JP2009027194A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 半導体ワークピースを処理するための磁気励起プラズマチャンバであって、
   ワークピース支持領域でワークピースを保持するためのワークピース支持体と、
   該ワークピース支持領域の周縁の周りに間隔をおいて配置される複数の電磁石と、
   該電磁石が共働して経時的に回転する磁界を発生するよう、連続する時間インターバルに対して決まった電流値の電流信号を連続して各電磁石に与えるための、電源と
   を備え、
   前記時間インターバルのそれぞれは、各電磁石に与えられる電流の値を該電源が変化させる遷移時間によって隔てられ、
   各遷移時間の間、磁極が変化せず大きさが変化する電流変化が電源により与えられる電磁石に対して、該遷移時間の短い部分の間、該電源が前記電流変化を与え、
   各遷移時間の間、磁極の変化を含む電流変化が電源により与えられる電磁石に対して、該遷移時間の長い部分の間、該電源が前記電流変化を与え、
   それぞれの遷移時間の該長い部分が、それぞれの遷移時間の該短い部分よりも長い磁気励起プラズマチャンバ。
2. それぞれの遷移時間の該長い部分が、それぞれの遷移時間全体と等しく、
   それぞれの遷移時間の該短い部分が、それぞれの遷移時間の半分に等しい請求項１に記載の磁気励起プラズマチャンバ。
3. 各遷移時間の間、磁極が変化せず大きさが増加する電流変化が電源により与えられる電磁石に対して、該遷移時間の最初のセグメントの間、該電源が前記電流変化を与え、
   各遷移時間の間、磁極が変化せず大きさが減少する電流変化が電源により与えられる電磁石に対して、該遷移時間の最後のセグメントの間、該電源が前記電流変化を与える請求項１に記載の磁気励起プラズマチャンバ。
4. 半導体ワークピースへのプラズマプロセスを磁気励起する方法であって、
   周縁で仕切られるワークピース支持領域で半導体ワークピースを保持するステップと、
   該ワークピース支持領域の周縁の周りに複数の電磁石を間隔をおいて配置するステップと、
   該電磁石が共働して経時的に回転する磁界を発生するよう、連続する時間インターバルに対して決まった連続する電流値の電流信号を各電磁石に供給する供給のステップであって、前記時間インターバルのそれぞれは、各電磁石に与えられる電流の値が変化する遷移時間によって隔てられ、前記供給のステップが、
   各遷移時間の間、磁極が変化せず大きさが変化する電流変化が与えられる電磁石に対して、該遷移時間の短い部分の間、前記電流変化が与えられ、
   各遷移時間の間、磁極の変化を含む電流変化が与えられる電磁石に対して、該遷移時間の長い部分の間、前記電流変化が与えられ、
   それぞれの遷移時間の該長い部分が、それぞれの遷移時間の該短い部分よりも長い
   前記供給のステップと
   を有する方法。
5. それぞれの遷移時間の該長い部分が、それぞれの遷移時間全体と等しく、
   それぞれの遷移時間の該短い部分が、それぞれの遷移時間の半分に等しい請求項４に記載の方法。
6. 各遷移時間の間、磁極が変化せず大きさが増加する電流変化が与えられる電磁石に対して、該遷移時間の最初のセグメントの間、前記電流変化を与える工程と、
   各遷移時間の間、磁極が変化せず大きさが減少する電流変化が与えられる電磁石に対して、該遷移時間の最後のセグメントの間、前記電流変化を与える工程と
   を更に有する請求項４に記載の方法。
7. プラズマから半導体ワークピース表面へのイオン流束の瞬間的な空間的均一性を向上する磁気励起プラズマチャンバであって、
   周縁により境界が与えられるワークピース領域を半導体ワークピースが占めるように前記半導体ワークピースを保持する手段と、
   前記ワークピース領域の周縁の周りに間隔をおいて続けて配置される第１の電磁石、第２の電磁石、第３の電磁石及び第４の電磁石と、
   前記第１〜第４の電磁石に電流を供給するように前記第１〜第４の電磁石に接続される電源と、
   前記電源は、第１のＮ磁極及び第１のＳ磁極をそれぞれ形成するように、前記第１及び第２の電磁石のそれぞれに第１の電流を供給し、
   前記電源は、第２のＳ磁極及び第２のＮ磁極をそれぞれ形成するように、前記第３及び第４の電磁石のそれぞれに第２の電流を供給し、
   各前記磁極は、前記ワークピース領域の中心軸から離れるよりも中心軸の方に向いており、
   前記第１のＮ磁極と、前記第１のＳ磁極と、前記第２のＳ磁極と、前記第２のＮ磁極は、前記ワークピース領域の周縁の周りで前記ワークピース領域を上から見たとき中心軸の周りの時計方向において前記第１のＮ磁極、前記第１のＳ磁極、前記第２のＳ磁極、前記第２のＮ磁極の並び順に増える方位角に位置しており、
   前記第２の電流は前記第１の電流より小さい、
   磁気励起プラズマチャンバ。
8. プラズマから半導体ワークピース表面へのイオン流束の瞬間的な空間的均一性を向上する磁気励起プラズマチャンバであって、
   周縁により境界が与えられるワークピース領域を半導体ワークピースが占めるように前記半導体ワークピースを保持する手段と、
   前記ワークピース領域の周縁の周りに間隔をおいて続けて配置される少なくとも４つの電磁石と、
   第１の電流及び前記第１の電流より少ない第２の電流を前記電磁石に同時に供給する電源と、
   前記電源は、第１のＮ磁極及び第１のＳ磁極を形成するように、前記電磁石のうちの少なくとも２つの電磁石に前記第１の電流を供給し、
   前記電源は、第２のＳ磁極及び第２のＮ磁極を形成するように、前記電磁石のうち前記第１の電流が供給される前記電磁石以外の少なくとも２つの電磁石に前記第２の電流を供給し、
   各前記磁極は、前記ワークピース領域の中心軸から離れるよりも中心軸の方に向いており、
   前記第１のＮ磁極と、前記第１のＳ磁極と、前記第２のＳ磁極と、前記第２のＮ磁極は、前記ワークピース領域の周縁の周りで前記ワークピース領域を上から見たとき中心軸の周りの時計方向において前記第１のＮ磁極、前記第１のＳ磁極、前記第２のＳ磁極、前記第２のＮ磁極の並び順に増える方位角に位置しており、
   前記電源は、前記電磁石が共働して経時的に回転する磁界を発生するよう、続けて配置された前記電磁石に連続した時間で該第１及び第２の電流を供給する、
   磁気励起プラズマチャンバ。
9. 前記第１のＮ磁極と前記第２のＳ磁極とがそれぞれ、互いに平行な磁力軸を有し、
   前記第２のＮ磁極と前記第１のＳ磁極とがそれぞれ、前記第１のＮ磁極の磁力軸と前記第２のＳ磁極の磁力軸に垂直な磁力軸を有する請求項７又は８に記載のチャンバ。
10. 前記第１のＮ磁極及び前記第１のＳ磁極は、前記ワークピース領域を２つに分ける幾何学的な線の一方の側に配置されており、
    前記第２のＮ磁極及び前記第２のＳ磁極は、前記ワークピース領域を２つに分ける該幾何学的な線の他方の側に配置されている請求項７又は８に記載のチャンバ。