JP2009196879A - ガラス基板の製造方法及びガラス基板 - Google Patents
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Abstract
ダウンドロー法で直接、低温p−SiTFT基板用途に使用可能なガラス基板の製造を製造する方法と、この方法により得られるガラス基板を提供する。
【解決手段】
ダウンドロー法にて溶融ガラスをリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断してガラス基板を得る切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、徐冷工程において、(徐冷点+100℃)から徐冷点までの平均冷却速度より、徐冷点から(徐冷点−50℃)までの平均冷却速度を低くしたことを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
BaOは失透性および化学的耐久性を向上させる成分であり、0〜15%、特に0〜5%であることが好ましい。BaOの含有量が多すぎると密度が大きくなり、高温粘度が高くなり溶融性が悪くなるため好ましくない。
(比較実験)
比較のために、No.3の試料を用いてオフラインアニールを行い、熱収縮率、歪み値、反り値、及び平均表面粗さRaの変化を確認した。
11 成形体
12 冷却ローラー
2 徐冷炉
21 ヒーター
22 引っ張りローラー
231 第一の徐冷ゾーン
232 第二の徐冷ゾーン
233 第三の徐冷ゾーン
3 冷却室
4 切断室
G1 溶融ガラス
G2 ガラスリボン
G3 ガラス板
G31、G32 ガラス板片
M マーキング
T テープ
F 支持枠
F1 段差部
Claims (24)
- ダウンドロー法にて溶融ガラスをリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断してガラス基板を得る切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、徐冷工程において、(徐冷点+100℃)から徐冷点までの平均冷却速度より、徐冷点から(徐冷点−50℃)までの平均冷却速度を低くしたことを特徴とするガラス基板の製造方法。
- (徐冷点+100℃)から徐冷点までの平均冷却速度が30℃/分以上であることを特徴とする請求項1のガラス基板の製造方法。
- ダウンドロー法にて溶融ガラスをリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断してガラス基板を得る切断工程とを含み、徐冷工程が、ガラスを徐冷点まで冷却する第一の徐冷段階と、Tx(ここでTxは(徐冷点−50℃)から(徐冷点―200℃)の間にある温度)まで冷却する第二の冷却段階と、ガラスを(Tx―250℃)まで冷却する第三の徐冷段階とを含み、第一の徐冷段階の平均冷却速度より、第二の徐冷段階の平均冷却速度を低くしたことを特徴とするガラス基板の製造方法。
- (徐冷点+100℃)から徐冷点までの平均冷却速度で定義される、第一の徐冷段階の平均冷却速度が30℃/分以上であることを特徴とする請求項3のガラス基板の製造方法。
- 第二の徐冷段階の平均冷却速度より、第三の徐冷段階の平均冷却速度を高くしたことを特徴とする請求項3又は4のガラス基板の製造方法。
- Txから(Tx―250℃)までの平均冷却速度で定義される、第三の徐冷段階の平均冷却速度が50℃/分以上であることを特徴とする請求項3〜5の何れかのガラス基板の製造方法。
- ガラスリボンの有効幅が500mm以上となるように、溶融ガラスを成形することを特徴とする請求項1〜6の何れかのガラス基板の製造方法。
- ダウンドロー法が、オーバーフローダウンドロー法であることを特徴とする請求項1〜7の何れかのガラス基板の製造方法。
- 液相粘度が104.5dPa・s以上のガラスを用いることを特徴とする請求項1〜8の何れかのガラス基板の製造方法。
- 歪点が600℃以上のガラスを用いることを特徴とする請求項1〜9の何れかのガラス基板の製造方法。
- 質量百分率で、SiO2 50〜70%、Al2O3 10〜25%、B2O3 3〜15%、MgO 0〜10%、CaO 0〜15%、SrO 0〜15%、BaO 0〜15%、Na2O 0〜5%含有するガラスを用いることを特徴とする請求項1〜10の何れかのガラス基板の製造方法。
- フラットパネルディスプレイに使用されるガラス基板の製造方法であることを特徴とする請求項1〜11の何れかのガラス基板の製造方法。
- フラットパネルディスプレイが、低温p−SiTFTが基板上に形成されるディスプレイであることを特徴とする請求項12のガラス基板の製造方法。
- 請求項1〜13の何れかの方法で作製されてなることを特徴とするガラス基板。
- 常温から10℃/分の速度で昇温し、保持時間450℃で10時間保持し、10℃/分の速度で降温したときの熱収縮率が30ppm以下であり、平均表面粗さRaが0.3nm以下、歪み値が1.0nm以下であることを特徴とするガラス基板。
- ガラスの仮想温度が徐冷点から(徐冷点+44℃)の範囲にあり、平均表面粗さRaが0.3nm以下、歪み値が1.0nm以下であることを特徴とするガラス基板。
- 反り値が100μm以下であることを特徴とする請求項15又は16のガラス基板。
- 短辺が500mm以上であることを特徴とする請求項15〜17の何れかのガラス基板。
- 表面が未研磨であることを特徴とする請求項15〜18の何れかのガラス基板。
- 液相粘度が、104.5dPa・s以上のガラスからなることを特徴とする請求項15〜19の何れかのガラス基板
- 歪点が600℃以上のガラスからなることを特徴とする請求項15〜20の何れかのガラス基板。
- 質量百分率で、SiO2 50〜70%、Al2O3 10〜25%、B2O3 3〜15%、MgO 0〜10%、CaO 0〜15%、SrO 0〜15%、BaO 0〜15%、Na2O 0〜5%含有するガラスからなることを特徴とする請求項15〜21の何れかのガラス基板。
- フラットパネルディスプレイに使用されることを特徴とする請求項15〜22の何れかのガラス基板。
- フラットパネルディスプレイが、低温p−SiTFTが基板上に形成されるディスプレイであることを特徴とする請求項23のガラス基板。
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