JP2009263709A - 酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットと、それを用いて得られる酸化亜鉛薄膜を有する表示素子及び太陽電池 - Google Patents
酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットと、それを用いて得られる酸化亜鉛薄膜を有する表示素子及び太陽電池 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009263709A JP2009263709A JP2008113303A JP2008113303A JP2009263709A JP 2009263709 A JP2009263709 A JP 2009263709A JP 2008113303 A JP2008113303 A JP 2008113303A JP 2008113303 A JP2008113303 A JP 2008113303A JP 2009263709 A JP2009263709 A JP 2009263709A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- zinc oxide
- additive element
- oxide thin
- additive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/546—Polycrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
スパッタ法の量産性,大面積化対応性を維持しつつ、透明導電膜としての電気特性を向上させる。
【解決手段】
酸化亜鉛を主成分とする酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットにおいて、元素種として亜鉛(Zn)及び酸素(O)以外の少なくとも1種類以上の元素種を有する添加元素Xを含み、その添加元素Xが薄膜中で酸素を含まない化合物であり、ここでいう添加元素Xの化合物とは、常温常圧で固体であって、X=B,Al,Ga,In,C,Si,Ge,Sn,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Y,Zr,Nb,Mo,Tc,Ru,Rh,Pd,Ag,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Au,Li,Na,K,Rb,Cs,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,N,P,As,Sb,S,Se,Te,F,Cl,Br,Iの中から、1種類以上選ばれた化合物である。
【選択図】図1
Description
X=B,Al,In,C,Si,Ge,Sn,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Y,Zr,Nb,Mo,Tc,Ru,Rh,Pd,Ag,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Au,Li,Na,K,Rb,Cs,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,N,P,As,Sb,S,Se,Te,F,Cl,Br,Iの中から、1種類以上選ばれた化合物である。また、ここでいう添加元素Yを含む酸化物状態の化合物とは、常温常圧で固体であって、X=B,Al,In,C,Si,Ge,Sn,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Y,Zr,Nb,Mo,Tc,Ru,Rh,Pd,Ag,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Au,Li,Na,K,Rb,Cs,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,N,P,As,Sb,S,Se,Te,F,Cl,Br,Iの中から、1種類以上選ばれた化合物である。このような化合物を備える酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲット及び、そのターゲットから生成される酸化亜鉛薄膜は、最適な組成の酸化亜鉛を広い面積にわたって容易に得られるため、任意の基板上に、より稠密で、欠陥の少ない薄膜となる。また、この酸化亜鉛薄膜を用いた透明電極は、任意の基板上に酸素量を制御された所望の結晶性を有する酸化亜鉛薄膜を主体とするため、電気特性に優れたものとなる効果を奏する。
次に、このような構造のスパッタターゲットを具体的に作製した手順について説明する。
最初に、本発明の酸化亜鉛ターゲット及びそれを用いた薄膜の別の形態について説明する。
次に、母体材料は実施例1と同じとし、添加元素用原料粉末には、酸化物でない状態の添加元素としてニッケル粉末(高純度化学製,純度3N,平均粒径63μm)を原料に、メカニカルミリング法によってより微細な粉末とし、それを篩でいくつかの粒径に分級(平均直径3μm,10μm,20μm)したもの、及び原料の粉末そのものを用いた。また、比較のための酸化物状態のみからなる添加元素として、一酸化ニッケル粉末(高純度化学製,純度3N,平均粒径7μm)も準備した。それらのターゲット,スパッタ薄膜の作製方法や、評価方法は、実施例1と同様である。
添加元素として、非酸化物状態のものと、酸化物状態のものとの、2種類のものを含む酸化亜鉛ターゲット及びそれを用いた薄膜について説明する。
これまでの実施例では、添加元素としての非酸化物状態のものは、ただ1種類の元素からなるもの、すなわち単元素状態のものについて例示してきた。
次に、母体材料は実施例1と同じとし、添加元素用原料粉末には、酸化物でない状態の添加元素としてバナジウム粉末(高純度化学製,純度2N,平均粒径75μm)を原料に、メカニカルミリング法によってより微細な粉末とし、それを篩でいくつかの粒径に分級(平均直径10μm)したもの、及び原料の粉末そのものを用いた。また、比較のための酸化物状態のみからなる添加元素として、五酸化バナジウム粉末(高純度化学製,純度4N,平均粒径75μm)も同様にメカニカルミリング,分級(平均直径10μm)したものも準備した。それらのターゲット,スパッタ薄膜の作製方法や、評価方法は、実施例1と同様である。
2 酸化亜鉛粒子
3 酸化物状態でない状態を含む添加元素X粒子
4 酸化物状態の添加元素Y粒子
5,5′,15,25,32 透明電極
6,6′ 配向膜
7 ブラックマトリクス
8 液晶層
9 RGBカラーフィルタ
10,10′,28,31 ガラス基板
11,11′ 偏光板
12,12′ 接着材
13 蛍光灯
14,14′ 駆動回路
16 前面ガラス基板
17 バス電極
18,21 誘電体層
19 保護層
20,29 隔壁
22 表示電極
23 蛍光体
24 背面ガラス基板
26 有機層
27 陰極
30 封止缶
33 アモルファスシリコン薄膜
34 多結晶シリコン薄膜
35 背面電極
Claims (20)
- 酸化亜鉛を主成分とする酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットにおいて、
元素種として亜鉛(Zn)及び酸素(O)以外の少なくとも1種類以上の元素種を有する添加元素Xを含み、前記添加元素Xがターゲット中で酸素を含まない化合物であることを特徴とする酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲット、
但し、ここでいう添加元素Xの化合物とは、常温常圧で固体であって、X=B,Al,Ga,In,C,Si,Ge,Sn,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Y,Zr,Nb,Mo,Tc,Ru,Rh,Pd,Ag,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Au,Li,Na,K,Rb,Cs,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,N,P,As,Sb,S,Se,Te,F,Cl,Br,Iの中から、1種類以上選ばれた化合物。 - 請求項1記載の酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットにおいて、
前記添加元素Xと、ターゲット中で酸素を含む化合物である添加元素Yとが共存していることを特徴とする酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲット、
但し、ここでいう添加元素Yの化合物とは、常温常圧で固体であって、X=B,Al,Ga,In,C,Si,Ge,Sn,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Y,Zr,Nb,Mo,Tc,Ru,Rh,Pd,Ag,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Au,Li,Na,K,Rb,Cs,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,N,P,As,Sb,S,Se,Te,F,Cl,Br,Iの中から、1種類以上選ばれた化合物。 - 請求項1記載の酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットにおいて、
前記添加元素Xが単元素状態であることを特徴とする酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲット。 - 請求項1記載の酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットにおいて、
前記添加元素Xが複元素状態であることを特徴とする酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲット。 - 請求項2記載の酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットにおいて、
前記添加元素X及び前記添加元素Yは、同じ種類の金属元素が含まれることを特徴とする酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲット。 - 請求項1記載の酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットにおいて、
前記添加元素Xの常温常圧における融点が1000℃以上であることを特徴とする酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲット。 - 請求項1記載の酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットにおいて、
前記添加元素Xに含まれる元素種は、Si,Ni,Ti,Vのいずれかであることを特徴とする酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲット。 - 一対の基板と、
前記一対の基板間に配置された液晶層と、
前記一対の基板を挟持する一対の偏光板と、
前記一対の基板の少なくとも一方に配置された透明電極と、を有し、
前記透明電極は、酸化亜鉛を主成分とする膜であって、元素種として亜鉛(Zn)及び酸素(O)以外の少なくとも1種類以上の元素種を有する添加元素Xを含み、前記添加元素Xが薄膜中で酸素を含まない化合物を含む酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットを用いて得られる酸化亜鉛薄膜であることを特徴とする表示素子、
但し、ここでいう添加元素Xの化合物とは、常温常圧で固体であって、X=B,Al,Ga,In,C,Si,Ge,Sn,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Y,Zr,Nb,Mo,Tc,Ru,Rh,Pd,Ag,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Au,Li,Na,K,Rb,Cs,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,N,P,As,Sb,S,Se,Te,F,Cl,Br,Iの中から、1種類以上選ばれた化合物。 - 請求項8記載の表示素子において、
前記添加元素Xと、酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットまたは酸化亜鉛薄膜中で酸素を含む化合物である添加元素Yとが共存していることを特徴とする表示素子、
但し、ここでいう添加元素Yの化合物とは、常温常圧で固体であって、X=B,Al,Ga,In,C,Si,Ge,Sn,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Y,Zr,Nb,Mo,Tc,Ru,Rh,Pd,Ag,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Au,Li,Na,K,Rb,Cs,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,N,P,As,Sb,S,Se,Te,F,Cl,Br,Iの中から、1種類以上選ばれた化合物。 - 請求項8記載の表示素子において、
前記添加元素Xが単元素状態であることを特徴とする表示素子。 - 請求項8記載の表示素子において、
前記添加元素Xが複元素状態であることを特徴とする表示素子。 - 請求項9記載の表示素子において、
前記添加元素X及び前記添加元素Yは、同じ種類の金属元素が含まれることを特徴とする表示素子。 - 請求項8記載の表示素子において、
前記添加元素Xの常温常圧における融点が1000℃以上であることを特徴とする表示素子。 - 請求項8記載の表示素子において、
前記添加元素Xに含まれる元素種は、Si,Ni,Ti,Vのいずれかであることを特徴とする表示素子。 - 基板と、
前記基板上に配置された透明電極と、
前記透明電極上に配置されたアモルファスシリコン薄膜と、
前記アモルファスシリコン薄膜上に配置された多結晶シリコン薄膜と、
前記多結晶シリコン薄膜上に形成された背面電極と、を有し、
前記透明電極は、酸化亜鉛を主成分とする膜であって、元素種として亜鉛(Zn)及び酸素(O)以外の少なくとも1種類以上の元素種を有する添加元素Xを含み、前記添加元素Xが薄膜中で酸素を含まない化合物を含む酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットを用いて得られる酸化亜鉛薄膜であることを特徴とする太陽電池、
但し、ここでいう添加元素Xの化合物とは、常温常圧で固体であって、X=B,Al,Ga,In,C,Si,Ge,Sn,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Y,Zr,Nb,Mo,Tc,Ru,Rh,Pd,Ag,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Au,Li,Na,K,Rb,Cs,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,N,P,As,Sb,S,Se,Te,F,Cl,Br,Iの中から、1種類以上選ばれた化合物。 - 請求項15記載の太陽電池において、
前記添加元素Xと、酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットまたは酸化亜鉛薄膜中で酸素を含む化合物である添加元素Yとが共存していることを特徴とする太陽電池、
但し、ここでいう添加元素Yの化合物とは、常温常圧で固体であって、X=B,Al,Ga,In,C,Si,Ge,Sn,Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Y,Zr,Nb,Mo,Tc,Ru,Rh,Pd,Ag,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Au,Li,Na,K,Rb,Cs,Be,Mg,Ca,Sr,Ba,N,P,As,Sb,S,Se,Te,F,Cl,Br,Iの中から、1種類以上選ばれた化合物。 - 請求項15記載の太陽電池において、
前記添加元素Xが単元素状態であることを特徴とする太陽電池。 - 請求項15記載の太陽電池において、
前記添加元素Xが複元素状態であることを特徴とする太陽電池。 - 請求項16記載の太陽電池において、
前記添加元素X及び前記添加元素Yは、同じ種類の金属元素が含まれることを特徴とする太陽電池。 - 請求項15記載の太陽電池において、
前記添加元素Xに含まれる元素種は、Si,Ni,Ti,Vのいずれかであることを特徴とする太陽電池。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008113303A JP4982423B2 (ja) | 2008-04-24 | 2008-04-24 | 酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットと、それを用いて得られる酸化亜鉛薄膜を有する表示素子及び太陽電池 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008113303A JP4982423B2 (ja) | 2008-04-24 | 2008-04-24 | 酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットと、それを用いて得られる酸化亜鉛薄膜を有する表示素子及び太陽電池 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009263709A true JP2009263709A (ja) | 2009-11-12 |
JP4982423B2 JP4982423B2 (ja) | 2012-07-25 |
Family
ID=41389930
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008113303A Expired - Fee Related JP4982423B2 (ja) | 2008-04-24 | 2008-04-24 | 酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットと、それを用いて得られる酸化亜鉛薄膜を有する表示素子及び太陽電池 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4982423B2 (ja) |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010090101A1 (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-12 | 株式会社カネカ | 薄膜光電変換装置およびその製造方法 |
JP2011527384A (ja) * | 2008-07-08 | 2011-10-27 | ベーカート・アドヴァンスト・コーティングス | 第1の相および第2の相を含む酸化物スパッタターゲットの製造方法 |
JP2011222687A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Tosoh Corp | 太陽電池 |
KR101082514B1 (ko) | 2009-12-31 | 2011-11-10 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 금속 산화물 조성물, 및 이를 이용한 소결체 및 도전성막 |
WO2012043571A1 (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-05 | 東ソー株式会社 | 複合酸化物焼結体及びその製造方法、スパッタリングターゲット、並びに酸化物透明導電膜及びその製造方法 |
JP2012072459A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Mitsubishi Materials Corp | スパッタリングターゲット |
KR101213133B1 (ko) | 2010-02-19 | 2012-12-18 | 전남대학교산학협력단 | ZnO에 격자 정합된 자외선용 단결정 ZnMgAlO 박막 및 그 제조방법 |
JP2013047364A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Mitsubishi Materials Corp | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
JP2013170302A (ja) * | 2012-02-22 | 2013-09-02 | Shimane Univ | Azo成膜用ターゲットおよびその製造方法 |
WO2014054361A1 (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-10 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 酸化亜鉛系焼結体、該焼結体からなる酸化亜鉛系スパッタリングターゲット及び該ターゲットをスパッタリングして得られた酸化亜鉛系薄膜 |
JP2014080312A (ja) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 酸化亜鉛系焼結体の製造方法およびターゲット |
WO2014077395A1 (ja) * | 2012-11-19 | 2014-05-22 | 東ソー株式会社 | 酸化物焼結体、それを用いたスパッタリングターゲット及び酸化物膜 |
CN105821377A (zh) * | 2015-01-22 | 2016-08-03 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 氧化物烧结体、溅射靶以及氧化物薄膜 |
CN108395237A (zh) * | 2018-03-02 | 2018-08-14 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种高强度硅磷酸钙生物陶瓷材料及其制备方法 |
CN114134467A (zh) * | 2021-10-29 | 2022-03-04 | 广州市尤特新材料有限公司 | 一种汽车玻璃用合金靶材及其制备方法 |
WO2022071302A1 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-04-07 | 株式会社カネカ | ペロブスカイト薄膜系太陽電池の製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53114099A (en) * | 1977-03-16 | 1978-10-05 | Murata Manufacturing Co | Piezooelectric crystal film of zinc oxide |
JPS53130710A (en) * | 1977-04-20 | 1978-11-15 | Murata Manufacturing Co | Zinc oxide base ceramics for high frequency spattering |
JPS5442698A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-04 | Murata Manufacturing Co | Piezooelectric crystalline membrane of zinc oxide |
JPS5442697A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-04 | Murata Manufacturing Co | Piezooelectric crystalline membrane of zinc oxide |
JPH062130A (ja) * | 1992-06-15 | 1994-01-11 | Mitsubishi Materials Corp | 酸化亜鉛系スパッタリング用ターゲット |
JPH0945140A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-14 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化亜鉛系透明導電性膜 |
JPH11256320A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-21 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ZnO系焼結体 |
JP2000040429A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-08 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法 |
WO2007013387A1 (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-01 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | スパッタリングターゲット、その製造方法及び透明導電膜 |
-
2008
- 2008-04-24 JP JP2008113303A patent/JP4982423B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53114099A (en) * | 1977-03-16 | 1978-10-05 | Murata Manufacturing Co | Piezooelectric crystal film of zinc oxide |
JPS53130710A (en) * | 1977-04-20 | 1978-11-15 | Murata Manufacturing Co | Zinc oxide base ceramics for high frequency spattering |
JPS5442698A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-04 | Murata Manufacturing Co | Piezooelectric crystalline membrane of zinc oxide |
JPS5442697A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-04 | Murata Manufacturing Co | Piezooelectric crystalline membrane of zinc oxide |
JPH062130A (ja) * | 1992-06-15 | 1994-01-11 | Mitsubishi Materials Corp | 酸化亜鉛系スパッタリング用ターゲット |
JPH0945140A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-14 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化亜鉛系透明導電性膜 |
JPH11256320A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-21 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ZnO系焼結体 |
JP2000040429A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-08 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法 |
WO2007013387A1 (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-01 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | スパッタリングターゲット、その製造方法及び透明導電膜 |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011527384A (ja) * | 2008-07-08 | 2011-10-27 | ベーカート・アドヴァンスト・コーティングス | 第1の相および第2の相を含む酸化物スパッタターゲットの製造方法 |
JPWO2010090101A1 (ja) * | 2009-02-06 | 2012-08-09 | 株式会社カネカ | 薄膜光電変換装置およびその製造方法 |
WO2010090101A1 (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-12 | 株式会社カネカ | 薄膜光電変換装置およびその製造方法 |
KR101082514B1 (ko) | 2009-12-31 | 2011-11-10 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 금속 산화물 조성물, 및 이를 이용한 소결체 및 도전성막 |
KR101213133B1 (ko) | 2010-02-19 | 2012-12-18 | 전남대학교산학협력단 | ZnO에 격자 정합된 자외선용 단결정 ZnMgAlO 박막 및 그 제조방법 |
JP2011222687A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Tosoh Corp | 太陽電池 |
WO2012043571A1 (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-05 | 東ソー株式会社 | 複合酸化物焼結体及びその製造方法、スパッタリングターゲット、並びに酸化物透明導電膜及びその製造方法 |
JP2012072459A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Mitsubishi Materials Corp | スパッタリングターゲット |
US9111663B2 (en) | 2010-09-29 | 2015-08-18 | Tosoh Corporation | Sintered composite oxide, manufacturing method therefor, sputtering target, transparent conductive oxide film, and manufacturing method therefor |
JP2013047364A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Mitsubishi Materials Corp | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
JP2013170302A (ja) * | 2012-02-22 | 2013-09-02 | Shimane Univ | Azo成膜用ターゲットおよびその製造方法 |
WO2014054361A1 (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-10 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 酸化亜鉛系焼結体、該焼結体からなる酸化亜鉛系スパッタリングターゲット及び該ターゲットをスパッタリングして得られた酸化亜鉛系薄膜 |
JP5847308B2 (ja) * | 2012-10-02 | 2016-01-20 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 酸化亜鉛系焼結体、該焼結体からなる酸化亜鉛系スパッタリングターゲット及び該ターゲットをスパッタリングして得られた酸化亜鉛系薄膜 |
JP2014080312A (ja) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 酸化亜鉛系焼結体の製造方法およびターゲット |
WO2014077395A1 (ja) * | 2012-11-19 | 2014-05-22 | 東ソー株式会社 | 酸化物焼結体、それを用いたスパッタリングターゲット及び酸化物膜 |
CN104781211A (zh) * | 2012-11-19 | 2015-07-15 | 东曹株式会社 | 氧化物烧结体、使用其的溅射靶及氧化物膜 |
JP2014114207A (ja) * | 2012-11-19 | 2014-06-26 | Tosoh Corp | 酸化物焼結体、それを用いたスパッタリングターゲット及び酸化物膜 |
CN104781211B (zh) * | 2012-11-19 | 2017-04-19 | 东曹株式会社 | 氧化物烧结体、使用其的溅射靶及氧化物膜 |
CN105821377A (zh) * | 2015-01-22 | 2016-08-03 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 氧化物烧结体、溅射靶以及氧化物薄膜 |
CN108395237A (zh) * | 2018-03-02 | 2018-08-14 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种高强度硅磷酸钙生物陶瓷材料及其制备方法 |
CN108395237B (zh) * | 2018-03-02 | 2020-07-03 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种高强度硅磷酸钙生物陶瓷材料及其制备方法 |
WO2022071302A1 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-04-07 | 株式会社カネカ | ペロブスカイト薄膜系太陽電池の製造方法 |
CN114134467A (zh) * | 2021-10-29 | 2022-03-04 | 广州市尤特新材料有限公司 | 一种汽车玻璃用合金靶材及其制备方法 |
CN114134467B (zh) * | 2021-10-29 | 2024-04-23 | 广州市尤特新材料有限公司 | 一种汽车玻璃用合金靶材及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4982423B2 (ja) | 2012-07-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4982423B2 (ja) | 酸化亜鉛薄膜形成用スパッタターゲットと、それを用いて得られる酸化亜鉛薄膜を有する表示素子及び太陽電池 | |
JP4730204B2 (ja) | 酸化物焼結体ターゲット、及びそれを用いた酸化物透明導電膜の製造方法 | |
JP4537434B2 (ja) | 酸化亜鉛薄膜、及びそれを用いた透明導電膜、及び表示素子 | |
TWI402862B (zh) | 氧化物燒結體、其製法、使用它之透明導電膜之製法與所得到的透明導電膜 | |
KR100505536B1 (ko) | 투명한 도전성 박막, 그것의 제조방법, 그것의 제조를위한 소결 타겟, 디스플레이 패널용의 투명한 전기전도성기재, 및 유기 전기루미네선스 디바이스 | |
US7611646B2 (en) | Oxide sintered body and an oxide film obtained by using it, and a transparent base material containing it | |
JP5880667B2 (ja) | ターゲット及びその製造方法 | |
US9493869B2 (en) | Transparent conductive film | |
TWI274739B (en) | Oxide sintered body and sputtering target, and manufacturing method for transparent conductive oxide film as electrode | |
KR20060046691A (ko) | 산화물 소결체, 스퍼터링 타겟, 투명 도전성 박막 및 그제조방법 | |
JP2006193363A (ja) | 酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電性薄膜 | |
JP2004052102A (ja) | 透明導電性薄膜用ターゲット、透明導電性薄膜およびその製造方法、ディスプレイ用電極材料、有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP3945395B2 (ja) | 透明導電性薄膜、その形成方法、それを用いた表示パネル用透明導電性基材及び有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
KR20120129972A (ko) | 산화물 소결체, 산화물 혼합체, 이들의 제조 방법 및 이들을 이용한 타겟 | |
JP2006188392A (ja) | 酸化物焼結体、透明導電性薄膜およびその実装素子 | |
JP4175071B2 (ja) | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット | |
JP3918721B2 (ja) | 透明導電性薄膜、その製造方法と製造用焼結体ターゲット、及び有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法 | |
JP2006160535A (ja) | 酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電性薄膜 | |
JP2004241296A (ja) | 透明導電性薄膜とその製造方法、それを用いた表示パネル用透明導電性基材及びエレクトロルミネッセンス素子 | |
JP4211558B2 (ja) | スパッタリングターゲット材料、その製造方法、及びそれを用いた透明導電膜の製造方法 | |
WO2011102425A1 (ja) | 酸化物焼結体、酸化物混合体、それらの製造方法およびそれらを用いたターゲット | |
JPH0329216A (ja) | 透明電導膜の形成方法 | |
JP2005320192A (ja) | 酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電性薄膜 | |
JP2006219357A (ja) | 酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電性薄膜 | |
WO2014021374A1 (ja) | 酸化物焼結体およびそれを加工したタブレット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100325 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110809 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110816 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111011 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120327 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120423 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150427 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |