고, 라인 형상으로 배열된 복수의 제3 색용의 전극판을 제3 전극판군과,
    상기 제3 전극판군의 상기 제2 전극판군과 반대측의 장변 부분을 따라 형성된 제4 격벽과,
    상기 제3 격벽과 상기 제4 격벽의 사이에서 상기 제3 전극판군의 위쪽에 형성된 제3 유기 기능층을 포함하고,
    상기 대향 전극은, 상기 제3 유기 기능층의 위쪽에 설치되고,
    상기 층간 절연막에는, 상기 제3 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제3 컨택트 홀이 설치되고,
    상기 제3 색용의 전극판은, 상기 제3 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제3 오목부를 가지고 있고,
    상기 제3 색용의 전극판에 대응하는 제3 컨택트 홀은, 단계적으로 좁아지는 형상을 하고 있고,
    상기 제1 컨택트 홀의 체적은, 상기 제3 컨택트 홀의 체적보다 크고,
    상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제3 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제3 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내이며,
    상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양이 상기 제3 컨택트 홀에 대응하는 제3 오목부로 들어가는 상기 제3 유기 기능층의 양보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에서, 상기 제3 오목부 이외의 상기 제3 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제3 유기 기능층의 막 두께보다 얇은, 유기 EL 표시 패널.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀의 상면적, 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀의 상면적 및 상기 제3 색용의 전극판에 대응하는 제3 컨택트 홀의 상면적은, 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내인, 유기 EL 표시 패널.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 컨택트 홀의 상면적은, 상기 컨택트 홀이 설치된 상기 층간 절연막의 상기 컨택트 홀의 둘레 가장자리부의 가장 높은 위치로부터 10% 내려간 위치에서의 상기 컨택트 홀의 직경으로 규정되는 원의 면적인, 유기 EL 표시 패널.
  11. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층은, 전하 주입층 혹은 전하 수송층 중 어느 하나이며,
    상기 제1 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제1 유기 발광층이 형성되고, 상기 제2 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제2 유기 발광층이 형성되어 있는, 유기 EL 표시 패널.
  12. 청구항 8 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 유기 기능층, 상기 제2 유기 기능층, 및 상기 제3 유기 기능층은, 전하 주입층 혹은 전하 수송층 중 어느 하나이며,
    상기 제1 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제1 유기 발광층이 형성되고, 상기 제2 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제2 유기 발광층이 형성되고, 상기 제3 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제3 유기 발광층이 형성되어 있는, 유기 EL 표시 패널.
  13. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층은, 유기 발광층인, 유기 EL 표시 패널.
  14. 청구항 8 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 유기 기능층, 상기 제2 유기 기능층, 및 상기 제3 유기 기능층은, 유기 발광층인, 유기 EL 표시 패널.
  15. 청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전극판은 양극이며, 상기 대향 전극은 음극인, 유기 EL 표시 패널.
  16. 청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전극판은 음극이며, 상기 대향 전극은 양극인, 유기 EL 표시 패널.
  17. 청구항 1 내지 청구항 16 중 어느 한 항에 기재된 유기 EL 표시 패널을 구비한, 표시 장치.
  18. 기판을 준비하는 제1 공정과,
    상기 기판 상에 TFT층을 형성하는 제2 공정과,
    상기 TFT층 상에 층간 절연막을 형성하는 제3 공정과,
    복수의 제1 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제1 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하고, 상기 제1 전극판군과 인접하여 복수의 제2 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제2 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하는 제4 공정과,
    상기 제1 전극판군의 한쪽의 장변 부분을 따라 제1 격벽을 형성하고, 상기 제1 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분과 상기 제2 전극판군의 한쪽의 장변 부분의 사이에 제2 격벽을 형성하고, 상기 제2 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분을 따라 제3 격벽을 형성하는 제5 공정과,
    상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽의 사이에서 상기 제1 전극판군의 위쪽에 연속하여 제1 유기 기능층을 형성하는 제6 공정과,
    상기 제2 격벽과 상기 제3 격벽의 사이에서 상기 제2 전극판군의 위쪽에 연속하여 제2 유기 기능층을 형성하는 제7 공정과,
    상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층의 위쪽에 대향 전극을 형성하는 제8 공정을 구비하고,
    상기 제3 공정에서,
    상기 층간 절연막에는, 상기 제1 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제1 컨택트 홀, 및, 상기 제2 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제2 컨택트 홀이 형성되고,
    상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀 및 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀의 적어도 한쪽은, 단계적으로 좁아지는 형상으로 형성하고,
    상기 제1 컨택트 홀은, 상기 제2 컨택트 홀보다 용적을 크게 형성하고,
    상기 제4 공정에서,
    상기 제1 색용의 전극판의 각각에는, 상기 제1 컨택트 홀의 형상을 따라 제1 오목부가 형성되고, 상기 제2 색용의 전극판의 각각에는, 상기 제2 컨택트 홀의 형상을 따라 제2 오목부가 형성되고,
    상기 제6 공정에서 형성된 상기 제1 유기 기능층 및 상기 제7 공정에서 형성된 상기 제2 유기 기능층에서,
    상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내이며,
    상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양이 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 제2 오목부로 들어가는 상기 제2 유기 기능층의 양보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에서, 상기 제2 오목부 이외의 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제2 유기 기능층의 막 두께보다 얇은, 유기 EL 표시 패널의 제조 방법.
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 컨택트 홀의 상면적과 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 컨택트 홀의 상면적을, 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내로 형성하는, 유기 EL 표시 패널의 제조 방법.
  20. 청구항 18 또는 청구항 19에 있어서,
    상기 제4 공정과 상기 제5 공정의 사이에, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 상기 제1 오목부를 덮도록 제1 화소 규제층을 형성하고, 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 상기 제2 오목부를 덮도록 제2 화소 규제층을 형성하는 공정을 구비하고,
    상기 제6 공정에서, 상기 제1 화소 규제층의 위쪽에 상기 제1 유기 기능층이 형성되고,
    상기 제7 공정에서, 상기 제2 화소 규제층의 위쪽에 상기 제2 유기 기능층이 형성되는, 유기 EL 표시 패널의 제조 방법.
  21. 청구항 18 내지 청구항 20 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제6 공정에서, 상기 제1 유기 기능층은, 잉크젯식 도포 방법에 의해 소정 체적의 액적을 도포함으로써, 상기 제1 전극판군의 위쪽에 연속하여 형성하고,
    상기 제7 공정에서, 상기 제2 유기 기능층은, 잉크젯식 도포 방법에 의해 상기 소정 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내의 체적의 액적을 도포함으로써, 상기 제2 전극판군의 위쪽에 연속하여 형성되는, 유기 EL 표시 패널의 제조 방법.
  22. 청구항 21에 있어서,
    상기 제1 유기 기능층의 막 두께와 상기 제2 유기 기능층의 막 두께의 차는, 상기 잉크젯식 도포 방법에 의해 상기 소정 체적의 액적이 도포되는 경우, 상기 제1 색용의 전극판마다 도포되는 액적수가, n개 증가함에 의한 상기 제1 유기 기능층의 막 두께의 증가분보다 크고, 상기 액적수가 n+1개 증가함에 의한 상기 제1 유기 기능층의 막 두께의 증가분보다 작은, 유기 EL 표시 패널의 제조 방법.
  23. 청구항 18 내지 청구항 22 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층은, 전하 주입층 혹은 전하 수송층 중 어느 하나이며,
    상기 제1 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제1 유기 발광층이 형성되고, 상기 제2 유기 기능층과 상기 대향 전극의 사이에 제2 유기 발광층이 형성되어 있는, 유기 EL 표시 패널의 제조 방법.
  24. 청구항 18 내지 청구항 22 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 유기 기능층 및 상기 제2 유기 기능층은 유기 발광층인, 유기 EL 표시 패널의 제조 방법.
  25. 기판을 준비하는 제1 공정과,
    상기 기판 상에 TFT층을 형성하는 제2 공정과,
    상기 TFT층 상에 층간 절연막을 형성하는 제3 공정과,
    복수의 제1 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제1 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하고, 상기 제1 전극판군과 인접하여 복수의 제2 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제2 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하고, 상기 제2 전극판군과 인접하여 복수의 제3 색용의 전극판을 라인 형상으로 배열한 제3 전극판군을 상기 층간 절연막 상에 형성하는 제4 공정과,
    상기 제1 전극판군의 한쪽의 장변 부분을 따라 제1 격벽을 형성하고, 상기 제1 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분과 상기 제2 전극판군의 한쪽의 장변 부분의 사이에 제2 격벽을 형성하고, 상기 제2 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분과 상기 제3 전극판군의 한쪽의 장변 부분의 사이에 제3 격벽을 형성하고, 상기 제3 전극판군의 다른 쪽의 장변 부분을 따라 제4 격벽을 형성하는 제5 공정과,
    상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽의 사이에서 상기 제1 전극판군의 위쪽에 연속하여 제1 유기 기능층을 형성하는 제6 공정과,
    상기 제2 격벽과 상기 제3 격벽의 사이에서 상기 제2 전극판군의 위쪽에 연속하여 제2 유기 기능층을 형성하는 제7 공정과,
    상기 제3 격벽과 상기 제4 격벽의 사이에서 상기 제3 전극판군의 위쪽에 연속하여 제3 유기 기능층을 형성하는 제8 공정과,
    상기 제1 유기 기능층, 상기 제2 유기 기능층 및 상기 제3 유기 기능층의 위쪽에 대향 전극을 형성하는 제9 공정을 구비하고,
    상기 제3 공정에서,
    상기 층간 절연막에는, 상기 제1 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제1 컨택트 홀, 상기 제2 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제2 컨택트 홀, 및, 상기 제3 색용의 전극판의 각각과 TFT층을 접속하는 제3 컨택트 홀이 설치되고,
    상기 제1 색용의 전극판에 대응하는 제1 컨택트 홀, 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제2 컨택트 홀, 및, 상기 제2 색용의 전극판에 대응하는 제3 컨택트 홀 중 적어도 2개는, 단계적으로 좁아지는 형상으로 형성하고,
    상기 제1 컨택트 홀은, 상기 제2 컨택트 홀 및 제3 컨택트 홀의 각각보다 용적을 크게 형성하고,
    상기 제4 공정에서,
    상기 제1 색용의 전극판의 각각에는 상기 제1 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제1 오목부가 형성되고, 상기 제2 색용의 전극판의 각각에는 상기 제2 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제2 오목부가 형성되고, 상기 제3 색용의 전극판의 각각에는 상기 제3 컨택트 홀의 형상을 따라 움푹 들어간 제3 오목부가 형성되고,
    상기 제6 공정, 상기 제7 공정 및 상기 제8 공정에서 각각 형성된 상기 제1 유기 기능층, 상기 제2 유기 기능층 및 상기 제3 유기 기능층에서,
    상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제1 유기 기능층의 체적은, 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제2 유기 기능층의 체적 및 상기 제3 색용의 전극판 상의 영역에 대응하는 상기 제3 유기 기능층의 체적과 동일 또는 동일의 근방치의 범위 내이며,
    상기 제1 유기 기능층의 막 두께는, 상기 제1 컨택트 홀에 대응하는 제1 오목부로 들어가는 상기 제1 유기 기능층의 양이, 상기 제2 컨택트 홀에 대응하는 제2 오목부로 들어가는 상기 제2 유기 기능층의 양 및 상기 제3 컨택트 홀에 대응하는 제3 오목부로 들어가는 상기 제3 유기 기능층의 양보다 많음으로써, 상기 제1 오목부 이외의 상기 제1 색용의 전극판 상의 영역에서, 상기 제2 오목부 이외의 상기 제2 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제2 유기 기능층의 막 두께 및 상기 제3 오목부 이외의 상기 제3 색용의 전극판 상의 영역에 형성된 상기 제3 유기 기능층의 막 두께보다 얇은, 유기 EL 표시 패널의 제조 방법.
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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012017500A1 (ja) * 2010-08-06 2012-02-09 パナソニック株式会社 有機el表示パネル、表示装置、及び有機el表示パネルの製造方法
US8957412B2 (en) 2010-11-29 2015-02-17 Panasonic Corporation Organic electroluminescence panel, method of manufacturing organic electroluminescence panel, organic light emitting apparatus using organic electroluminescence panel, and organic display apparatus using organic electroluminescence panel
TWI485899B (zh) 2011-03-31 2015-05-21 Panasonic Corp 有機電致發光元件
JP5745046B2 (ja) 2011-06-08 2015-07-08 株式会社Joled 発光パネル、発光パネルの製造方法、および成膜システム
WO2013124916A1 (ja) * 2012-02-21 2013-08-29 パナソニック株式会社 有機発光デバイスとその製造方法
KR101923717B1 (ko) * 2012-05-24 2018-11-30 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 어레이 기판 및 그 제조방법
JP2014026902A (ja) * 2012-07-30 2014-02-06 Sony Corp 表示装置、表示装置の製造方法および電子機器
CN103268884B (zh) * 2012-12-07 2016-03-30 上海天马微电子有限公司 一种有源矩阵有机发光二极管面板及其制造方法
US9704925B2 (en) 2013-03-04 2017-07-11 Joled Inc. EL display device
US10840468B2 (en) 2013-07-11 2020-11-17 Joled Inc. Organic EL element and method for manufacturing organic EL element
KR102110418B1 (ko) * 2013-07-12 2020-05-14 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
KR102164949B1 (ko) 2014-03-25 2020-10-14 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치, 이의 제조 방법 및 리페어 방법
WO2015166647A1 (ja) 2014-04-30 2015-11-05 株式会社Joled 有機発光デバイスの機能層の形成方法及び有機発光デバイスの製造方法
KR102201827B1 (ko) * 2014-09-16 2021-01-13 엘지디스플레이 주식회사 유기발광표시장치, 유기발광표시패널 및 그 제조방법
JP6500311B2 (ja) * 2014-12-12 2019-04-17 株式会社Joled 有機発光デバイス
CN104638147B (zh) * 2015-03-04 2017-01-25 京东方科技集团股份有限公司 一种像素界定层及oled器件
JP6741431B2 (ja) 2016-01-25 2020-08-19 株式会社Joled 表示パネル及びその製造方法
CN105810719B (zh) * 2016-05-27 2019-08-06 京东方科技集团股份有限公司 一种像素单元及其制备方法、阵列基板和显示装置
CN108132567B (zh) * 2017-12-28 2020-09-18 深圳市华星光电技术有限公司 一种阵列基板的过孔结构及光罩
JP7421284B2 (ja) 2019-08-09 2024-01-24 JDI Design and Development 合同会社 表示パネル、および、表示パネルの製造方法
CN110783483B (zh) * 2019-08-30 2022-06-28 昆山国显光电有限公司 显示面板及其制作方法和显示装置
CN110544713B (zh) * 2019-09-09 2022-08-26 合肥京东方卓印科技有限公司 显示面板及其制作方法
CN116868694A (zh) * 2021-02-18 2023-10-10 株式会社日本显示器 显示装置
CN113745428A (zh) * 2021-08-23 2021-12-03 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及移动终端

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6518621B1 (en) 1999-09-14 2003-02-11 General Semiconductor, Inc. Trench DMOS transistor having reduced punch-through
JP2003022035A (ja) * 2001-07-10 2003-01-24 Sharp Corp 有機elパネルおよびその製造方法
US6815903B2 (en) 2001-12-11 2004-11-09 Seiko Epson Corporation Display device and electronic apparatus
JP3627739B2 (ja) 2001-12-11 2005-03-09 セイコーエプソン株式会社 表示装置及び電子機器
KR100508002B1 (ko) * 2002-09-03 2005-08-17 엘지.필립스 엘시디 주식회사 노즐코팅을 이용한 유기 전계 발광 소자 제조 방법
JP4177309B2 (ja) * 2003-11-22 2008-11-05 三星エスディアイ株式会社 有機電界発光表示装置
JP2005270725A (ja) * 2004-03-23 2005-10-06 Sharp Corp パターン基板、パターン基板の製造方法、及びパターン基板の製造装置
JP4161956B2 (ja) * 2004-05-27 2008-10-08 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器
JP4168999B2 (ja) * 2004-11-30 2008-10-22 セイコーエプソン株式会社 発光材料及び有機el装置の製造方法
JP4211804B2 (ja) * 2006-05-19 2009-01-21 セイコーエプソン株式会社 デバイス、膜形成方法及びデバイスの製造方法
KR101367136B1 (ko) * 2007-07-27 2014-02-25 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
JP4439589B2 (ja) 2007-12-28 2010-03-24 パナソニック株式会社 有機elデバイスおよび有機elディスプレイパネル、ならびにそれらの製造方法
JP5478954B2 (ja) * 2008-07-11 2014-04-23 キヤノン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示装置
US7786481B2 (en) * 2008-08-26 2010-08-31 Lg Display Co., Ltd. Organic light emitting diode display and fabricating method thereof
JP2010097697A (ja) * 2008-10-14 2010-04-30 Seiko Epson Corp 有機el装置、有機el装置の製造方法、及び電子機器
KR101567119B1 (ko) 2008-12-26 2015-11-06 가부시키가이샤 제이올레드 유기 el 소자, 유기 el 표시 장치 및 유기 el 소자의 제조 방법
EP2239798A1 (en) * 2009-04-07 2010-10-13 Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Patterning the emission colour in top-emissive OLEDs

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