JP2010021418A - 面発光レーザの製造方法および面発光レーザと面発光レーザアレイならびに光走査装置と画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電流狭窄領域を形成する被選択酸化層を含むメサ構造体を基板上に設けた垂直共振器型の面発光レーザであって、メサ構造体の底部周囲に基板に対して凹みを設け、凹みから当該メサ構造体の底部の外径を計測し、計測した外径値(A)と、メサ構造体に形成された上部半導体DBR層2ペア分の膜厚(B)およびメサ構造体のテーパ角度(C)を用いて、式「Tan(C)=B÷{(A−M)÷2}」により、被選択酸化層の外径(M)を算出し、算出した被選択酸化層の外径(M)と、所望の電流狭窄領域の半径(OA)および酸化速度(V)を用いて、式「T=(M−OA)÷V」により、電流狭窄領域を形成する工程の処理時間(T)を算出し、算出した時間(T)で、被選択酸化層に対する酸化処理を行い電流狭窄領域を形成する。
【選択図】図1
Description
Claims (13)
- 電流狭窄領域を形成する被選択酸化層を含むメサ構造体を基板上に設けた垂直共振器型の面発光レーザであって、
上記メサ構造体の底部周囲に上記基板に対して凹みを具備したことを特徴とする面発光レーザ。 - 請求項1に記載の面発光レーザであって、
上記メサ構造体の底部を、垂直共振器領域の途中に設けたことを特徴とする面発光レーザ。 - 請求項1もしくは請求項2のいずれかに記載の面発光レーザであって、
上記メサ構造体の底部を、垂直共振器領域中の活性層を形成する多重量子井戸の少なくとも一つより下に設けたことを特徴とする面発光レーザ。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の面発光レーザであって、
上記メサ構造体のテーパ角度を78度〜73度で形成したことを特徴とする面発光レーザ。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の面発光レーザを複数有することを特徴とする面発光レーザアレイ。
- 光ビームによって被走査面上を走査する光走査装置であって、
請求項1から請求項4のいずれかに記載の面発光レーザを有する光源ユニットと、
該光源ユニットの上記面発光レーザからの光ビームを偏向する偏向手段と、
該偏向手段により偏向された光ビームを被走査面上に集光する走査光学系と
を有することを特徴とする光走査装置。 - 複数の光ビームによって被走査面上を走査する光走査装置であって、
請求項5に記載の面発光レーザアレイを有する光源ユニットと、
該光源ユニットの上記面発光レーザアレイからの複数の光ビームを偏向する偏向手段と、
該偏向手段により偏向された複数の光ビームを被走査面上に集光する走査光学系と
を有することを特徴とする光走査装置。 - 少なくとも1つの像担持体と、
該像担持体に対して画像情報が含まれる光ビームを走査する少なくとも1つの請求項6に記載の光走査装置と、
該光走査装置により上記像担持体に形成された像を転写対象物に転写する少なくとも1つの転写手段と
を有することを特徴とする画像形成装置。 - 少なくとも1つの像担持体と、
該像担持体に対して画像情報が含まれる複数の光ビームを走査する少なくとも1つの請求項7に記載の光走査装置と、
該光走査装置により上記像担持体に形成された像を転写対象物に転写する少なくとも1つの転写手段と
を有することを特徴とする画像形成装置。 - 電流狭窄領域を形成する被選択酸化層を含むメサ構造体を基板上に設けた垂直共振器型の面発光レーザの製造方法であって、
上記メサ構造体の底部周囲に上記基板に対して凹みを設ける手順と、
該手順で設けた凹みから当該メサ構造体の底部の外径を計測する手順と、
該手順で計測した外径値(A)と、上記メサ構造体に形成された上部半導体DBR層2ペア分の膜厚(B)および上記メサ構造体のテーパ角度(C)を用いて、式「Tan(C)=B÷{(A−M)÷2}」により、上記被選択酸化層の外径(M)を算出する手順と、
該手順で算出した上記被選択酸化層の外径(M)と、所望の電流狭窄領域の半径(OA)および酸化速度(V)を用いて、式「T=(M−OA)÷V」により、電流狭窄領域を形成する工程の処理時間(T)を算出する手順と、
該手順で算出した時間(T)で、上記被選択酸化層に対する酸化処理を行い上記電流狭窄領域を形成する手順と
を含むことを特徴とする面発光レーザの製造方法。 - 請求項10に記載の面発光レーザの製造方法であって、
上記メサ構造体を形成するエッチング時に、SiCl4ガスを0.5sccm〜3.0sccmの範囲の供給量で供給して、上記メサ構造体の底部周囲の上記基板に対する凹みを形成することを特徴とする面発光レーザの製造方法。 - 請求項10に記載の面発光レーザの製造方法であって、
上記メサ構造体を形成するエッチング時に、SiCl4ガスを0.9sccm〜1.2sccmの範囲の供給量で供給して、上記メサ構造体の底部周囲の上記基板に対する凹みを形成することを特徴とする面発光レーザの製造方法。 - 電流狭窄領域を形成する被選択酸化層を含むメサ構造体を基板上に設けた垂直共振器型の面発光レーザであって、
請求項10から請求項12のいずれかに記載の面発光レーザの製造方法により製造されたことを特徴とする面発光レーザ。
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