JP6891510B2 - 面発光レーザ素子の製造方法 - Google Patents
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Description
(面発光レーザ素子の概要)
図1は、第1の実施の形態に係る面発光レーザ素子の一例を示す断面図である。図1に示すように、面発光レーザ素子10は柱状構造110(メサ構造)を有している。面発光レーザ素子10の上部から視た柱状構造110の形状は、円形であってもよく、楕円形、正方形、長方形等であってもよい。面発光レーザ素子10では、基板101と反対側(図1の矢印L方向)にレーザ光が出射される。面発光レーザ素子10の発振波長λは任意に設定することが可能であるが、例えば、約780nmや約895nmとすることができる。
図3及び図4は、第1の実施の形態に係る面発光レーザ素子の製造工程を例示する図である。なお、図3及び図4では、1つの柱状構造110を図示するが、柱状構造110が所定間隔で複数個配列されたアレイ構造(面発光レーザアレイ素子)である場合も同様の製造工程により製造できる。
第2の実施の形態では、第1の実施の形態に係る面発光レーザ素子を画像形成装置であるレーザプリンタ1000に搭載する例を示す。なお、第2の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
101 基板
102 下部ブラッグ反射鏡(下部DBR)
103 下部スペーサ層
104 活性層
105 上部スペーサ層
106 上部ブラッグ反射鏡(上部DBR)
108 電流狭窄層
108a 選択酸化領域
108b 電流狭窄領域
109 コンタクト層
110 柱状構造(メサ構造)
110a 底面
111 保護膜
112 上部電極
113 下部電極
120 共振器
1000 レーザプリンタ(画像形成装置)
1010 光走査装置
Claims (3)
- 基板上に下部ブラッグ反射鏡、活性層を含む共振器、及び上部ブラッグ反射鏡を積層する工程と、
前記活性層より上層のみをエッチングし、前記活性層より上層のみにより柱状構造を形成する工程と、
前記柱状構造を形成する工程の後、前記活性層がエッチングされていないことを非破壊で確認する工程と、を有し、
前記非破壊で確認する工程では、前記柱状構造、及び前記柱状構造の周辺のPL強度プロファイルを測定して前記活性層がエッチングされていないことを確認する
面発光レーザ素子の製造方法。 - 基板上に下部ブラッグ反射鏡、活性層を含む共振器、及び上部ブラッグ反射鏡を積層する工程と、
前記活性層より上層のみをエッチングし、前記活性層より上層のみにより柱状構造を形成する工程と、
前記柱状構造を形成する工程の後、前記活性層がエッチングされていないことを非破壊で確認する工程と、を有し、
前記柱状構造を形成する工程では、所定間隔で複数個配列された柱状構造を形成し、前記非破壊で確認する工程では、各々の前記柱状構造、及び隣接する前記柱状構造の間のPL強度プロファイルを測定して前記活性層がエッチングされていないことを確認する
面発光レーザ素子の製造方法。 - 前記柱状構造は、ドライエッチングを含むエッチング工程により形成される請求項1または2に記載の面発光レーザ素子の製造方法。
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