JP2009227863A - 籠構造含有硬化性シリコーン共重合体及びその製造方法並びに籠構造含有硬化性シリコーン共重合体を用いた硬化性樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents
籠構造含有硬化性シリコーン共重合体及びその製造方法並びに籠構造含有硬化性シリコーン共重合体を用いた硬化性樹脂組成物及びその硬化物 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】一般式(1)Y−[Z−(O1/2−R2 2SiO1/2)a−(R1SiO3/2)n−(O1/2)b]m−Z−Y[R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基、Zは下記一般式(2)
の2価の基であり、Yは下記(3)〜(5)のいずれかである。(3)[(R4O)R2 2SiO1/2]a−[R1SiO3/2]n−[O1/2]−(4)[R4O1/2]b−[R1SiO3/2]n−[O1/2−R2 2SiO1/2]−(5)(R4O1/2)−(6)(R2 3SiO1/2)−(R4は水素原子、メチル基又はエチル基)}で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体である。
【選択図】なし
Description
Y−[Z−(O1/2−R2 2SiO1/2) a−(R1SiO3/2)n−(O1/2)b] m−Z−Y (1)
[但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であって1≦ a + b ≦4の関係を満たし、nは8〜14の数を示し、mは1〜2000の数を示す。更に、Zは下記一般式(2)
[(R4O)R2 2SiO1/2]a −[R1SiO3/2]n−[O1/2]− (3)
[R4O1/2]b −[R1SiO3/2]n−[O1/2−R2 2SiO1/2]− (4)
(R4O1/2) − (5)
(R2 3SiO1/2) − (6)
(但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよく、R4は水素原子、メチル基又はエチル基から選ばれたいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であり、nは8〜14の数を示す。)}で表される構成単位を有することを特徴とする籠構造含有硬化性シリコーン共重合体である。
[(R4O)R2 2SiO1/2]a −[R1SiO3/2]n−[O1/2R4] (7)
(但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基から選ばれ、R4は水素原子、メチル基又はエチル基から選ばれ、R1、R2又はR4において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であって1≦ a + b ≦4の関係を満たす。更にnは8〜14の整数である。)で表されるアルコキシル基またはシラノール基含有籠型シロキサン化合物と、下記一般式(8)
R2 3Si−X (9)
(但し、R2は水素原子、ビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R2は互いに同じか異なるものであってもよい。また、Xは水酸基、水素原子、塩素原子又はアルコキシル基である)で表される化合物を縮合させることにより、下記一般式(1)
Y−[Z−(O1/2−R2 2SiO1/2) a−(R1SiO3/2)n−(O1/2)b] m−Z−Y (1)
{但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であって1≦ a + b ≦4の関係を満たし、nは8〜14の数を示し、mは1〜2000の数を示す。更に、Zは下記一般式(2)
[(R4O)R2 2SiO1/2]a −[R1SiO3/2]n−[O1/2]− (3)
[R4O1/2]b −[R1SiO3/2]n−[O1/2−R2 2SiO1/2]− (4)
(R4O1/2) − (5)
(R2 3SiO1/2) − (6)
(但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよく、R4は水素原子、メチル基又はエチル基から選ばれ、a及びbは0〜3の数であり、nは8〜14の数を示す。)]で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体を得ることを特徴とする籠構造含有硬化性シリコーン共重合体の製造方法である。
[(R5O)R2 2SiO1/2]a − [R1SiO3/2]n − [O1/2R5]b (7−1)
(ここで、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基から選ばれ、R5はメチル基またはエチル基から選ばれ、R1、R2又はR5において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であり、1≦ a + b ≦4の関係を満たす。更にnは8〜14の整数である。)
[R1SiO3/2]n (19)
で表される籠型シロキサン化合物と、下記一般式(20)
R2 2Si(OR5) 2 (20)
で表せるジアルコキシシランとを非極性溶媒下で塩基性触媒を用いて付加させることにより得ることができる(R1、R2及びR5は一般式(7-1)と同じである)。
[(R5O)R2 2SiO1/2]a − [R1SiO3/2]n − [O1/2R5]b (7−1)
(ここで、R1、R2、R5、及びnは前記と同じ。)
において、a+b=2であって、籠構造単位に2個のアルコキシル基を含有するアルコキシル基含有籠型シロキサン化合物の混合物として得られる。また、用いる籠型シロキサン化合物が混合物である場合、nの平均値に対してジアルコキシシランの添加量を調整することで籠構造単位当りのアルコキシル基の含有量を調整することができる。一方、ジアルコキシシランの添加量が籠型シロキサン化合物1モルに対して0.5〜2.0モルの範囲より多いと、籠構造を形成するシロキサン結合がより多く切断し、アルコキシル基の付加が起こるため籠構造が分解されてしまう。
[(HO)R2 2SiO1/2]a − [R1SiO3/2]n − [O1/2H]b (7−2)
(但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基から選ばれ、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。またa及びbは0〜3の数であり、1≦ a + b ≦4を満たし、更にnは8〜14の整数である。)
[(R4O)R2 2SiO1/2]a −[R1SiO3/2]n−[OR4] (7)
(但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基から選ばれ、R4は水素原子またメチル基又はエチル基から選ばれ、R1、R2又はR4において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であって1≦ a + b ≦4の関係を満たす。更にnは8〜14の整数である。)で表されるアルコキシル基またはシラノール基含有籠型シロキサン化合物を得ることができる。
Y1−[Z−(O1/2−R2 2SiO1/2) a−(R1SiO3/2)n−(O1/2)b] m−Z−Y1 (1-1)
{但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、R1に関しては1分子中の少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であって1≦ a + b ≦4の関係を満たし、nは8〜14の数を示し、mは1〜2000の数を示す。更に、Zは下記一般式(2)
[(R4O)R2 2SiO1/2]a −[R1SiO3/2]n−[O1/2]− (3)
又は下記一般式(4)
[R4O1/2]b −[R1SiO3/2]n−[O1/2−R2 2SiO1/2]− (4)
又は下記一般式(5)
(R4O1/2) − (5)
(但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよく、R4は水素原子、メチル基又はエチル基から選ばれいずれかであり、a及びbは0〜3の数であり、nは8〜14の数で表される1価の基である。)]で表される構成単位を特徴とする籠構造含有硬化性シリコーン共重合体を得ることができる。
Y1−[Z−(O1/2−R2 2SiO1/2) a−(R1SiO3/2)n−(O1/2)b] m−Z−Y1 (1‐1)
[但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であって1≦ a + b ≦4の関係を満たす。更にnは8〜14の数を示し、mは1〜2000の数を示し、Zは下記一般式(2)
[(R4O)R2 2SiO1/2]a −[R1SiO3/2]n−[O1/2]− (3)
[R4O1/2]b −[R1SiO3/2]n−[O1/2−R2 2SiO1/2]− (4)
(R4O1/2) − (5)
(但し、R1、R2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであっても良く、R4は水素原子、メチル基、エチル基から選ばれたいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であり、nは8〜14の数を示す。)}で表される構成単位を特徴とする籠構造含有硬化性シリコーン共重合体を得ることができる。
R2 3Si−X (9)
(但し、R2は水素原子、ビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R2は互いに同じか異なるものであってもよい。また、Xは水素原子、塩素原子又はアルコキシル基である)で表される化合物とを縮合させることにより、
Y2−[Z−(O1/2−R2 2SiO1/2) a−(R1SiO3/2)n−(O1/2)b] m−Z−Y2 (1‐2)
[但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であって1≦ a + b ≦4の関係を満たす。更にnは8〜14の数を示し、mは1〜2000の数を示し、Zは下記一般式(2)
(R2 3SiO1/2) − (6)
(但し、R2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、又はオキシラン環を有する基であって、R2は互いに同じか異なるものであっても良い1価の基である。)}で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体とすることもできる。
R2 3Si−OR5 (9−1)
(但し、R2は水素原子、ビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R2は互いに同じか異なるものであってもよい。また、R5はメチル基、エチル基又はプロピル基であって、互いに同じか異なるものであってもよい)の場合、一般式(1−1)で表される籠構造含有硬化性シリコーン共重合体うち末端のY1におけるR4が水素原子である籠構造含有硬化性シリコーン共重合体、すなわちシラノール末端籠構造含有硬化性シリコーン共重合体1モルに対して2〜100モルの範囲の上記一般式(9−1)で表されるアルコキシシランを触媒存在下、非極性溶媒とエーテル系溶媒のうち1つもしくは両方をあわせた溶媒中で脱アルコール縮合させることで、一般式(1‐2)で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体を得ることができる。ここで、アルコキシシランの好ましい使用量については、一般式(1−1)で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体1モルに対して、2〜30モルであるのがよい。なお、脱アルコール縮合の方法については一般式(1−1)で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体の製造方法において、一般式(7−2)で表せるシラノール基含有シロキサン化合物と一般式(8−2)で表せるジアルコキシシラン、またはα、ω−ジアルコキシシロキサンを脱アルコール縮合において例に挙げたものを用いることができる。
R2 3Si−H (9−2)
(但し、R2は水素原子、ビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R2は互いに同じか異なるものであってもよい。)の場合、一般式(1−1)で表される籠構造含有硬化性シリコーン共重合体うち末端のY1におけるR4が水素原子である籠構造含有硬化性シリコーン共重合体、すなわちシラノール末端籠構造含有硬化性シリコーン共重合体1モルに対して2〜100モルの範囲の上記一般式(9−2)で表されるハイドロジェンシランを触媒存在下、非極性溶媒とエーテル系溶媒のうち1つもしくは両方をあわせた溶媒中で脱水素縮合させることで、一般式(1−2)で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体を得ることができる。ここで、ハイドロジェンシランの好ましい使用量については、一般式(1−1)で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体1モルに対して、2〜30モルであるのがよい。なお、脱水素縮合の方法については一般式(1−1)で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体の製造方法において、一般式(7−2)で表されるシラノール基含有籠型シロキサン化合物と一般式(8−3)で表されるジハイドロジェンシラン、またはα,ω−ジハイドロジェンシロキサンを脱水素縮合させる例に挙げたものを用いることができる。
R2 3Si−Cl (9−3)
(但し、R2は水素原子、ビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R2は互いに同じか異なるものであってもよい。)の場合、一般式(1−1)で表される籠構造含有硬化性シリコーン共重合体うち末端のY1におけるR4が水素原子である籠構造含有硬化性シリコーン共重合体、すなわちシラノール末端籠構造含有硬化性シリコーン共重合体1モルに対して2〜100モルの範囲の上記一般式(9−2)で表されるクロロシランを触媒存在下、非極性溶媒とエーテル系溶媒のうち1つもしくは両方をあわせた溶媒中で脱水素縮合させることで、一般式(1‐2)で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体を得ることができる。ここで、クロロシランの好ましい使用量については、一般式(1−1)で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体1モルに対して、2〜30モルであるのがよい。なお、脱塩酸縮合の方法については一般式(1−1)で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体の製造方法において一般式(7−2)で表されるシラノール基含有籠型シロキサン化合物と一般式(8−4)で表されるジクロロシラン、またはα,ω−ジクロロシロキサンを脱塩酸縮合させる例に挙げたものを用いることができる。
なお、以下で用いる略称の意味は次のとおりである。すなわち、Me:メチル基、Et:エチル基、Ph:フェニル基を意味する。
以下で示す合成例は特公昭40−15989号公報に記載された方法を使用したものであり、構造式 (C6 H5 SiO3/2 )8 を有する籠型オクタフェニルシルセスキオキサンの製造例である。反応容器にトルエン2500mlとフェニルトリクロロシラン525gを装入し、0℃に冷却した。水を適量滴下し、加水分解が完了するまで撹拌した。加水分解生成物を水洗後市販の30%ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキサイド溶液83mlを加え、この混合物を4時間還流温度に加熱した。次いで全体を冷却し、約96時間放置した。この時間経過後得られたスラリーを再び24時間還流温度に加熱し次いで冷却し濾過を行い、白色の粉末としてオクタフェニルシルセスキオキサン375gを得た。
[(EtO)MeRSiO1/2]1 − [PhSiO3/2]8 − [O1/2Et]1 (7−1A)
(但しRは3-メタクリロキシプロピル基である)
滴下ロートを備えた反応容器に2-プロパノール500ml、トルエン350ml、及び上記参考例1で得たアルコキシル基含有籠型シロキサン化合物(7−1A) 61.5g(47.5mmol)を装入した。反応溶液に2%塩酸1.4g(HCl:1mmol,H2O:105mmol)を室温で滴下し、室温で24時間撹拌した。反応溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和、水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで脱水した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、濃縮することでシラノール基含有籠型シロキサン化合物Aを無色透明の粘性液体として53.5g、収率91%で得た。得られたシラノール基含有籠型シロキサン化合物AはGPC、及びNMR測定から下記式(7−2A)で表されることが確認された。
[(HO)MeRSiO1/2]1 − [PhSiO3/2]8 − [O1/2H]1 (7−2A)
(但しRは3-メタクリロキシプロピル基である)
本合成例は先に出願した特開2004-143449号公報に記載された方法を参考に使用したものであり、構造式 (H2C=CH-SiO3/2 )n を有する籠型ポリビニルシルセスキオキサンの製造例である。
反応容器に、トルエン750ml、2-プロパノール425ml、及び5%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(TMAH水溶液)186gを装入した。トルエン125mlとビニルトリメトキシシラン251gの溶液を室温で反応容器へ撹拌しながら、3時間かけ滴下した。滴下終了後、室温で2時間撹拌後に攪拌を停止して1日静置した。反応溶液を10%クエン酸水溶液で中和した後、飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで脱水、濃縮することでビニルトリメトキシシランの加水分解重縮合物を103g得た。
[(EtO)Me2SiO1/2]1 − [H2C=CH-SiO3/2]10 − [O1/2Et]1 (7−1B)
滴下ロートを備えた反応容器に2-プロパノール200ml、トルエン170ml、及び参考例3で得たアルコキシル基含有籠型シロキサン化合物B 25.0g(27mmol)を装入し、反応溶液に水酸化テトラメチルアンモニウム6.5g(71.5mmol、25%のメタノール溶液として26g)、イオン交換水1.5g(83mmol)と2-プロパノール150mlの混合溶液を滴下し、室温で3時間撹拌した。反応溶液にトルエン20mlを加え、撹拌し、続けて10%クエン酸水溶液で中和した後、飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで脱水、濃縮することでシラノール基含有籠型シロキサン化合物Bを21.2g、収率92%で得た。得られたシラノール基含有籠型シロキサン化合物BはGPC、及びNMR測定から下記式(7−2B)で表されることが確認された。
[(HO)Me2SiO1/2]1 − [H2C=CH-SiO3/2]10 − [O1/2H]1 (7−2B)
ジシクロペンタニルジアクリレート(共栄社化学(株)製ライトアクリレートDCP-A)100重量部、及び光重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア184):2.0重量部を混合し、透明な硬化性樹脂組成物を得た。
上記実施例8〜15及び比較例1から得られた各硬化物の物性値と耐熱試験(230℃で3時間加熱)後の400nm透過率を分光光度計で測定した。結果を表1に示す。なお、弾性率、破断点伸度についてはJIS K 7127記載の引張試験条件(形状 100 x 25 x x0.4 mm、チャック間距離50mm、速度5mm/min)に準拠して測定し、平均値(n=5)で評価した。
Claims (7)
- 下記一般式(1)
Y−[Z−(O1/2−R2 2SiO1/2) a−(R1SiO3/2)n−(O1/2)b] m−Z−Y (1)
[但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であって1≦ a + b ≦4の関係を満たし、nは8〜14の数を示し、mは1〜2000の数を示す。更に、Zは下記一般式(2)
[(R4O)R2 2SiO1/2]a −[R1SiO3/2]n−[O1/2]− (3)
[R4O1/2]b −[R1SiO3/2]n−[O1/2−R2 2SiO1/2]− (4)
(R4O1/2) − (5)
(R2 3SiO1/2) − (6)
(但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよく、R4は水素原子、メチル基又はエチル基から選ばれたいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であり、nは8〜14の数を示す。)}で表される構成単位を有することを特徴とする籠構造含有硬化性シリコーン共重合体。 - 下記一般式(7)
[(R4O)R2 2SiO1/2]a −[R1SiO3/2]n−[O1/2R4] (7)
(但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基から選ばれ、R4は水素原子、メチル基又はエチル基から選ばれ、R1、R2又はR4において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であって1≦ a + b ≦4の関係を満たす。更にnは8〜14の整数である。)で表されるアルコキシル基またはシラノール基含有籠型シロキサン化合物と、下記一般式(8)
R2 3Si−X (9)
(但し、R2は水素原子、ビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R2は互いに同じか異なるものであってもよい。また、Xは水酸基、水素原子、塩素原子又はアルコキシル基である)で表される化合物を縮合させることにより、下記一般式(1)
Y−[Z−(O1/2−R2 2SiO1/2) a−(R1SiO3/2)n−(O1/2)b] m−Z−Y (1)
{但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよいが、1分子中に含まれるR1のうち少なくとも1つはビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基のいずれかである。また、a及びbは0〜3の数であって1≦ a + b ≦4の関係を満たし、nは8〜14の数を示し、mは1〜2000の数を示す。更に、Zは下記一般式(2)
[(R4O)R2 2SiO1/2]a −[R1SiO3/2]n−[O1/2]− (3)
[R4O1/2]b −[R1SiO3/2]n−[O1/2−R2 2SiO1/2]− (4)
(R4O1/2) − (5)
(R2 3SiO1/2) − (6)
(但し、R1及びR2はビニル基、アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、又はオキシラン環を有する基であって、R1又はR2において、各置換基は互いに同じか異なるものであってもよく、R4は水素原子、メチル基又はエチル基から選ばれ、a及びbは0〜3の数であり、nは8〜14の数を示す。)]で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体を得ることを特徴とする籠構造含有硬化性シリコーン共重合体の製造方法。 - 一般式(7)で表されるアルコキシル基またはシラノール基含有籠型シルセスキオキサン化合物1モルに対して0.5〜10モルの範囲の一般式(8)で表される化合物を縮合反応させることを特徴とする請求項2記載の籠構造含有硬化性シリコーン共重合体の製造方法。
- 一般式(7)で表されるアルコキシル基またはシラノール基含有籠型シルセスキオキサン化合物1モルに対して、0.5〜10モルの範囲の一般式(8)で表される化合物及び2〜100モルの範囲の一般式(9)で表される化合物を縮合反応させることを特徴とする請求項2記載の籠構造含有硬化性シリコーン共重合体の製造方法。
- 請求項1に記載の籠構造含有硬化性シリコーン共重合体に、ヒドロシリル化触媒又はラジカル開始剤のいずれか一方または両方を配合してなる硬化性樹脂組成物。
- 少なくとも1つのケイ素原子上に水素原子を有するヒドロシリル化可能な化合物、又は分子中に不飽和基を有する化合物のいずれか一方または両方を更に配合してなる請求項5記載の硬化性樹脂組成物。
- 請求項5又は6に記載の硬化性樹脂組成物を成形硬化して得られる成形体。
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