JP2009215345A - 熱硬化性有機無機ハイブリッド透明封止材 - Google Patents

熱硬化性有機無機ハイブリッド透明封止材 Download PDF

Info

Publication number
JP2009215345A
JP2009215345A JP2008057420A JP2008057420A JP2009215345A JP 2009215345 A JP2009215345 A JP 2009215345A JP 2008057420 A JP2008057420 A JP 2008057420A JP 2008057420 A JP2008057420 A JP 2008057420A JP 2009215345 A JP2009215345 A JP 2009215345A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sealing material
organic
inorganic hybrid
transparent sealing
hybrid transparent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008057420A
Other languages
English (en)
Inventor
Minoru Kuniyoshi
稔 国吉
Chiharu Takimoto
千晴 瀧本
Yohei Sato
陽平 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
Priority to JP2008057420A priority Critical patent/JP2009215345A/ja
Publication of JP2009215345A publication Critical patent/JP2009215345A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

【課題】太陽電池モジュールにおける太陽電池素子、光通信用の受光部、発光ダイオード(LED)等に使用されている透明封止材や、半導体パッケージと放熱板の接着剤等には、基板との密着性が不十分で界面が剥離するなどの不良が発生しやすいものがある。
【解決手段】メチル基およびフェニル基で修飾されたシロキサン重合体からなる主剤と硬化剤を混合し、プラスチック基板および金属電極からなる被着体表面に塗布し、加熱硬化させる有機無機ハイブリッド透明封止材。メチル基およびフェニル基で修飾されたシロキサン重合体からなる主剤に、有機金属化合物を硬化剤として添加し、フェニル基、アミノ基のいずれか一方または両方を含有するプライマーにより表面改質をした被着体に塗布後、300℃以下の温度で加熱硬化することにより、後工程および使用時の温度変化に伴う被着体からの剥離・クラックが発生しない透明封止材が得られる。
【選択図】 なし

Description

本発明は、プラスチック基板および金属電極からなる被着体に対し優れた密着性を有する有機無機ハイブリッド透明封止材およびその製造方法に関する。
太陽電池モジュールにおける太陽電池素子の封止、光通信用の受光部の封止、発光ダイオード(LED)等の封止に使用されている透明封止材や、半導体パッケージと放熱板の接着剤等には、各種基板や被着体に対する優れた密着性が要求される。さらに、後工程および使用時の温度変化(環境変化)に対する優れた耐久性が要求される。
後工程における温度変化としては、はんだ接続時の加熱工程がある。近年、環境問題の観点から接続用のはんだは、従来のSn−Pb共晶はんだ(融点:183℃)から、鉛フリーはんだ(融点:220℃)へ移行している。これにより、はんだリフロー温度が従来の230℃(Sn−Pb共晶はんだ)から260℃(鉛フリーはんだ)に上がり、接着剤・封止材にはより優れた耐リフロー性が要求されている。使用時の温度変化の評価方法としては、実使用環境を想定した冷熱サイクル試験がある。
透明封止材としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を主剤とし、これに硬化剤として酸無水物を配合したもの、酢酸ビニル含量の高いエチレン・酢酸ビニル共重合体やポリビニルブチラールが使用されており、これらの厳しい要求特性に応える為に、組成の改良、紫外線吸収剤や有機過酸化物等の添加が試みられた(例えば、特許文献1〜3)。また、耐熱性の高いシリコーンとブロック共重合させたエポキシ樹脂も開発された。
特開2006−066761号公報 特開2003−228076号公報 特開平10−253972号公報
太陽電池モジュールにおける太陽電池素子の封止、光通信用の受光部の封止、発光ダイオード(LED)等の封止に使用されている透明封止材や、半導体パッケージと放熱板の接着剤等には吸湿(吸水)しやすいものが多く、あらかじめ吸湿(吸水)させた素子をはんだ接続に必要な温度に加熱すると、取り込まれていた水分が気化し急激に膨張するため、その圧力で接着界面が剥離するなどの不良が発生する。吸湿(吸水)性が低く、はんだリフロー試験および冷熱サイクル試験により、剥離やクラック等が発生しない透明な接着・封止材料はこれまでなかった。
本発明は、メチル基およびフェニル基で修飾されたシロキサン重合体からなる主剤と硬化剤を混合し、プラスチック基板および金属電極からなる被着体表面に塗布し、加熱硬化させる有機無機ハイブリッド透明封止材である。
また、主剤の平均分子量が2000以下であることを特徴とする上記の有機無機ハイブリッド透明封止材である。
また、Sn系、Ti系、Al系、Zn系、Zr系、Bi系、Fe系、Co系、Mn系、P系、Ni系の有機金属化合物のうち少なくとも1種類以上を硬化剤として主剤に添加することを特徴とする上記の有機無機ハイブリッド透明封止材である。
また、硬化剤の添加量が50wt%以下であることを特徴とする上記の有機無機ハイブリッド透明封止材である。
また、300℃以下の温度で加熱することにより硬化することを特徴とする上記の有機無機ハイブリッド透明封止材である。
また、硬化後に被着体に対して良好な密着性を有することを特徴とする上記の有機無機ハイブリッド透明封止材である。
また、ジメチルユニット(珪素原子にメチル基が2つ結合したユニット)を有することを特徴とする上記の有機無機ハイブリッド透明封止材である。
また、モノフェニルユニット(珪素原子にフェニル基が1つ結合したユニット)を有することを特徴とする上記の有機無機ハイブリッド透明封止材である。
また、モノフェニルユニットの数に対してジメチルユニットの数が3倍以上であることを特徴とする上記の有機無機ハイブリッド透明封止材である。
また、フェニル基、アミノ基のいずれか一方または両方を含有するプライマー溶液を用いて、被着体の表面にプライマー処理を施すことを特徴とする上記の有機無機ハイブリッド透明封止材である。
本発明の主剤と硬化剤を混合し、塗布し、加熱硬化することにより、後工程および使用時の温度変化(環境変化)に対して剥離やクラック等を発生させずに、透明な接着・封止を施すことができる。
本発明は、メチル基およびフェニル基で修飾されたシロキサン重合体からなる主剤と硬化剤を混合し、プラスチック基板および金属電極からなる被着体表面に塗布し、加熱硬化させる有機無機ハイブリッド透明封止材およびその製造方法に関する。
また、主剤の平均分子量が2000以下であることが好ましい。2000よりも大きい場合、はんだ付けの際に熱でクラックが発生しやすいからである。
また、Sn系、Ti系、Al系、Zn系、Zr系、Bi系、Fe系、Co系、Mn系、P系、Ni系の有機金属化合物のうち少なくとも1種類以上を硬化剤として主剤に添加することが好ましい。硬化剤を添加することにより、添加しない場合に比べ低温でかつ短時間に有機無機ハイブリッド材料を硬化させることができるからである。
また、硬化剤の添加量が50wt%以下であることが好ましい。50wt%を超える場合、急激な縮合反応の進行により泡が残りやすいためである。
また、300℃以下の温度で加熱することにより硬化することが好ましい。300℃を超える温度は被着体の耐熱温度よりも高い場合が多いからである。被着体の耐熱温度が低い場合、縮合反応の促進作用が強い硬化剤を用いることで、耐熱温度以下で硬化させることができる。加熱は、常圧下、加圧下、減圧下、不活性雰囲気下で行っても良い。また、マイクロ波加熱も有効である。
また、硬化後に被着体に対して良好な密着性を有することが好ましい。密着性が不十分であると剥離が起こりやすくなり、外観不良、接触不良、強度不足、断線などの不具合原因となるためである。
また、ジメチルユニット(珪素原子にメチル基が2つ結合したユニット)を有することが好ましい。硬化体の柔軟性を高めることができるからである。
また、モノフェニルユニット(珪素原子にフェニル基が1つ結合したユニット)を有することが好ましい。硬化体の硬度および耐熱性を高めることができるからである。
また、モノフェニルユニットの数に対してジメチルユニットの数が3倍以上であることが好ましい。3倍よりも少ない場合、硬化体の柔軟性が不十分でクラックや剥離が発生しやすいためである。
また、フェニル基、アミノ基のいずれか一方または両方を含有するプライマー溶液を用いて、被着体の表面にプライマー処理を施すことが好ましい。被着体表面にプライマー処理を施すことは密着性の改善に有効である。プライマーとしては、3−(N−フェニル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2,(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、p−[N−(2−アミノエチル)アミノメチル]フェネチルトリメトキシシラン等の1種類または2種類以上のシランカップリング剤を組み合わせたもの、特に3−(N−フェニル)アミノプロピルトリメトキシシランが好ましい。また、希釈溶媒は、プライマーを均一に溶解する有機溶媒が好ましく、特に被着体が水に弱い場合は水に対して溶解しないあるいは難溶な有機溶媒が好ましい。
以下、実施例に基づき、述べる。
(主剤の作製)
室温で主剤の原料アルコキシシランであるPhSi(OMe)33g、ジメチルジメトキシシラン(Me2Si(OMe)2)16gを70gのエタノールに溶解させた後、水135g、氷酢酸9mgを加えて混合した。混合溶液を開放系で100℃で3時間加熱撹拌し無色透明な粘性液体を得た。これをジエチルエーテルに溶解し、純水で酢酸を抽出した。ジエチルエーテルを留去し、無色透明な粘性液体(以下、主剤と呼ぶ)を得た。この主剤の平均分子量は400であった。
(封止サンプルの作製)
3−(N−フェニル)アミノプロピルトリメトキシシランの酢酸イソブチル溶液を用いて、市販のプリント配線されたプラスチック基板表面をプライマー処理した。主剤に硬化剤としてジブチルスズジアセテートを10wt%添加し、この基板に塗布し、60℃で3時間、100℃で3時間、150℃で5時間、170℃で2分間、260℃で1分間加熱して封止サンプルを作製した。−40℃〜100℃での冷熱サイクル試験(JIS C 0025に準拠)を行ったところ、剥離やクラックは発生せず良好な密着性を示した。さらに、40℃、90%RHで10日間保持後の封止サンプルに対して260℃で10秒間はんだ耐熱試験(JIS C 60068−2−20に準拠)を行ったところ、剥離やクラックは発生せず良好な密着性を示した。
(主剤の作製)
室温で主剤の原料アルコキシシランであるPhSi(OMe)36g、ジメチルジメトキシシラン(Me2Si(OMe)2)14gを40gのエタノールに溶解させた後、水135g、氷酢酸9mgを加えて混合した。混合溶液を密閉系で100℃で5時間加熱撹拌し無色透明な粘性液体を得た。これをジエチルエーテルに溶解し、純水で酢酸を抽出した。ジエチルエーテルを留去し、無色透明な粘性液体(以下、主剤と呼ぶ)を得た。この主剤の平均分子量は550であった。
(封止サンプルの作製)
3−アミノプロピルトリメトキシシランの酢酸イソブチル溶液を用いて、市販のフレキシブル基板表面をプライマー処理した。主剤に硬化剤としてビス(ラウロキシジブチルスズ)オキサイドを10wt%添加し、この基板に塗布し、60℃で3時間、100℃で3時間、150℃で5時間、170℃で2分間、260℃で1分間加熱して封止サンプルを作製した。−40℃〜100℃での冷熱サイクル試験(JIS C 0025に準拠)を行ったところ、剥離やクラックは発生せず良好な密着性を示した。さらに、40℃、90%RHで10日間保持後の封止サンプルに対して260℃で10秒間はんだ耐熱試験(JIS C 60068−2−20に準拠)を行ったところ、剥離やクラックは発生せず良好な密着性を示した。
(主剤の作製)
室温で主剤の原料アルコキシシランであるPhSi(OMe)37g、ジメチルジメトキシシラン(Me2Si(OMe)2)14gを70gのエタノールに溶解させた後、水135g、氷酢酸9mgを加えて混合した。混合溶液を開放系で100℃で3時間加熱撹拌し無色透明な粘性液体を得た。これをジエチルエーテルに溶解し、純水で酢酸を抽出した。ジエチルエーテルを留去し、無色透明な粘性液体(以下、主剤と呼ぶ)を得た。この主剤の平均分子量は630であった。
(封止サンプルの作製)
3−(N−フェニル)アミノプロピルトリメトキシシランのトルエン溶液を用いて、市販のフレキシブル基板表面をプライマー処理した。主剤に硬化剤としてアセチルアセトンアルミニウムを12wt%添加し、この基板に塗布し、60℃で3時間、100℃で3時間、150℃で5時間、170℃で2分間、260℃で1分間加熱して封止サンプルを作製した。−40℃〜100℃での冷熱サイクル試験(JIS C 0025に準拠)を行ったところ、剥離やクラックは発生せず良好な密着性を示した。さらに、40℃、90%RHで10日間保持後の封止サンプルに対して260℃で10秒間はんだ耐熱試験(JIS C 60068−2−20に準拠)を行ったところ、剥離やクラックは発生せず良好な密着性を示した。
(主剤の作製)
室温で主剤の原料アルコキシシランであるPhSi(OMe)39g、ジメチルジメトキシシラン(Me2Si(OMe)2)13gを70gのエタノールに溶解させた後、水135g、氷酢酸9mgを加えて混合した。混合溶液を開放系で100℃で3時間加熱撹拌し無色透明な粘性液体を得た。これをジエチルエーテルに溶解し、純水で酢酸を抽出した。ジエチルエーテルを留去し、無色透明な粘性液体(以下、主剤と呼ぶ)を得た。この主剤の平均分子量は700であった。
(封止サンプルの作製)
N−2,(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシランのトルエン溶液を用いて、市販のプリント配線されたプラスチック基板表面をプライマー処理した。主剤に硬化剤としてビス(アセトキシジブチルスズ)オキサイドを10wt%添加し、この基板に塗布し、60℃で3時間、100℃で3時間、150℃で5時間、170℃で2分間、260℃で1分間加熱して封止サンプルを作製した。−40℃〜100℃での冷熱サイクル試験(JIS C 0025に準拠)を行ったところ、剥離やクラックは発生せず良好な密着性を示した。さらに、40℃、90%RHで10日間保持後の封止サンプルに対して260℃で10秒間はんだ耐熱試験(JIS C 60068−2−20に準拠)を行ったところ、剥離やクラックは発生せず良好な密着性を示した。
(主剤の作製)
室温で主剤の原料アルコキシシランであるPhSi(OMe)32g、ジメチルジメトキシシラン(Me2Si(OMe)2)17gを70gのエタノールに溶解させた後、水135g、氷酢酸9mgを加えて混合した。混合溶液を開放系で100℃で3時間加熱撹拌し無色透明な粘性液体を得た。これをジエチルエーテルに溶解し、純水で酢酸を抽出した。ジエチルエーテルを留去し、無色透明な粘性液体(以下、主剤と呼ぶ)を得た。この主剤の平均分子量は320であった。
(封止サンプルの作製)
p−[N−(2−アミノエチル)アミノメチル]フェネチルトリメトキシシランの酢酸イソブチル溶液を用いて、市販のフレキシブル基板表面をプライマー処理した。主剤に硬化剤としてチタンテトラ(アセチルアセトナート)を10wt%添加し、この基板に塗布し、60℃で3時間、100℃で3時間、150℃で5時間、170℃で2分間、260℃で1分間加熱して封止サンプルを作製した。−40℃〜100℃での冷熱サイクル試験(JIS C 0025に準拠)を行ったところ、剥離やクラックは発生せず良好な密着性を示した。さらに、40℃、90%RHで10日間保持後の封止サンプルに対して260℃で10秒間はんだ耐熱試験(JIS C 60068−2−20に準拠)を行ったところ、剥離やクラックは発生せず良好な密着性を示した。
(比較例1)
市販のフレキシブル基板表面を3−(N−フェニル)アミノプロピルトリメトキシシランのトルエン溶液でプライマー処理した。封止・接着用に市販されているシリコーン樹脂を用いてこの基板に塗布し、封止サンプルを作製した。この封止サンプルを用いて−40℃〜100℃での冷熱サイクル試験、および、40℃、90%RHで10日間保持した後に260℃で10秒間はんだ耐熱試験を行ったところ、剥離およびクラックが全数にわたって発生した。
(比較例2)
市販のプリント配線されたプラスチック基板表面を3−(N−フェニル)アミノプロピルトリメトキシシランの酢酸イソブチル溶液でプライマー処理した。封止・接着用に市販されているエポキシ樹脂を用いてこの基板に塗布し、封止サンプルを作製した。この封止サンプルを用いて−40℃〜100℃での冷熱サイクル試験、および、40℃、90%RHで10日間保持した後に260℃で10秒間はんだ耐熱試験を行ったところ、剥離およびクラックが全数にわたって発生した。
(比較例3)
市販のプリント配線されたプラスチック基板表面を3−アミノプロピルトリメトキシシランの酢酸イソブチル溶液でプライマー処理した。封止・接着用に市販されているウレタン樹脂を用いてこの基板に塗布し、封止サンプルを作製した。この封止サンプルを40℃、90%RHで10日間保持したところ、剥離が発生した。さらにこのサンプルを用いて260℃で10秒間はんだ耐熱試験を行ったところ、剥離およびクラックが全数にわたって発生した。
バックライト、表示板、ディスプレイ、各種インジケーター等に使用されている発光ダイオード(LED)等の半導体発光素子の封止、太陽電池モジュールにおける太陽電池素子の封止、光通信用の受光部の封止等に使用されている透明封止材や、半導体パッケージと放熱板の接着剤等に使用することができる。また、PDPを始めとするディスプレイ部品の封着・被覆用材料、光スイッチや光結合器を始めとする光情報通信デバイス材料、光学機器材料、光機能性(非線形)光学材料、接着材料等、低融点ガラスが使われている分野、エポキシ等の有機材料が使われている分野に利用可能である。

Claims (10)

  1. メチル基およびフェニル基で修飾されたシロキサン重合体からなる主剤と硬化剤を混合し、プラスチック基板および金属電極からなる被着体表面に塗布し、加熱硬化させる有機無機ハイブリッド透明封止材。
  2. 主剤の平均分子量が2000以下であることを特徴とする請求項1に記載の有機無機ハイブリッド透明封止材。
  3. Sn系、Ti系、Al系、Zn系、Zr系、Bi系、Fe系、Co系、Mn系、P系、Ni系の有機金属化合物のうち少なくとも1種類以上を硬化剤として主剤に添加することを特徴とする請求項1または2に記載の有機無機ハイブリッド透明封止材。
  4. 硬化剤の添加量が50wt%以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項にに記載の有機無機ハイブリッド透明封止材。
  5. 300℃以下の温度で加熱することにより硬化することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の有機無機ハイブリッド透明封止材。
  6. 硬化後に被着体に対して良好な密着性を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の有機無機ハイブリッド透明封止材。
  7. ジメチルユニット(珪素原子にメチル基が2つ結合したユニット)を有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の有機無機ハイブリッド透明封止材。
  8. モノフェニルユニット(珪素原子にフェニル基が1つ結合したユニット)を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の有機無機ハイブリッド透明封止材。
  9. モノフェニルユニットの数に対してジメチルユニットの数が3倍以上であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の有機無機ハイブリッド透明封止材。
  10. フェニル基、アミノ基のいずれか一方または両方を含有するプライマー溶液を用いて、被着体の表面にプライマー処理を施すことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の有機無機ハイブリッド透明封止材。
JP2008057420A 2008-03-07 2008-03-07 熱硬化性有機無機ハイブリッド透明封止材 Pending JP2009215345A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008057420A JP2009215345A (ja) 2008-03-07 2008-03-07 熱硬化性有機無機ハイブリッド透明封止材

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008057420A JP2009215345A (ja) 2008-03-07 2008-03-07 熱硬化性有機無機ハイブリッド透明封止材

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009215345A true JP2009215345A (ja) 2009-09-24

Family

ID=41187546

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008057420A Pending JP2009215345A (ja) 2008-03-07 2008-03-07 熱硬化性有機無機ハイブリッド透明封止材

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009215345A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112011101961T5 (de) 2010-06-08 2013-03-21 Dic Corporation Dichtungsmaterial, Solarzellenmodul und Leuchtdiode
JP2013544902A (ja) * 2010-09-29 2013-12-19 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
KR20150110710A (ko) 2013-01-25 2015-10-02 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 실리콘을 포함하는 경화성 조성물 및 그 경화물

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004300416A (ja) * 2003-03-14 2004-10-28 Central Glass Co Ltd 有機無機ハイブリッドガラス状物質とその製造方法
WO2005000943A1 (ja) * 2003-06-26 2005-01-06 Central Glass Company, Limited 有機無機ハイブリッドガラス状物質とその製造方法
JP2005113115A (ja) * 2003-09-17 2005-04-28 Shin Etsu Chem Co Ltd 精密電子部品封止・シール用オルガノポリシロキサン組成物、精密電子部品の腐蝕防止又は遅延方法、並びに銀含有精密電子部品
JP2005239498A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Central Glass Co Ltd 有機無機ハイブリッドガラス状物質とその製造方法
JP2006077234A (ja) * 2004-08-10 2006-03-23 Shin Etsu Chem Co Ltd Led素子封止用樹脂組成物および該組成物を硬化してなる硬化物
JP2006143882A (ja) * 2004-11-19 2006-06-08 Asahi Denka Kogyo Kk ポリシロキサン及びその製造方法
JP2006294821A (ja) * 2005-04-08 2006-10-26 Nichia Chem Ind Ltd 耐熱性及び耐光性に優れる発光装置
JP2006328315A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Shin Etsu Chem Co Ltd 光関連デバイス封止用樹脂組成物およびその硬化物
JP2007116139A (ja) * 2005-09-22 2007-05-10 Mitsubishi Chemicals Corp 半導体発光デバイス用部材及びその製造方法、並びにそれを用いた半導体発光デバイス
JP2007246803A (ja) * 2006-03-17 2007-09-27 Shin Etsu Chem Co Ltd 耐光性プライマー組成物、該プライマー組成物を用いる発光半導体装置の製造方法、及び該方法により得られる発光半導体装置
JP2008120843A (ja) * 2006-11-08 2008-05-29 Momentive Performance Materials Japan Kk 光透過性シリコーンレジンと光透過性シリコーンレジン組成物および光半導体装置

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004300416A (ja) * 2003-03-14 2004-10-28 Central Glass Co Ltd 有機無機ハイブリッドガラス状物質とその製造方法
WO2005000943A1 (ja) * 2003-06-26 2005-01-06 Central Glass Company, Limited 有機無機ハイブリッドガラス状物質とその製造方法
JP2005113115A (ja) * 2003-09-17 2005-04-28 Shin Etsu Chem Co Ltd 精密電子部品封止・シール用オルガノポリシロキサン組成物、精密電子部品の腐蝕防止又は遅延方法、並びに銀含有精密電子部品
JP2005239498A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Central Glass Co Ltd 有機無機ハイブリッドガラス状物質とその製造方法
JP2006077234A (ja) * 2004-08-10 2006-03-23 Shin Etsu Chem Co Ltd Led素子封止用樹脂組成物および該組成物を硬化してなる硬化物
JP2006143882A (ja) * 2004-11-19 2006-06-08 Asahi Denka Kogyo Kk ポリシロキサン及びその製造方法
JP2006294821A (ja) * 2005-04-08 2006-10-26 Nichia Chem Ind Ltd 耐熱性及び耐光性に優れる発光装置
JP2006328315A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Shin Etsu Chem Co Ltd 光関連デバイス封止用樹脂組成物およびその硬化物
JP2007116139A (ja) * 2005-09-22 2007-05-10 Mitsubishi Chemicals Corp 半導体発光デバイス用部材及びその製造方法、並びにそれを用いた半導体発光デバイス
JP2007246803A (ja) * 2006-03-17 2007-09-27 Shin Etsu Chem Co Ltd 耐光性プライマー組成物、該プライマー組成物を用いる発光半導体装置の製造方法、及び該方法により得られる発光半導体装置
JP2008120843A (ja) * 2006-11-08 2008-05-29 Momentive Performance Materials Japan Kk 光透過性シリコーンレジンと光透過性シリコーンレジン組成物および光半導体装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6013001834; 高分子の科学 初版第10刷発行, 19860415, P14,15, 培風館 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112011101961T5 (de) 2010-06-08 2013-03-21 Dic Corporation Dichtungsmaterial, Solarzellenmodul und Leuchtdiode
JP2013544902A (ja) * 2010-09-29 2013-12-19 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
KR20150110710A (ko) 2013-01-25 2015-10-02 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 실리콘을 포함하는 경화성 조성물 및 그 경화물
US9512272B2 (en) 2013-01-25 2016-12-06 Central Glass Company, Limited Curable composition containing silicone, and cured product thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101688677B1 (ko) 플립 칩 실장용 접착제, 플립 칩 실장용 접착 필름, 반도체 칩의 실장 방법 및 반도체 장치
US6921782B2 (en) Adhesive and electric device
TWI428413B (zh) Self-adhesive organic polysiloxane composition
KR20120130705A (ko) 실페닐렌 구조 및 실록산 구조를 갖는 중합체 및 이의 제조 방법, 접착제 조성물, 접착 시트 및 반도체 장치 보호용 재료, 및 반도체 장치
KR20090066714A (ko) 반도체 조립용 접착 필름 조성물 및 접착 필름
JP2008019422A (ja) エポキシ・シリコーン混成樹脂組成物及び発光半導体装置
WO2017110948A1 (ja) 硬化性組成物、硬化性組成物の製造方法、硬化物、硬化性組成物の使用方法、および光デバイス
JPWO2015041342A1 (ja) 硬化性組成物、硬化物および硬化性組成物の使用方法
TW201714909A (zh) 接著劑組成物
WO2016031728A1 (ja) 硬化性組成物、硬化性組成物の製造方法、硬化物、硬化性組成物の使用方法、及び光デバイス
TWI392035B (zh) A method of closing a semiconductor element mounted on a gold-plated printed circuit board
JP2006241414A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料接着用プライマー組成物及び半導体装置
JP2010070714A (ja) 熱硬化性有機無機ハイブリッド透明封止材
JP2009215345A (ja) 熱硬化性有機無機ハイブリッド透明封止材
JP2009019171A (ja) ダイボンディングペースト
WO2009110405A1 (ja) 熱硬化性有機無機ハイブリッド透明材料
KR20150013174A (ko) 경화성 수지 조성물 및 프라이머 조성물
JP5074814B2 (ja) 接着剤組成物及びその使用方法
JP2008144021A (ja) 半導体チップ接合用接着剤
JP3866459B2 (ja) 接着剤
JP5099850B2 (ja) 半導体素子封止用組成物
JP2010135587A (ja) 半導体デバイス
JP5577845B2 (ja) 樹脂組成物及び樹脂組成物を使用して作製した半導体装置
JP2013211353A (ja) 回路接続材料、及びこれを用いた実装体の製造方法
TW202115160A (zh) 包含矽氧烷樹脂的硬化性樹脂組成物及其硬化物、矽氧烷樹脂的製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Effective date: 20100325

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100326

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101214

A977 Report on retrieval

Effective date: 20130111

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20130122

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130528