JP2010043569A - 排ガス浄化システム及びこれを用いた排ガス浄化方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】排ガス流路2にNOxを浄化する第1の触媒3を配置した排ガス浄化システム1において、第1の触媒3の上流側に、排ガス中の炭化水素からアセチレン及び/又はアセチレン以外の炭素数が2〜5の炭化水素を生成する第2の触媒4を配置した排ガス浄化システム1である。排ガス中の炭化水素全量に対して、第2の触媒4から第1の触媒3に供給されるアセチレン量は0.03以上であることが好ましい。
【選択図】図1
Description
ガソリンのリーン・バーンエンジン、直噴エンジン、更にはディーゼルエンジンからの排気ガスには、酸素が多く含まれており、従来の三元触媒では、窒素酸化物(NOx)を還元浄化することができない。特に、ディーゼルエンジンからの排気ガスを効率良く浄化するための種々の技術開発が進められている。
また、上記のような排ガス中の還元剤を増加すべく、排ガスの空燃比を急激に理論空燃比又はリッチにすることは、運転性や燃費の悪化を起こすために好ましくない。
また、NOx転化率(還元率)を高めるために、空燃比をリッチにすると、未反応のHC排出量が増加して排気悪化の要因になるため、該HCを除去するための触媒を追加する必要があった。
図1に示すように、本例の排ガス浄化システム1は、例えば、ディーゼルエンジン等の内燃機関5から排出される排ガスの流路2に、排ガス中のNOxを浄化する第1の触媒3と、この第1の触媒3の上流側に、排ガス中のHCからC2H2及び/又はC2H2以外の炭素数C2〜5のHCを生成する第2の触媒4を配置したものである。
HC変換触媒としては、白金(Pt)、ロジウム(Rh)又はパラジウム(Pd)、及びこれらの任意の混合物が挙げられる。
また、OSC材としては、遷移金属、具体的にはセリウム(Ce)、プラセオジム(Pr)の酸化物等が挙げられる。
第2の触媒4は、例えばコーディエライト製等のハニカム状のモノリス型担体4aに、排ガス中の炭化水素(HC)を酸化的脱水素反応又はクラッキング等によって、低級HCに変換するHC変換触媒を含むHC変換触媒層4cと、OSC材を含むHC変換触媒層4bを担持させたものである。
なお、ハニカム担体上に、HC変換触媒やOSC材を担持させる際には、アルミナ(Al2O3)等の高比表面積基材上に、HC変換触媒であるPt、Rh又はPd等の貴金属や、OSC材であるCe、Prの酸化物等を分散させたものを用いることができる。
また、HC変換触媒及び/又はOSC材を粒状化又はペレット化して、HC変換触媒、OSC材を各々別個に、又は、HC変換触媒とOSC材とを合わせて容器に充填して排ガス流路に配置してもよい。
第2の触媒4において、表面に近いほどHC変換触媒の含有量を増大させる方法としては、例えば表面に近いほど貴金属の含有量が大きくなるスラリを複数層塗り重ねて、表面に近いほど貴金属量の含有量が大きくなる触媒層を形成する方法が挙げられる。
第2の触媒4に担持させるHC変換触媒量が2.8〜12.0g/Lであると、酸化的脱水素反応により、排ガス中に含まれるHCを効率的にC2〜5の低級HCに分解すると共に、H2、COを含む還元ガスを生成することができる。
HC変換触媒は、排ガス中の酸素濃度が0.8〜1.5vol%程度の少量のO2を活用して、排ガス中のHCからC2〜5の低級HCと共に、H2やCOを生成できるものであることが好ましい。
また、HC変換触媒は、200℃以上で活性化するものであることが好ましい。
図3に示すように、第2の触媒4に含まれるOSC材4d(例えばCeO2)は、空燃比がリーンであるときに、排ガス中の酸素を吸蔵する(CeO2←→Ce2O3)。空燃比がストイキ又はリッチの時に、排ガス中のHC、例えばC10H22が、OSC材4dから酸素(酸素イオン;O*)を奪い、HC変換触媒4eの作用による酸化的脱水素反応により、C2H2や、C2〜5の低級HC(例えばエチレンC2H4等)を生成し、これらの低級HCと共に、H2やCOを含む還元ガスを生成する。
そして、第2の触媒で生成されたH2やCOを含む還元ガスが、下流側に配置された第1の触媒3に供給される。
第2の触媒4で生成されるC2H2や、C2H2以外のC2〜5の低級HCのうち、多重結合、特に、二重結合を有するC2〜5のオレフィン系HCの量が多い程、これらのHCと共に生成されるH2やCOの量が多くなり、第1の触媒3に必要十分な量の還元剤を供給することができる。
第2の触媒4から第1の触媒3に供給されるC2H2量が、排ガス中のHC全量に対して、0.03以上であると、NOxの還元に有効な必要十分量の還元ガスを、第1の触媒3に供給することができ、NOxをN2に還元するNOx転化率を向上させることができる。
光学活性の低いメタンを除いた排ガス中のNMHC全量に対して、第2の触媒4から第1の触媒3に供給されるC2H2量が0.17以上であると、光化学スモッグの原因となりやすいNMHC量を低減して、NOxの浄化に必要な十分量の還元剤(H2、CO等)を含む還元ガスを第1の触媒3に供給することができる。
第2の触媒4における酸化的脱水素反応により、C2〜5の低級HCの生成量が多いほど、H2の生成量も多くなり、多量にH2を含む還元ガスを第1の触媒3に供給して、NOxの浄化効率を向上させることができる。
第2の触媒4におけるC2H2以外のC2〜5の低級HCの生成量が多いほど、第1の触媒3におけるNOxの浄化効率は高くなる傾向にある。第2の触媒4で生成されたC2H2以外のC2〜5の低級HCは、第1の触媒3において部分酸化反応や酸化的脱水素反応が促進されて、更に多くのH2やCOが生成されて還元剤として有効に利用されるため、NOxの浄化効率を向上させることができる。また、C2〜5の低級HCは、C5を超えるHCよりも反応性が高いことから、第1の触媒3において、C2〜5の低級HCが還元剤としても作用し、NOxの浄化効率を向上させる。
第2の触媒で生成されるC2〜5のオレフィン系HCの量は、第2の触媒から第1の触媒に供給される排ガス中のC2〜5のHC全量に対して、好ましくは0.6以上(C2〜5のオレフィン系HC量/C2〜5のHC全量≧0.6)、より好ましくは0.8以上(C2〜5のオレフィン系HC量/C2〜5のHC全量≧0.8)である。
これは第2の触媒でオレフィン系HCと共に生成される還元剤(H2,CO)の量が増大し、第1の触媒におけるNOxの浄化効率を向上させるだけではなく、第2の触媒で生成されたC2〜5のオレフィン系HCが、第1の触媒3において部分酸化反応や酸化的脱水素反応が促進されて、更に多くのH2やCOが生成されて還元剤として有効に利用されるため、NOxの浄化効率を向上させると推測される。
図4に示すように、本例の第1の触媒3は、ハニカム担体3a上に、NOxトラップ材と浄化触媒を含むNOxトラップ触媒層3bが形成されたものを用いている。本例の第1の触媒3としては、NOxトラップ触媒層3bとハニカム担体3aとの間に、更にHCトラップ材層としてゼオライト層3cを設けたものを用いてもよい。
浄化触媒としては、白金(Pt)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、銅(Cu)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、マンガン(Mn)又は亜鉛(Zn)、及びこれらの任意の混合物を挙げることができる。
しかし、NOxトラップ材のトラップ機能を十分に発揮させるためには、NOxトラップ材と、HCトラップ材とを分けて設置することが好ましく、HCトラップ材を排ガス流路の上流側に、NOxトラップ材を下流側に配置することが好ましい。
NOxトラップ材とHCトラップ材をハニカム担体上に積層する場合には、HCトラップ材を表層側に、NOxトラップ材をハニカム担体に近い内層側に配置することが好ましい。浄化触媒は、排ガスと最も接触し易い、上流側又は表層側に配置することが好ましい。
図5に示すように、本例の排ガス浄化システムは、エンジンシステム10の排気系である排ガス流路2に、NOxを浄化する第1の触媒3を装着し、この第1の触媒3の上流側に第2の触媒4を装着している。また、第1の触媒3の下流側には、DPF6(ディーゼルパティキュレートフィルタ)を装着している。
第2の触媒4の入口側には、排ガス中の空気過剰率λを測定する第1のλセンサ7を備え、第1の触媒3の出口側には、第1の触媒3及び第2の触媒4を通過した排ガス中の空気過剰率λを測定する第2のλセンサ8を備えている。
更に、DPF6は、入口側と出口側の各々に温度センサ9a,9bと、DPF6の入口側と出口側の差圧を測定する差圧センサ9cを備えている。
また、図示を省略したが、第2の触媒4と第1の触媒3との間には、排ガス中のHC量、C2H2量、C2〜5のHC量、C2〜5のオレフィン系HC量を測定するセンサ等を備えていてもよい。また、第1の触媒3の下流側には、第1の触媒3から排出される排ガス中のH2を測定するセンサを備えていてもよい。
O2制御手段としては、排ガス中の酸素濃度、具体的には第2の触媒の入口における排ガス中の酸素濃度を制御する機能を有するものであれば、吸入可変バルブ装置12やEGRバルブ装置14等に限定されるものではない。O2制御手段等を作動させる手段としては、特に特許第3918402号に開示されている予測制御に基づく手段が有効である。
排ガス中に燃料を供給する手段としては、エンジン本体5に燃料を噴射する燃料噴射弁5a(図5参照)や、排ガス流路2に直接燃料を噴射するインジェクタ16(図6参照)が挙げられる。インジェクタ16を設ける場合は、燃料中のHCを効率良く酸化的脱水素反応又はクラッキングするために、インジェクタ16を第2の触媒4の上流側に配置することが好ましい。
ポスト噴射とは、エンジン本体5の主燃焼後の膨張工程や排気工程で追加的に燃料を噴射することをいう。
本例の排ガス浄化システムにおいて、空燃比がリーンの時に、第2の触媒4では、酸素をOSC材を含むHC変換触媒層4bに吸収させ、第1の触媒3では、NOxをNOxトラップ材に吸収させる。なお、第1の触媒3がHCトラップ材層3cを有するものである場合は、排ガス温度が低いときに、第2の触媒4から供給されたC2〜5の低級HCがHCトラップ材層3cに吸収される。
空燃比がストイキ又はリッチの時に、排ガス中の酸素が、酸素濃度0.8〜1.5vol%と少量であれば、排ガス中の未燃HCがOSC材に吸収されていた酸素を奪って、酸化的脱水素反応により、C2〜5の低級HCと共にH2等の還元ガスが生成され易い。そのため、空燃比がストイキ又はリッチの時に、排ガス中の酸素濃度が0.8〜1.5vol%であれば、NOxトラップ材から放出されたNOxを還元するのに必要十分な量のH2等を含む還元ガスを、第2の触媒4から第1の触媒3に供給し易い。
そのため、第1の触媒3でNOxが還元される、空燃比がストイキ又はリッチの時に、第2の触媒4を200℃以上にすることが好ましい。
そして、空燃比がストイキ又はリッチの時に、第1の触媒3のHCトラップ材層3cに吸収されていたC2〜5の低級HCを放出させる。
空燃比がストイキ又はリッチの時には、O2制御手段により、排ガス中の酸素濃度が0.8〜1.5vol%に制御されている。この酸素濃度が制御された雰囲気下、HCトラップ材層3cから放出されたC2〜5の低級HCは、第1の触媒3における部分的酸化反応又は酸化的脱水素反応により、有効に利用されてH2等の還元剤を生成し、NOxの浄化効率を向上させることができる。
<HC変換触媒(A)の製造>
γ−アルミナ粉末をロジウム(Rh)濃度6%の硝酸ロジウム(Rh(NO3)3)水溶液に含浸し、120℃で一昼夜乾燥して、水分を飛ばし、450℃で1時間焼成して、Rh担持量が1%のHC変換触媒粉末aを得た。
この触媒粉末a:207gと、γ−アルミナ:603gと、アルミナゾル:90gと、水:900gを磁性ボールミルに投入し、平均粒径が3.8μmになるまで湿式混合粉砕し、HC変換触媒スラリAを得た。
モル比で、セリウム:プラセオジム=0.7:0.3の複合酸化物粉末を、パラジウム(Pd)濃度が6%の硝酸パラジウム(Pd(NO3)3)水溶液に含浸し、120℃で一昼夜乾燥して、水分を飛ばし、600℃で焼成して、Pd担持量が4%のOSC材を含むHC変換触媒粉末bを得た。
OSC材を含むHC変換触媒粉末b:578gと、モル比でセリウム:プラセオジム=0.7:0.3となる複合酸化物粉末:232gと、アルミナゾル:90gと、水:900gを磁性ボールミルに投入し、平均粒径が3.8μmになるまで湿式混合粉砕し、OSC材を含むHC変換触媒スラリBを得た。
コーディエライト製のハニカム状モノリス担体(0.92L、400cpsi)上に、HC変換触媒スラリAをコーティングし、セルに付着した余剰スラリを圧縮空気流により取り除き、130℃で乾燥した後、450℃で1時間焼成することにより、ハニカム担体上に、コート量100g/LのHC変換触媒層Aを形成した。
次に、HC変換触媒層Aの上に、OSC材を含むHC変換触媒スラリBをコーティングし、HC変換触媒スラリAと同様に、圧縮空気流にてセル内の余剰のスラリを取り除き、130℃で乾燥した後、450℃で1時間焼成することにより、HC変換触媒層Aの上に、コート量100g/LのOSC材を含むHC変換触媒層Bを形成し、ハニカム担体上に、HC変換触媒層Aと、OSC材を含むHC変換触媒層Bとを有する第2の触媒(1)を製造した。
なお、第2の触媒(1)に担持させたHC変換触媒層AにおけるRh担持量は、0.23g/Lであり、OSC材を含むHC変換触媒層BにおけるPd担持量は、2.57g/Lである。
<HC変換触媒(C)の製造>
γ−アルミナ粉末をロジウム(Rh)濃度6%の硝酸ロジウム(Rh(NO3)3)水溶液に含浸し、120℃で一昼夜乾燥して、水分を飛ばし、450℃で1時間焼成して、ロジウム担持量が4%のHC変換触媒粉末cを得た。
このHC変換触媒粉末c:207g、γ−アルミナ:603gと、アルミナゾル:90gと、水:900gを磁性ボールミルに投入し、平均粒径が3.8μmになるまで湿式混合粉砕し、HC変換触媒スラリCを得た。
モル比で、セリウム:プラセオジム=0.7:0.3となる複合酸化物粉末を、パラジウム(Pd)濃度が6%の硝酸パラジウム(Pd(NO3)3)水溶液に含浸し、120℃で一昼夜乾燥して、水分を飛ばし、600℃で焼成して、Pd担持量が16%のOSC材を含むHC変換触媒粉末dを得た。
OSC材を含むHC変換触媒d:578gと、モル比で、セリウム:プラセオジム=0.7:0.3の複合酸化物粉末:232gと、アルミナゾル:90gと、水:900gを磁性ボールミルに投入し、平均粒径が3.8μmになるまで湿式混合粉砕し、OSC材を含むHC変換触媒スラリDを得た。
コーディエライト製のハニカム状モノリス担体(0.92L、400cpsi)上に、HC変換触媒スラリCをコーティングし、セルに付着した余剰スラリを圧縮空気流により取り除き、130℃で乾燥した後、450℃で1時間焼成することにより、ハニカム担体上に、コート量100g/LのHC変換触媒層Cを形成した。
次に、HC変換触媒層Cの上に、OSC材を含むHC変換触媒スラリDをコーティングし、HC変換触媒スラリCと同様に、圧縮空気流にてセル内の余剰のスラリを取り除き、130℃で乾燥した後、450℃で1時間焼成することにより、HC変換触媒層Cの上に、コート量100g/LのOSC材を含むHC変換触媒層Dを形成し、ハニカム担体上に、HC変換触媒層Cと、OSC材を含むHC変換触媒層Dとを有する第2の触媒(2)を得た。
なお、第2の触媒(2)に担持させたHC変換触媒層CにおけるRh担持量は、0.95g/Lであり、OSC材を含むHC変換触媒層DにおけるPd担持量は、10.3g/Lである。
先ず、酢酸セリウム(Ce(CH3CO2)3)水溶液と酢酸バリウム(Ba(CH3CO2)2)の混合水溶液中にアルミナを投入して、約1時間室温で撹拌し、120℃で一昼夜乾燥し、水分を除去した後に、大気中において600℃で約1時間焼成し、焼成粉を得た。この焼成粉を、白金濃度2%のテトラアンミン白金水酸塩溶液(pH=10.5)に含浸させて、120℃で1昼夜乾燥し、水分を除去した後、450℃で1時間焼成することにより、Pt担持量が1%、Ba担持量がBaOとして8%、Ce担持量がCeO2として20%になる触媒粉末eを得た。
上記触媒粉末f:317g、触媒粉末g:454g、アルミナ:38g、アルミナゾル:90g、水:900gを磁性ボールミルに投入し、平均粒径が3.0μmになるまで湿式混合粉砕し、触媒スラリFを得た。
次に、このゼオライト層上に、触媒スラリEをコーティングし、同様に圧縮空気流にてセル内の余剰スラリを取り除いて、130℃で乾燥した後、450℃で1時間焼成することにより、ゼオライト層上に、コート量220g/Lの触媒層(第2層:HCトラップ材及びNOxトラップ触媒の共存層)を形成した。
更に、この触媒層の上に、触媒スラリFをコーティングし、同様に圧縮空気流にてセル内の余剰スラリを取り除いて、130℃で乾燥した後、450℃で1時間焼成することにより、触媒層(第2層)上に、コート量100g/Lの触媒層(第3層:NOxトラップ触媒層)を形成した。
図5に示すように、日産自動車株式会社製直列4気筒2500cc直噴ディーゼルエンジン5の排ガス流路2の上流側に第2の触媒4(実施例1(第2の触媒(1))又は実施例2(第2の触媒(2))を装着し、この第2の触媒4の下流側に第1の触媒3を装着した。
また、比較例として、第2の触媒4を装着せず、第1の触媒3のみを排ガス流路2に装着した排ガス浄化システムを形成した。
そして、リーン(A/F=30)で40秒間運転した後、リッチ(A/F=11.7)で2秒間運転する操作を繰り返し、このリッチ区間における第2の触媒4から第1の触媒3に供給される排ガス中のHC全量に対するC2H2量をガスクロマトグラフ質量分析計により測定した。また、リッチ区間における第1の触媒3のNOx転化率を化学発光法NOx分析計を用いて触媒前後のNOx濃度を測定して求めた。結果を図7に示す。
また、第2の触媒におけるC2H2生成倍率に対するH2生成濃度をガスクロマトグラフ質量分析計により求めた。結果を図8に示す。
また、第2の触媒4から第1の触媒3に供給される排ガス中のNMHC全量に対するC2H2量を上述の方法と同様にして求めた。結果を図9に示す。
なお、リッチスパイク時の排ガス中の酸素濃度は、特許第3918402号に開示された方法に従い、0.8〜1.2vol%に制御した。
使用燃料は、市販のJIS2号軽油であり、第2の触媒4の入口温度は220℃に設定した。
これは空燃比をリーンからリッチに切り替えた時に、第2の触媒で酸化的脱水素反応とこれに伴う縮合によって、排ガス中のHCからC2H2とH2等が生成され、NOxを還元するために必要十分な量の還元剤が第1の触媒4に十分に供給されるためである。
上記排ガス浄化システムによって、性能試験Iと同様にして、リッチ区間における第2の触媒4から第1の触媒3に供給される排ガス中のHC全量に対するC2〜5のHC量をガスクロマトグラフ質量分析計により測定した。また、リッチ区間における第1の触媒3のNOx転化率を化学発光法NOx分析計を用いて触媒前後のNOx濃度を測定して求めた。結果を図10に示す。
これは空燃比をリーンからリッチに切り替えた時に、第2の触媒で酸化的脱水素反応とこれに伴う縮合によって、排ガス中の未燃HCからC2〜5の低級HCと共にH2が生成され、還元剤となるH2が第1の触媒に十分に供給されるためである。また、C2〜5の低級HCは、C5を超えるHCよりも反応性が高いことから、第1の触媒において、還元剤としても作用し、NOxの浄化効率を向上させていると考えられる。
上記排ガス浄化システムによって、性能試験Iと同様にして、リッチ区間における第2の触媒4から第1の触媒3に供給される排ガス中のC2〜5のHC全量に対する、C2H2以外のC2〜5のHC量をガスクロマトグラフ質量分析計により測定した。また、リッチ区間における第1の触媒3のNOx転化率を化学発光法NOx分析計を用いて触媒前後のNOx濃度を測定して求めた。結果を図11に示す。
これは空燃比をリーンからリッチに切り替えた時に、排ガス中のHCからC2〜5の低級HCとH2が生成され、H2と共に、C2H2以外のC2〜5の低級HCも第1の触媒において還元剤として作用するためと考えられる。
上記排ガス浄化システムによって、性能試験Iと同様にして、リッチ区間における第2の触媒4から第1の触媒3に供給される排ガス中のC2〜5のHC全量に対する、C2〜5のオレフィン系HC量をガスクロマトグラフ質量分析計により測定した。また、リッチ区間における第1の触媒3のNOx転化率を化学発光法NOx分析計を用いて触媒前後のNOx濃度を測定して求めた。結果を図12に示す。また、リッチ区間において、第1の触媒3の出口における排ガス中のH2の残存率をガスクロマトグラフ質量分析計により測定した。結果を図13に示す。
2 排ガス流路
3 第1の触媒
3a ハニカム担体
3b NOxトラップ触媒層
3c HCトラップ材
4 第2の触媒
4a ハニカム担体
4b OSC材を含むHC変換触媒層
4c HC変換触媒層
4d OSC材
4e HC変換触媒
5 エンジン本体(内燃機関)
5a 燃料噴射弁
6 DPF
7,8 λセンサ
9a,9b 温度センサ
9c 差圧センサ
10 エンジンシステム
11 エアマスフローメーター
12 吸入空気可変バルブ
13 EGR通路
14 EGRバルブ装置
15 過給機
16 インジェクタ
Claims (16)
- 排ガス流路にNOxを浄化する第1の触媒を配置した排ガス浄化システムにおいて、
上記第1の触媒の上流側に、排ガス中の炭化水素からアセチレン及び/又はアセチレン以外の炭素数が2〜5の炭化水素を生成する第2の触媒を配置したことを特徴とする排ガス浄化システム。 - 排ガス中の炭化水素全量に対して、上記第2の触媒から第1の触媒に供給されるアセチレン量が0.03以上であることを特徴とする請求項1に記載の排ガス浄化システム。
- 排ガス中の非メタン炭化水素全量に対して、上記第2の触媒から第1の触媒に供給されるアセチレン量が0.17以上であることを特徴とする請求項2に記載の排ガス浄化システム。
- 排ガス中の炭化水素全量に対して、上記第2の触媒から第1の触媒に供給される炭素数が2〜5の炭化水素量が0.1以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つの項に記載の排ガス浄化システム。
- 上記第2の触媒から第1の触媒に供給される排ガス中の炭素数が2〜5の炭化水素全量に対して、アセチレン以外の炭素数が2〜5の炭化水素量が0.05以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つの項に記載の排ガス浄化システム。
- 上記アセチレン以外の炭素数が2〜5の炭化水素が、オレフィン系炭化水素を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つの項に記載の排ガス浄化システム。
- 上記第2の触媒から第1の触媒に供給される排ガス中の炭素数が2〜5の炭化水素全量に対して、炭素数が2〜5のオレフィン系炭化水素量が0.6以上であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つの項に記載の排ガス浄化システム。
- 上記第2の触媒から第1の触媒に供給される排ガス中の炭素数が2〜5の炭化水素全量に対して、炭素数が2〜5のオレフィン系炭化水素量が0.8以上であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つの項に記載の排ガス浄化システム。
- 上記第2の触媒は、白金、ロジウム及びパラジウムから成る群より選ばれた少なくとも1種のものを含むHC変換触媒と、酸素を吸蔵する能力を有するOSC材とを有するものであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1つの項に記載の排ガス浄化システム。
- 上記第2の触媒において、排ガスと接触する表面に近いほど、上記HC変換触媒の含有量を増大させたことを特徴とする請求項9に記載の排ガス浄化システム。
- 上記HC変換触媒量が2.8〜12.0g/Lであることを特徴とする請求項9又は10に記載の排ガス浄化システム。
- 排ガス中に燃料を供給する手段を備えたことを特徴とする請求項1〜11のいずれか1つの項に記載の排ガス浄化システム。
- 上記第1の触媒は、NOxトラップ材と浄化触媒とを有するものであることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1つの項に記載の排ガス浄化システム。
- 上記第1の触媒は、更にHCトラップ材を有するものであることを特徴とする請求項13に記載の排ガス浄化システム。
- 請求項1〜14のいずれか1つの項に記載の排ガス浄化システムを用いる排ガス浄化方法であって、空燃比が理論空燃比又はリッチのときに、排ガス中の酸素濃度が0.8〜1.5vol%となるようにすることを特徴とする排ガス浄化方法。
- 空燃比が理論空燃比又はリッチのときに、上記第2の触媒を200℃以上にすることを特徴とする請求項15に記載の排ガス浄化方法。
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