JP2010053177A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010053177A5 JP2010053177A5 JP2008216909A JP2008216909A JP2010053177A5 JP 2010053177 A5 JP2010053177 A5 JP 2010053177A5 JP 2008216909 A JP2008216909 A JP 2008216909A JP 2008216909 A JP2008216909 A JP 2008216909A JP 2010053177 A5 JP2010053177 A5 JP 2010053177A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- polymerizable
- double bond
- ethylenic double
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Claims (7)
- 活性エネルギー線により重合可能な重合性モノマーを含むエッチングレジスト用インクジェットインキ組成物であって、
25℃における粘度は、3〜50mPa・sであり、
前記重合性モノマーは全モノマー中に、
(1)下記一般式(I)で表される重合性エステル化合物1〜30質量%と、
(2)分子内に2個以上のエチレン性二重結合基を有し、リン酸エステル基を有さない多官能性モノマーであって、前記エチレン性二重結合基量が4×10−3〜8×10−3mol/gである多官能性モノマーを10〜75質量%と、
(3)分子内に1個のエチレン性二重結合基を有し、リン酸エステル基およびカルボキシル基を有さない単官能性モノマーを10〜75質量%含む、エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物。
- 前記重合性モノマーは、全モノマー中に、さらに、分子内にリン酸エステル基とエチレン性二重結合基を有する重合性リン酸エステル化合物を3〜10質量%含む、請求項1記載の組成物。
- 前記重合性エステル化合物は、前記一般式(I)におけるXがエチレン基である化合物である、請求項1記載の組成物。
- 金属板の上に請求項1記載の組成物を吐出する工程と、
活性エネルギー線を照射して前記組成物を硬化させる工程と、
前工程で得た金属板の表面をエッチングする工程と、
エッチングされた金属板をアルカリ液で処理して、前記硬化された組成物を除去する工程、を含むエッチング金属板の製造方法。 - 金属板と、前記金属板の表面の少なくとも一部を被覆する、重合性モノマーを含む活性エネルギー線硬化性インキ組成物の活性エネルギー線硬化物からなるエッチングレジスト膜とを有し、
前記重合性モノマーは全モノマー中に、
(1)下記一般式(I)で表される重合性エステル化合物1〜30質量%と、
(2)分子内に2個以上のエチレン性二重結合基を有し、リン酸エステル基を有さない多官能性モノマーであって、前記エチレン性二重結合基量が4×10 −3 〜8×10 −3 mol/gである多官能性モノマーを10〜75質量%と、
(3)分子内に1個のエチレン性二重結合基を有し、リン酸エステル基およびカルボキシル基を有さない単官能性モノマーを10〜75質量%含む、
樹脂被覆金属板。
- 前記重合性モノマーは、全モノマー中に、さらに、分子内にリン酸エステル基とエチレン性二重結合基を有する重合性リン酸エステル化合物を3〜10質量%含む、請求項6記載の樹脂被覆金属板。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008216909A JP5518311B2 (ja) | 2008-08-26 | 2008-08-26 | エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物 |
US12/933,938 US8425790B2 (en) | 2008-03-27 | 2009-01-27 | Ink-jet ink composition for etching resist |
DE112009000690T DE112009000690T5 (de) | 2008-03-27 | 2009-01-27 | Tintenstrahldruckfarbenzusammensetzung für Ätzresists |
KR1020107020474A KR101215459B1 (ko) | 2008-03-27 | 2009-01-27 | 에칭 레지스트용 잉크젯 잉크 조성물 |
PCT/JP2009/000309 WO2009118976A1 (ja) | 2008-03-27 | 2009-01-27 | エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物 |
CN200980109426.8A CN101978001B (zh) | 2008-03-27 | 2009-01-27 | 抗蚀用喷墨油墨组合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008216909A JP5518311B2 (ja) | 2008-08-26 | 2008-08-26 | エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010053177A JP2010053177A (ja) | 2010-03-11 |
JP2010053177A5 true JP2010053177A5 (ja) | 2010-10-14 |
JP5518311B2 JP5518311B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=42069429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008216909A Active JP5518311B2 (ja) | 2008-03-27 | 2008-08-26 | エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5518311B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011200763A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Nisshin Steel Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型インクジェットインキによって、樹脂皮膜でマスクされた金属板を製造する方法 |
EP2809735B1 (en) * | 2012-01-31 | 2018-05-30 | Agfa-Gevaert | Radiation curable etch resistant inkjet ink printing |
EP3000853B1 (en) * | 2014-09-29 | 2020-04-08 | Agfa-Gevaert | Etch-resistant inkjet inks for manufacturing conductive patterns |
JP6109896B2 (ja) | 2015-09-03 | 2017-04-05 | 日新製鋼株式会社 | 金属板からレジスト膜を除去する方法およびエッチングされた金属板の製造方法 |
WO2024134920A1 (ja) * | 2022-12-20 | 2024-06-27 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットインク組成物、記録物、インクジェット記録方法及びインクジェット記録システム |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57143367A (en) * | 1981-02-28 | 1982-09-04 | Sony Corp | Photo-setting coating film composition |
JPS59128536A (ja) * | 1983-01-14 | 1984-07-24 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 紫外線硬化用組成物 |
JPS59142258A (ja) * | 1983-02-04 | 1984-08-15 | Sony Corp | フオトレジスト用組成物 |
JPS61273536A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-03 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 画像形成材料とこの材料を用いた回路形成方法 |
JP2649716B2 (ja) * | 1988-12-06 | 1997-09-03 | 日本化薬株式会社 | 光重合性組成物 |
JPH02235909A (ja) * | 1989-03-10 | 1990-09-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光重合性組成物 |
JP2592733B2 (ja) * | 1991-10-04 | 1997-03-19 | 東亞合成株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
JP2649621B2 (ja) * | 1991-10-04 | 1997-09-03 | 東亞合成株式会社 | 裏止め材用紫外線硬化型樹脂組成物及びシャドウマスクの製造方法 |
JP3677372B2 (ja) * | 1997-05-08 | 2005-07-27 | 株式会社東芝 | 紫外線硬化性樹脂組成物 |
JP2001092129A (ja) * | 1999-09-24 | 2001-04-06 | Toshiba Corp | 紫外線硬化性樹脂組成物 |
JP2001354876A (ja) * | 2000-06-16 | 2001-12-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 活性エネルギー線硬化性組成物および硬化被膜 |
GB0221892D0 (en) * | 2002-09-20 | 2002-10-30 | Avecia Ltd | Process |
JP4290510B2 (ja) * | 2003-08-22 | 2009-07-08 | 太陽インキ製造株式会社 | インクジェット用光硬化性・熱硬化性組成物とそれを用いたプリント配線板 |
JP2006259094A (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 光架橋性樹脂組成物 |
JP5338027B2 (ja) * | 2006-12-22 | 2013-11-13 | Jnc株式会社 | 光硬化性インクジェット用インク |
JP5255307B2 (ja) * | 2008-03-27 | 2013-08-07 | 日新製鋼株式会社 | エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物 |
-
2008
- 2008-08-26 JP JP2008216909A patent/JP5518311B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009235272A5 (ja) | ||
JP6845851B2 (ja) | 硬化性ポリマー | |
JP7393863B2 (ja) | 硬化性ポリマー | |
EP3486724B1 (en) | Mixed-type photosensitive resin and preparation method therefor | |
JP7508226B2 (ja) | 硬化性組成物 | |
WO2010114077A1 (ja) | α-(不飽和アルコキシアルキル)アクリレート組成物及びその製造方法 | |
JP2010053177A5 (ja) | ||
JPWO2003089486A1 (ja) | 反応性希釈剤組成物及び硬化性樹脂組成物 | |
JP2008184568A5 (ja) | ||
TW200611075A (en) | Sacrificial film forming composition, pattern forming method, sacrificial film and method for removing the same | |
RU2012143825A (ru) | Отверждаемые под давлением клеи, имеющие в составе полимерные поверхностно-модифицированные наночастицы | |
CN109562596B (zh) | 含有环状结构基元、氨基甲酸酯/脲基连接单元和可自由基聚合的官能团的化合物 | |
JP2013527871A5 (ja) | ||
JP5164502B2 (ja) | ニトリル基含有ポリマー、その合成方法、ニトリル基含有ポリマーを用いた組成物、及び積層体 | |
JP2015021045A (ja) | 環状エーテル基含有(メタ)アクリレートからなる光学的立体造形用樹脂組成物 | |
JP2007510772A5 (ja) | ||
JP2005060520A5 (ja) | 硬化組成物とそれを用いたインクジェット用インク、硬化物形成方法、硬化物形成装置及びインクジェット記録装置 | |
JP2012520277A5 (ja) | ||
JP5770164B2 (ja) | ラジカル重合性樹脂、ラジカル重合性樹脂組成物、及びその硬化物 | |
JP2003048929A (ja) | 硬化性樹脂組成物 | |
CN112830982B (zh) | 一种胺助引发剂及其制备方法和应用 | |
JPH11148045A (ja) | 活性エネルギー線硬化型塗料組成物及びそれを用いた被膜形成方法 | |
CN115210224A (zh) | 可聚合的噻吨酮 | |
JPH08277321A (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
TW202112835A (zh) | 活性能量射線硬化型組成物 |