JP2009013130A - ４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類およびその製造方法、ならびに４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造方法 - Google Patents

４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類およびその製造方法、ならびに４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】工業的に入手が容易な原料を用い、汎用的な製造設備を用いて、４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類を高収率で製造することができる方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ＩＩ）：
Figure 2009013130

（式中、Ｒ1は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表わす。Ｒ2は、独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基を表わす。Ｒ3は、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わす。ｍは、０〜４の整数を表わす。）で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類およびその製造方法、ならびに該化合物を用いた４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造中間体として有用な４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類およびその製造方法に関する。また、本発明は、当該４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を用いた４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造方法に関する。
４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類は、たとえば特許文献１〜３に記載されるように、殺虫剤、殺ダニ剤等の農薬などの製造中間体として有用な化合物である。
４−（トリフルオロメチルチオ）アニリンは、アンモニアの存在下、４−アミノチオフェノールとトリフルオロヨードメタンとを、ＵＶ照射を行ないながら反応させることにより製造し得る（特許文献４）。
しかし、ＵＶ照射装置を用いた製造方法は、製造設備の煩雑化を伴い、必ずしも工業生産において有利な方法とはいえない。また、トリフルオロヨードメタンの沸点は非常に低い（−２２．５℃）ため、その保管等において製造設備の煩雑化をもたらし得る。
特開２００６−２６５２０９号公報 特開２００４−１８２７１６号公報 国際公開第０７／０４６５１３号パンフレット 欧州特許出願公開第０２７７０９１号明細書
本発明の目的は、工業的に入手が容易な原料を用い、汎用的な製造設備を用いて、４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類を高収率で製造することができる方法を提供することである。
本発明者らは、４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を、４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造のための製造中間体とすることにより、上記課題が解決されることを見出した。また、製造中間体である４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を、高収率で工業的に製造するのに適した、比較的安全性の高い塩素化剤を用いた新規な製造方法を見出した。すなわち、本発明は以下のとおりである。
本発明は、下記一般式（Ｉ）：
Figure 2009013130
（式中、Ｒ1は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表わす。Ｒ2は、独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基を表わす。Ｒ3は、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わす。ｍは、０〜４の整数を表わす。）で示される４−（メチルチオ）アニリン類を、塩化スルフリルと反応させることを特徴とする、下記一般式（ＩＩ）：
Figure 2009013130
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびｍは、前記と同じ意味を表わす。）で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類の製造方法を提供する。
また、本発明は、下記一般式（Ｉ）：
Figure 2009013130
（式中、Ｒ1は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表わす。Ｒ2は、独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基を表わす。Ｒ3は、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わす。ｍは、０〜４の整数を表わす。）
で示される４−（メチルチオ）アニリン類を、塩化スルフリルと反応させることにより、下記一般式（ＩＩ）：
Figure 2009013130
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびｍは、前記と同じ意味を表わす。）
で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を得る工程と、
前記一般式（ＩＩ）で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を、フッ素化剤と反応させることにより、下記一般式（ＩＩＩ）：
Figure 2009013130
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびｍは、前記と同じ意味を表わす。Ｒ4は、水素原子、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わす。）
で示される４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類を得る工程と、を含む４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造方法を提供する。フッ素化剤としては、フッ化水素および／またはフッ化水素−アミン錯体を好ましく用いることができる。
さらに本発明は、下記一般式（ＩＩ）：
Figure 2009013130
（式中、Ｒ1は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表わす。Ｒ2は、独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基を表わす。Ｒ3は、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わす。ｍは、０〜４の整数を表わす。）で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を提供する。
本発明において、上記一般式（Ｉ）および（ＩＩ）におけるＲ3は、アセチル基であることが好ましい。
本発明によれば、４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を、４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造のための製造中間体としているため、工業的に入手が容易で、比較的安全性の高い試薬、および比較的簡便な設備を用いて４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類を高収率で製造することができる。製造中間体の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類は、本発明により、工業生産に適した方法で、高収率で製造することができる。
＜４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類＞
本発明の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類は、下記一般式（ＩＩ）：
Figure 2009013130
で示される。４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類は、農薬等の中間体として有用である、後述の４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造中間体として極めて有用であり、当該本発明の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を中間体として用いることにより、比較的簡便な製造設備および方法で、かつ高収率で４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類を得ることができる。
上記一般式（ＩＩ）において、Ｒ1は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基である。炭素数１〜３のアルキル基を具体的に示せば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基である。Ｒ2は、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基を表わす。ハロゲン原子の具体例を示せば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ原子である。炭素数１〜３のアルキル基の具体例を示せば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基である。炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基の具体例を示せば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等である。Ｒ2の数を示すｍは０〜４の整数である。Ｒ2は、ベンゼン骨格の２、３、５、６位から選択されるいずれの位置に結合されていてもよい。４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類がＲ2を複数有する場合、これらのＲ2は、同じであってもよく、異なっていてもよい。
Ｒ3は、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わし、本発明の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類の製造方法において、アミノ基またはアルキル置換アミノ基の保護基としての役割を果たす。Ｒ3は、ホルミル基、アセチル基およびトリフルオロアセチル基から選択されるいずれの基であってもよいが、得られる４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類の収率および純度等を考慮すると、Ｒ3は、アセチル基またはホルミル基であることが好ましく、アセチル基であることがより好ましい。また、４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類から４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類を調製する場合における、４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の収率および純度等を考慮すると、Ｒ3は、アセチル基またはトリフルオロアセチル基であることが好ましく、アセチル基であることがより好ましい。アミノ基またはアルキル置換アミノ基が、これらいずれかの保護されていない場合および上記以外の保護基で保護されている場合には、得られる４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類の収率および純度は著しく低下するか、またはほとんど生成しない。
次に、本発明の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類の製造方法について説明する。本発明の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類は、いずれの方法により調製されてもよいが、次に示す方法を好適に用いることができる。すなわち、下記一般式（Ｉ）：
Figure 2009013130
で示される４−（メチルチオ）アニリン類を、塩化スルフリルを用いてクロロ化する方法である。ここで、上記一般式（Ｉ）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3およびｍは、上記一般式（ＩＩ）の場合と同じ意味を表わす。以下、一般式（Ｉ）の４−（メチルチオ）アニリン類から、塩化スルフリルを用いて、一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を製造する方法について詳細に説明する。
クロロ化反応における、塩化スルフリルの使用量は、理論的には、一般式（Ｉ）の４−（メチルチオ）アニリン類に対して３当量であるが、反応の状況に応じて適宜増減させてもよい。具体的には、塩化スルフリルの使用量は、一般式（Ｉ）の４−（メチルチオ）アニリン類１モルに対して、通常３〜１０モルであり、好ましくは、３〜４モルである。
クロロ化反応は、溶媒を用いずに行なうことも可能であるが、通常、溶媒の存在下に実施する。溶媒としては、たとえば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル、酢酸エチル等のエステル、メチルイソブチルケトン等のケトンなどを挙げることができる。クロロ化反応の反応性等を考慮すると、溶媒は、好ましくはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素などが好ましく、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどがより好ましい。溶媒の使用量は、特に制限されないが、たとえば一般式（Ｉ）の４−（メチルチオ）アニリン類１質量部に対して、０．５〜５０質量部程度とすることができる。好ましくは、１〜２０質量部、より好ましくは１〜１０質量部程度である。
クロロ化反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃であり、好ましくは０〜８０℃の範囲である。反応時間は、反応時間や塩化スルフリルの使用量等により異なるが、通常、瞬時〜１００時間であり、典型的には、１〜２４時間程度の範囲である。
反応の進行は、たとえば反応混合物を一部取り出し、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等のクロマトグラフィーなどの手段を用いて、反応混合物中に存在する一般式（Ｉ）の４−（メチルチオ）アニリン類および一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類の量を定性的または定量的に分析することにより確認することができる。本クロロ化反応においては、４−（メチルチオ）アニリン類のモノクロロ体およびジクロロ体が中間体として生成するが、上記分析手段により、反応途中における、これらの中間体の量を分析することもできる。
本発明に従うクロロ化方法によれば、工業的に有利な手法で、高収率、高純度の一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を得ることができる。本発明のクロロ化方法によると、ベンゼン環のクロロ化、およびＲ2がアルキル基である場合における該アルキル化のクロロ化をほとんど起こすことなく、高純度の一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を製造することができる。
反応終了後の反応混合物は、そのまま、次の４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の調製に供してもよいし、たとえば、次に示す後処理工程を経て、一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を単離してもよい。
（ａ）反応混合物から未反応の塩化スルフリルを除去する工程。
（ｂ）反応混合物を水、アルカリ性水溶液、飽和食塩水等で洗浄する工程。
（ｃ）４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を単離する工程。
上記工程（ａ）において、未反応の塩化スルフリルを除去する方法としては、たとえば、１）反応混合物に不活性ガス（たとえば、窒素、アルゴン等）を吹き込む方法、２）反応混合物を、必要に応じて有機溶媒で希釈した後、部分濃縮する方法、などを挙げることができる。希釈に用いられる有機溶媒としては、特に限定されないが、たとえば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル、酢酸エチル等のエステル、メチルイソブチルケトン等のケトン、およびそれらの混合物などが挙げられる。
上記工程（ｂ）において、反応混合物の洗浄は、たとえば、必要に応じて疎水性有機溶媒で希釈した後、水、アルカリ性水溶液、飽和食塩水などのいずれか、または全部を用いて行なうことができる。疎水性有機溶媒としては、たとえば、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、メチルイソブチルケトン等のケトン、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルシクロペンチルエーテル等のエーテル、４−メチル−２−ペンタノール、ｓ−ブタノールなどの水と分液するアルコール、およびそれらの混合物などが挙げられる。アルカリ性水溶液としては、たとえば水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液等を挙げることができる。
上記工程（ｃ）において、４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を単離する方法としては、たとえば１）洗浄後の有機層を蒸発、乾固させる方法、２）必要に応じて部分濃縮した後、必要に応じて冷却して、生じた固体を濾別する方法、３）必要に応じて部分濃縮し、水と親水性有機溶媒との任意の割合の混合物に注加した後、必要に応じて冷却して、生じた固体を濾別する方法、などを挙げることができる。親水性有機溶媒としては、特に制限されないが、たとえば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等のアルコールなどを用いることができる。
濾別した固体（４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類）は、乾燥してもよいし、乾燥することなく、次工程の４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の調製に供してもよい。また、単離した乾燥または未乾燥状態の固体は、たとえば、再結晶、カラムクロマトグラフィー、水または貧溶媒等による洗浄等により、さらに精製することができる。貧溶媒としては、たとえば、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルシクロペンチルエーテル等のエーテル、およびそれらの混合物が挙げられる。
なお、上記（ａ）〜（ｃ）の工程の１または２以上は省略されてもよい。たとえば、反応混合物への不活性ガスの吹き込み、部分濃縮を行なうことなく、工程（ｂ）を行ない、洗浄時における水またはアルカリ性水溶液などとの接触により、未反応の塩化スルフリルを分解、除去してもよい。また、工程（ｂ）および（ｃ）、または工程（ｃ）を行なうことなく、次工程の４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の調製に供してもよい。
次に、上記一般式（Ｉ）で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類の製造方法について説明する。一般式（Ｉ）で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類は、たとえば、以下に示す反応（Ａ−１）〜（Ａ−２）および（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）に示される反応等により調製することができる。
Figure 2009013130
ここで、化合物（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）および（Ｉ−ｃ）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3およびｍは、一般式（Ｉ）の場合と同じ意味を表わす。
反応（Ａ−１）は、一般式（Ｉ）のＲ1が水素原子である場合には行なわない。Ｒ1が炭素数１〜３のアルキル基である場合における反応（Ａ−１）のアルキル化は、化合物（Ｉ−ａ）と下記一般式（ＩＶ）：
Ｒ5−Ｙ （ＩＶ）
で示される化合物（以下、化合物（ＩＶ）と称する）とを反応させることにより行なうことができる。ここで、一般式（ＩＶ）におけるＲ5は、炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｙは、脱離基を表わす。
脱離基Ｙとしては、たとえば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ＣＨ3ＳＯ3−、ｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3−、ＣＨ3ＯＳＯ3−などを挙げることができる。化合物（ＩＶ）の具体例としては、たとえば、ジメチル硫酸、ヨウ化メチル、メタンスルホン酸エチル、臭化エチル、塩化イソプロピル、ｐ−トルエンスルホン酸プロピル等を挙げることができる。
反応（Ａ−１）のアルキル化は、通常、塩基の存在下、溶媒中で行なわれる。溶媒としては、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル、クロロホルム、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチルイミダゾリノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、水、およびこれらの混合物が挙げられる。
塩基としては、たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水素化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の炭酸塩、ナトリウムエチラート、ナトリウムメチラート等のアルカリ金属のアルコラート、ノルマルブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等の有機リチウム試薬およびトリエチルアミン、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
化合物（ＩＶ）の使用量は特に限定されず、化合物（ＩＶ）が反応条件下において液体である場合には、化合物（ＩＶ）を溶媒量用いることもできるが、通常は、化合物（Ｉ−ａ）１モルに対して、１〜１０モル程度であり、好ましくは２〜５モル程度である。また、塩基の使用量も特に限定されるものではなく、化合物（Ｉ−ａ）１モルに対して、１〜１０モル程度であり、好ましくは２〜５モル程度である。
アルキル化の反応温度は、通常−７８〜１５０℃の範囲であり、好ましくは０〜１００℃の範囲である。反応時間は、反応温度により異なるが、通常、瞬時〜１００時間の範囲である。
反応終了後は、たとえば、反応混合物を水に注加し、必要に応じて中和した後、有機溶媒抽出してから、有機層を乾燥、濃縮する等の、通常の後処理操作を行なうことにより、化合物（Ｉ−ｂ）を単離することができる。単離された化合物（Ｉ−ｂ）は再結晶、カラムクロマトグラフィー等により、さらに精製することができる。また、単離された化合物（Ｉ−ｂ）は、精製することなく、次工程に使用することもできる。あるいは、反応終了後の反応混合物についての後処理操作の一部または全部を行なうことなく、次工程に進んでもよい。
上記化合物（Ｉ−ｂ）を、下記一般式（Ｖ）：
Ｒ3 2Ｏ （Ｖ）
で示される化合物（以下、化合物（Ｖ）と称する）とを反応させることにより、一般式（Ｉ）で示される４−（メチルチオ）アニリン類を得ることができる（反応（Ａ−２））。ここで、一般式（Ｖ）におけるＲ3は、一般式（Ｉ）の場合と同じ意味を表わす。
反応Ａ−２は、塩基の存在下または非存在下、溶媒中または溶媒の非存在下で行なうことができる。溶媒としては、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル、クロロホルム、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチルイミダゾリノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、水、およびこれらの混合物が挙げられる。
塩基としては、たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水素化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の炭酸塩、ナトリウムエチラート、ナトリウムメチラート等のアルカリ金属のアルコラート、ノルマルブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等の有機リチウム試薬およびトリエチルアミン、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
化合物（Ｖ）および塩基の使用量は特に限定されず、通常は、化合物（Ｉ−ｂ）１モルに対して、それぞれ１〜６モル程度である。反応温度は、通常−７８〜１５０℃の範囲であり、好ましくは０〜１００℃の範囲である。反応時間は、反応温度により異なるが、通常、瞬時〜１００時間の範囲である。
反応終了後は、たとえば、反応混合物を水に注加し、必要に応じて中和した後、有機溶媒抽出してから、有機層を乾燥、濃縮する等の、通常の後処理操作を行なうことにより、一般式（Ｉ）で示される４−（メチルチオ）アニリン類を単離することができる。単離後に、再結晶、カラムクロマトグラフィー等により、さらに精製することができる。また、単離された一般式（Ｉ）で示される４−（メチルチオ）アニリン類は、精製することなく、次工程に使用することもできる。あるいは、反応終了後の反応混合物についての後処理操作の一部または全部を行なうことなく、次工程に進んでもよい。
反応（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）による一般式（Ｉ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類の製造は、反応（Ａ−１）〜（Ａ−２）の場合と比較すると、Ｒ1およびＲ3の導入順序が異なるのみで、基本的には同様にして化合物（Ｉ−ａ）から製造することができる。なお、反応（Ｂ−２）は、一般式（Ｉ）のＲ1が水素原子である場合には行なわない。
化合物（Ｉ−ａ）は、たとえば、特開昭５５−１２９２６３号公報等に記載されている化合物であり、工業的に入手可能な化合物から容易に製造することができる。たとえば、以下に示すように、１）メルカプトアニリン類（化合物（Ｉ−ｄ））と、ジメチル硫酸またはヨウ化メチルとの反応（反応（Ｃ−１））および、２）アニリン類（化合物（Ｉ−ｅ））とチオシアン酸塩との反応により、チオシアノアニリン類（化合物Ｉ−ｆ）を得た後、アルカリ条件下等でチオシアノ基をメチルチオ基に変換する方法（反応（Ｄ−１））、などを挙げることができる。
Figure 2009013130
＜４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類＞
本発明に係る４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類は、下記一般式（ＩＩＩ）：
Figure 2009013130
で示される化合物である。この４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類は、農薬等の中間体などと有用であり、上記本発明の一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類から、効率よく製造することができる。
ここで、一般式（ＩＩＩ）におけるＲ1、Ｒ2およびｍは、一般式（ＩＩ）の場合と同じ意味である。Ｒ4は、水素原子、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わす。一般式（ＩＩＩ）で示される４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類は、Ｒ4が水素原子である化合物と、Ｒ4がホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基である化合物との混合物であってもよい。
一般式（ＩＩＩ）で示される４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類は、上記した本発明の一般式（ＩＩ）で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類から、従来公知のフッ素化剤を用いて製造することができる。一般式（ＩＩ）で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類としては、上記した本発明の製造方法により製造したものを好適に用いることができる。
フッ素化剤としては、特に制限されないが、たとえばＨＦ（フッ化水素）、ＨＦ−アミン錯体、およびこれらの混合物を用いることができる。ＨＦ−アミン錯体としては、たとえば、ピリジン−ＨＦ、トリエチルアミン−ＨＦなどを挙げることができる。アミンとＨＦとの組成比は特に制限されない。フッ素化剤の使用量は、理論的には、一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類に対して３当量であるが、反応の状況に応じて適宜増減させてもよい。具体的には、フッ素化剤がフッ化水素（ＨＦ）の場合、フッ化水素（ＨＦ）の使用量は、一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類１モルに対して、通常３〜１００モルである。過剰分のＨＦおよび／またはＨＦ−アミン錯体は、回収、再利用することも可能である。
フッ素化反応は、必要に応じて触媒や溶媒の存在下に行なうことができる。触媒としては、たとえばフッ化アンチモン等のハロゲン金属が挙げられ、その使用量は、一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類１モルに対して、触媒量〜過剰量（たとえば、０．００１〜１０モル程度、好ましくは、０．０１〜１モル程度）とすることができる。
溶媒としては、たとえば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル、酢酸エチル等のエステル、メチルイソブチルケトン等のケトンなどを挙げることができる。フッ素化反応の反応性等を考慮すると、溶媒は、好ましくはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素などであり、より好ましくはトルエン、キシレン、クロロベンゼンなどである。溶媒の使用量は、特に制限されないが、たとえば一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類１質量部に対して、０．５〜３０質量部程度とすることができる。好ましくは、１〜１０質量部程度である。
フッ素化反応の反応温度は、フッ素化剤がフッ化水素（ＨＦ）の場合は、通常−２０〜１００℃であり、フッ素化剤がピリジン・ＨＦ錯体等のＨＦ−アミン錯体である場合は、通常１００〜２５０℃の範囲である。反応時間は、反応時間やフッ素化剤および触媒の使用量等により異なるが、通常、瞬時〜１００時間であり、典型的には、１〜２４時間程度の範囲である。フッ素化反応は、必要に応じて、オートクレーブ等を用いて加圧下で行なわれてもよい。
反応の進行は、たとえば反応混合物を一部取り出し、薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等のクロマトグラフィーなどの手段を用いて、反応混合物中に存在する一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類および一般式（ＩＩＩ）の４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の量を定性的または定量的に分析することにより確認することができる。本フッ素化反応においては、４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類のモノフルオロ体およびジフルオロ体が中間体として生成するが、上記分析手段により、反応途中における、これらの中間体の量を分析することもできる。なお、本フッ素化反応においては、フッ素反応の反応温度やフッ素化剤の量などの調整により、４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類のモノフルオロ体および／またはジフルオロ体を得ることもできる。また、本フッ素化反応においては、反応条件および後処理時の条件によっては、アミノ基またはアルキル置換アミノ基の保護基（ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基）が脱保護される場合があるが、この場合、一般式（ＩＩＩ）の４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類は、当該保護基を有するものと、有しないものとの混合物として、もしくは保護基を有しないもの単独として得られる。
反応終了後の反応混合物は、そのまま、農薬等の製造工程に供してもよいし、たとえば、次に示す後処理工程を経て、一般式（ＩＩＩ）の４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類を単離してもよい。
（ｉ）反応混合物を水、アルカリ性水溶液、飽和食塩水等で洗浄する工程。
（ｉｉ）４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類を単離する工程。
上記工程（ｉ）において、反応混合物の洗浄は、たとえば、必要に応じて疎水性有機溶媒で希釈した後、水、アルカリ性水溶液、飽和食塩水などのいずれか、または全部を用いて行なうことができる。疎水性有機溶媒としては、一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類について記載したものを用いることができる。
上記工程（ｉｉ）において、４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類を単離する方法としては、たとえば１）洗浄後の有機層を蒸発、乾固させる方法、２）必要に応じて部分濃縮した後、必要に応じて冷却して、生じた固体を濾別する方法、３）必要に応じて部分濃縮し、水と親水性有機溶媒との任意の割合の混合物に注加した後、必要に応じて冷却して、生じた固体を濾別する方法、などを挙げることができる。親水性有機溶媒としては、一般式（ＩＩ）の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類について記載したものを用いることができる。
濾別した固体（４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類）は、乾燥してもよいし、乾燥することなく、農薬等の製造工程に供してもよい。また、単離した乾燥または未乾燥状態の固体は、たとえば、再結晶、カラムクロマトグラフィー、水または貧溶媒等による洗浄等により、さらに精製することができる。貧溶媒としては、たとえば、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルシクロペンチルエーテル等のエーテル、およびそれらの混合物が挙げられる。
以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（製造例１：２−フルオロ−４−メチルチオア二リンの合成−１）
Figure 2009013130
２−フルオロ−４−メルカプトアニリン５９.７９ｇ、ｔ−ブチルメチルエーテル１６７．０１ｇおよびヨウ化メチル５９.７９ｇの混合物に、内温を２０〜３０℃に制御しながら、トリエチルアミン４３．７２ｇを４５分間かけて滴下した。室温で２時間攪拌後、水１５０．１６ｇを注加し、分液した。水層をｔ−ブチルメチルエーテル１０５ｇで２回抽出し、合わせた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−１）５７．８８ｇを得た。
得られた２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−１）の1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ-ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４３（ｓ，３Ｈ）、３．６−３．８（ｂｒ，２Ｈ）、６．６６−６．７３（ｍ，１Ｈ）、６．９３−７．０２（ｍ，２Ｈ）。
（製造例２：Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−メチルチオア二リンの合成）
Figure 2009013130
２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−１）４０．４１ｇに、攪拌下、無水酢酸２６．２４ｇを氷冷下、１.５時間かけて滴下した。室温で１時間攪拌後、ｔ−ブチルメチルエーテル４０ｇを加え、内温２０〜２５℃でさらに２時間攪拌した。反応混合物に、酢酸エチル４００ｇおよび水８０ｇを加えた後、内温４５〜５１℃で分液した。有機層を飽和重曹水８０ｇで２回洗浄した。合わせた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣（４９．０２ｇ）をヘキサン５０ｇで２回洗浄後、乾燥して、Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−２）４８．６０ｇを得た。
得られたＮ−アセチル−２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−２）の1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ-ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．２１（ｓ，３Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）、６．９８−７．０３（ｍ，２Ｈ）、７．３４（ｂｒ，１Ｈ）、８．１６−８．２１（ｍ，１Ｈ）。
（製造例３：Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−メチルチオア二リンの合成）
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−２）３．０５ｇ、アセトン８．９７ｇおよび炭酸カリウム２．０９ｇの混合物に、室温下、ジメチル硫酸２．３８ｇを滴下後、５４℃に昇温し、攪拌した。途中、ジメチル硫酸２．９７ｇ、炭酸カリウム２．０８ｇおよびアセトン４．４６ｇを追加し、５０時間攪拌した。混合物を室温に冷却し、水３８ｇおよび酢酸エチル２０ｇを加え、分液した。水層を酢酸エチル２０ｇで抽出後、油層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−メチルチオア二リン（化合物Ｓ−３）を含有する生成物３．３２ｇ得た。該生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｓ−３のＧＣ面積百分率は、９７．９％であった。
得られたＮ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−メチルチオア二リン（化合物Ｓ−３）の1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ-ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．８７（ｓ，３Ｈ）、２．５１（ｓ，３Ｈ）、３．２０（ｓ，３Ｈ）、７．０−７．１（ｍ，２Ｈ）、７．１−７．２（ｍ，１Ｈ）。
（製造例４：２−フルオロ−４−チオシアノア二リンの合成）
Figure 2009013130
チオシアン酸ナトリウム２１０．９ｇおよびメタノール２００．９ｇの混合液に、内温を−１０〜−６℃に制御しながら、臭化ナトリウム６０．２ｇ、メタノール１６６．６ｇおよび臭素１６３．７ｇからなる溶液を９０分間かけて滴下した。その混合液に、内温−１０〜−５℃に制御しながら、２−フルオロアニリン１００．０ｇを５０分間かけて滴下した。同温度で３時間攪拌後、０℃に冷却された水７８４ｇへ注加した。炭酸ナトリウムで中和した後、クロロホルム１９６ｇで２回抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して、２−フルオロ−４−チオシアノアニリン（化合物Ｓ−４）１５１．９ｇを得た。
（製造例５：２−フルオロ−４−メチルチオア二リンの合成−２）
Figure 2009013130
２−フルオロ−４−チオシアノアニリン（化合物Ｓ−４）１．９３ｇとメタノール５．６８ｇとの混合物に、室温下、水酸化ナトリウム０．４５ｇとメタノール５．６８ｇとの混合物を６５分間かけて滴下後、５５−６０℃に昇温し、２時間攪拌した。得られた反応物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−１）のＬＣ面積百分率は、７５．９％であった。
＜実施例１：Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリンの合成−１＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−２）３．０３ｇとクロロホルム９．０ｇとの混合物に、室温下、塩化スルフリル６．３４ｇとクロロホルム９．０ｇとの混合物を１０分間かけて滴下した。次に、６０℃に昇温して４時間攪拌した。途中、クロロホルム３．０５ｇおよび塩化スルフリル０．４６ｇを追加した。室温に冷却した後、水１７．９ｇに反応混合物を注加した。ついで、酢酸エチル３６．８ｇおよび水１０．１ｇを加えた後、分液した。水層をさらに酢酸エチル９ｇで２回抽出した。有機層を合わせた後、飽和重曹水２０．８ｇおよび飽和食塩水２０ｇで順に洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して、Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１）を含有する生成物を得た（４．５４ｇ）。該生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−１のＧＣ面積百分率は、９７％であった。該生成物をさらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して精製物を得た。
得られた生成物（化合物Ｅ−１）の1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．２７（ｓ，３Ｈ）、７．５５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．４，２．０Ｈｚ）、７．５７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、８．５５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．４，７．６Ｈｚ）。
＜実施例２：Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリンの合成−２＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−２）３．０２ｇとクロロベンゼン９．０ｇとの混合物に、室温下、塩化スルフリル６．７５ｇとクロロベンゼン９．０ｇとの混合物を１５分間かけて滴下した。ついで、６０−６５℃に昇温して、３時間攪拌した。途中、塩化スルフリル０．０７ｇを追加した。次に、室温に冷却した後、酢酸エチル４２．１ｇおよび水１２ｇを加えた後、分液した。水層をさらに酢酸エチル９ｇで２回抽出した。有機層を合わせた後、飽和重曹水９．０ｇおよび飽和食塩水９．０ｇで順に洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して、Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１）を含有する生成物を得た（４．４９ｇ）。該生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−１のＧＣ面積百分率は、９９％であった。
＜参考例１：Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリンの合成−３＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−２）３０．２ｇとモノクロロベンゼン２９９ｇとの混合物に、室温下、光照射した（光源：２５０Ｗ高圧水銀灯）。次に、攪拌下、塩素ガス４５．４ｇを７.５時間で吹き込んだ。反応混合物に窒素ガスを吹き込んで窒素置換した後、酢酸エチル１８０ｇおよび水１２０ｇを加え、５％水酸化ナトリウム水溶液を、水層のｐＨが６になるまで加えた。分液後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をジイソプロピルエーテル４０ｇで３回洗浄して、Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１）を含有する生成物３１．８ｇを得た。該生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−１のＧＣ面積百分率は、９０％であった。
＜実施例３：Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−メチルチオア二リン（化合物Ｓ−３）１．０８ｇとクロロベンゼン３．２０ｇとの混合物に、室温下、塩化スルフリル２．２５ｇとクロロベンゼン３．２０ｇとの混合物を３５分間かけて滴下した。混合物を６０−６５℃に昇温して４時間攪拌した。塩化スルフリル０．１１ｇを追加し、同温度で２時間攪拌した。混合物を室温に冷却した後、水６．３ｇを加え、洗浄後、分液した。水層をさらにクロロベンゼン３．２ｇで２回抽出した。有機層を合わせた後、飽和重曹水６．３ｇ、飽和食塩水１２．４ｇで順に洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−２）を含有する生成物１．５２ｇを得た。該生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−２のＧＣ面積百分率は、９２％であった。該生成物をさらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して精製物を得た。
得られた生成物（化合物Ｅ−２）の1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ-ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．９２（ｂｓ，３Ｈ）、３．２８（ｂｓ，３Ｈ）、７．３−７．５（ｍ，１Ｈ）、７．６−７．７（ｍ，２Ｈ）。
＜参考例２：Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリンの合成−２＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−メチルチオア二リン（化合物Ｓ−３）２．１５ｇとクロロホルム２１．３ｇとの混合物に、室温下、光照射した（光源：２５０Ｗ高圧水銀灯）。次に、攪拌下、塩素ガス３．６ｇを２.５時間で吹き込んだ。反応混合物に窒素ガスを吹き込んで窒素置換した後、酢酸エチル１２．８ｇおよび水８．５ｇを加え、５％の水酸化ナトリウム水溶液を、水層のｐＨが６になるまで加えた。分液後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−２）を含有する生成物を３．４６ｇ得た。該生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−２のＧＣ面積百分率は、４９％、原料である化合物Ｓ−３のＧＣ面積百分率は、３．６％であった。
＜実施例４：Ｎ−トリフルオロアセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−トリフルオロアセチル−２−フルオロ−４−メチルチオアニリン３．０７ｇとクロロベンゼン９．１０ｇとの混合物に、室温下、塩化スルフリル５．４０ｇとクロロベンゼン９．１０ｇとの混合物を３５分間かけて滴下した。混合物を２０−２５℃にて２０時間攪拌した後、４５℃に昇温して３時間攪拌した。塩化スルフリル０．８２ｇを追加し、同温度で２時間、さらに５５℃に昇温して２時間攪拌した。さらに塩化スルフリル０．８２ｇを追加し、同温度で１７時間攪拌した後、塩化スルフリル１．６３ｇを追加し、同温度で２時間攪拌後、さらに塩化スルフリル１．６３ｇを追加し、６５℃に昇温して２時間攪拌した。混合物を室温に冷却した後、水１８．２ｇを加え、洗浄後、分液した。水層をさらにクロロベンゼン９．４ｇで２回抽出した。有機層を合わせた後、飽和重曹水１３．８０ｇで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、Ｎ−トリフルオロアセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−３）を含有する生成物３．８６ｇを得た。該生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−３のＧＣ面積百分率は、７７％であった。該生成物をさらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して精製物を得た。
得られた生成物（化合物Ｅ−３）の1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．６４−７．６８（ｍ，２Ｈ）、８．２１（ｂｓ，１Ｈ）、８．４９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０，８．０Ｈｚ）。
＜実施例５：Ｎ−ホルミル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−ホルミル−２−フルオロ−４−メチルチオアニリン１．１５ｇとクロロベンゼン３．３３ｇとの混合物に、室温下、塩化スルフリル２．６７ｇとクロロベンゼン３．３３ｇとの混合物を１８分間かけて滴下した。混合物を２０−２５℃にて１．５時間攪拌した後、６０−６５℃に昇温して３時間攪拌した。混合物を室温に冷却した後、水６．７ｇに反応混合物を加え、次いで酢酸エチル２６．４ｇを加え、洗浄後、分液した。水層をさらに酢酸エチル５．０ｇで２回抽出した。有機層を合わせた後、飽和重曹水５．０ｇ、飽和食塩水５．０ｇで順に洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、Ｎ−ホルミル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−４）を含有する生成物１．６６ｇを得た。該生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−４のＧＣ面積百分率は、９７％であった。該生成物をさらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して精製物１．５４ｇ（ＧＣ面積百分率１００％）を得た。
得られた生成物（化合物Ｅ−４）の1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．５６−７．６５（ｍ，２Ｈ）、７．９２（ｂｓ，１Ｈ）、８．５３（ｓ，１Ｈ）、８．５６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
＜実施例６：Ｎ−アセチル−２−クロロ−４−トリクロロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２−クロロ−４−メチルチオアニリン４．３１ｇとクロロベンゼン１２．９４ｇとの混合物に、室温下、塩化スルフリル８．９１ｇとクロロベンゼン１２．９４ｇとの混合物を８０分間かけて滴下した。混合物を２０−３０℃にて２時間攪拌した後、４０℃に昇温して３時間攪拌した。さらに５０℃に昇温して２時間攪拌した後、塩化スルフリル０．０３ｇを追加して同温度で１.５時間攪拌し、さらに塩化スルフリル０．０３ｇを追加して同温度で１時間攪拌した。混合物を室温に冷却し、水２５．９ｇに反応混合物を加え、次いで酢酸エチル２２．４ｇを加え、洗浄後、分液した。水層をさらに酢酸エチル１２．９ｇで２回抽出した。有機層を合わせた後、飽和重曹水２９．５ｇ、飽和食塩水２２．９ｇで順に洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、Ｎ−アセチル−２−クロロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−５）を含有する生成物６．２０ｇを得た。該生成物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−５のＧＣ面積百分率は、９９％であった。該生成物をさらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して精製物を得た。
得られた生成物（化合物Ｅ−５）の1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．２９（ｓ，３Ｈ）、７．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０，２．１Ｈｚ）、７．７８（ｂｓ，１Ｈ）、７．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）、８．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）。
＜実施例７：Ｎ−アセチル−２，３−ジメチル−４−トリクロロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２，３−ジメチル−４−メチルチオアニリン１．６８ｇとクロロベンゼン５．０７ｇとの混合物に、室温下、塩化スルフリル３．５７ｇとクロロベンゼン５．０２ｇとの混合物を６０分間かけて滴下した。混合物を２０−３０℃にて３時間攪拌した後、４０℃に昇温して２．５時間攪拌した。さらに５０℃に昇温して５．５時間攪拌した。混合物を室温に冷却し、水１０．５２ｇに反応混合物を加え、洗浄後、分液した。水層を酢酸エチル５．１ｇで２回抽出した。有機層を合わせた後、飽和重曹水１０．０ｇ、飽和食塩水７．５ｇで順に洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、Ｎ−アセチル−２，３−ジメチル−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−６）を含有する生成物２．４８ｇを得た。該生成物を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）にて分析したところ、化合物Ｅ−６のＨＰＬＣ面積百分率は、６９％であった。該生成物をさらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して精製物を得た。
得られた生成物（化合物Ｅ−６）の1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．２１（ｓ，３Ｈ）、２．２４（ｓ，３Ｈ）、２．４３（ｓ，３Ｈ）、２．６１（ｓ，３Ｈ）、７．３９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、７．７２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）。
＜実施例８：Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１）０.３８ｇとＨＦ２.４１ｇとの混合物を、テフロン（登録商標）製反応容器に入れ、０℃で２時間、室温で２０時間攪拌した。得られた混合物を、予め０℃に冷却した水５．０ｇへ注加、次いで、酢酸エチル５．０ｇを加えた。飽和重曹水を加えて中和した後、分液した。酢酸エチル層を、水５．０ｇで２回洗浄して、Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−７ａ）を含有する酢酸エチル溶液を得た。化合物Ｅ−７ａを含有する該酢酸エチル溶液を、高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−７ａのＨＰＬＣ面積百分率は、４２％であった。得られた上記の生成物を、濃塩酸とメタノールとの混合液（質量比１：１０）に溶解し、該混合物を６５℃で６時間攪拌する。該反応混合物を室温に冷却し、飽和重曹水に注加し、酢酸エチルで抽出する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリンを得る。
＜実施例９：Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリンの合成−２＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１）０.３８ｇとピリジン・１８ＨＦ錯体２.６３ｇとの混合物をオートクレーブに入れ、９０℃で２時間および１２０℃で３時間攪拌した。得られた反応物を冷却し、水５．０ｇへ注加、次いで、酢酸エチル５．０ｇを加えた。飽和重曹水を加えて中和した後、分液した。酢酸エチル層を、水５．０ｇで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下、濃縮して、Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−７ａ）および２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−７ｂ、化合物Ｅ−７ａの脱アセチル体）を含有する生成物を得た（０．２４ｇ）。化合物Ｅ−７ａおよびＥ−７ｂを含有する該生成物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−７ａのＨＰＬＣ面積百分率は３０．４％、化合物Ｅ−７ｂのＨＰＬＣ面積百分率は６６．３％であった。得られた上記の生成物を、濃塩酸とメタノールとの混合液（質量比１：１０）に溶解し、該混合物を６５℃で６時間攪拌する。該反応混合物を室温に冷却し、飽和重曹水に注加し、酢酸エチルで抽出する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−７ｂ）を得る。
＜実施例１０：Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−２）０.３３ｇとピリジン・１８ＨＦ錯体２．１９ｇとの混合物を、オートクレーブに入れ、９０℃で２時間、１２０℃で２時間、１５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物を冷却し、水５．０ｇへ注加、次いで、酢酸エチル５．０ｇを加えた。飽和重曹水を加え、中和した後、分液した。酢酸エチル層を、水５．０ｇで２回洗浄し、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−８ａ）およびＮ−メチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−８ｂ、化合物Ｅ−８ａの脱アセチル体）を含有する酢酸エチル溶液を得た。化合物Ｅ−８ａおよびＥ−８ｂを含有する酢酸エチル溶液を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、化合物Ｅ−８ａのＨＰＬＣ面積百分率は２５．８％、化合物Ｅ−８ｂのＨＰＬＣ面積百分率は６４．６％であった。得られた上記の生成物を、濃塩酸とメタノールとの混合液（質量比１：１０）に溶解し、該混合物を６５℃で６時間攪拌する。該反応混合物を室温に冷却し、飽和重曹水に注加し、酢酸エチルで抽出する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮してＮ−メチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−８ｂ）を得る。
＜実施例１１：Ｎ−トリフルオロアセチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−トリフルオロアセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−３）０.２９ｇとピリジン・９ＨＦ錯体２．０７ｇとの混合物を、オートクレーブに入れ、９０℃で２時間、１２０℃で２時間、１５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、Ｎ−トリフルオロアセチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−９ａ）のＨＰＬＣ面積百分率は１１．１％、２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−７ｂ、化合物Ｅ−９ａの脱トリフルオロアセチル体）のＨＰＬＣ面積百分率は８６．４％であった。得られた上記の生成物を、濃塩酸とメタノールとの混合液（質量比１：１０）に溶解し、該混合物を６５℃で６時間攪拌する。該反応混合物を室温に冷却し、飽和重曹水に注加し、酢酸エチルで抽出する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−７ｂ）を得る。
＜実施例１２：Ｎ−ホルミル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−ホルミル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−４）０.３７ｇとピリジン・９ＨＦ錯体３．１２ｇとの混合物を、オートクレーブに入れ、９０℃で２時間、１２０℃で２時間、１５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−７ｂ、化合物Ｅ−１０ａの脱ホルミル体）のＨＰＬＣ面積百分率は９７．８％であった。Ｎ−ホルミル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１０ａ）は微量に存在するのみであった。得られた上記の生成物を、濃塩酸とメタノールとの混合液（質量比１：１０）に溶解し、該混合物を６５℃で６時間攪拌する。該反応混合物を室温に冷却し、飽和重曹水に注加し、酢酸エチルで抽出する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−７ｂ）を得る。
＜実施例１３：Ｎ−アセチル−２−クロロ−４−トリフルオロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２−クロロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−５）０.３５ｇとピリジン・９ＨＦ錯体２．６０ｇとの混合物を、オートクレーブに入れ、９０℃で３時間、１２０℃で３時間、１５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、Ｎ−アセチル−２−クロロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１１ａ）のＨＰＬＣ面積百分率は１３．５％、２−クロロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１１ｂ、化合物Ｅ−１１ａの脱アセチル体）のＨＰＬＣ面積百分率は８４．４％であった。得られた上記の生成物を、濃塩酸とメタノールとの混合液（質量比１：１０）に溶解し、該混合物を６５℃で６時間攪拌する。該反応混合物を室温に冷却し、飽和重曹水に注加し、酢酸エチルで抽出する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して２−クロロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１１ｂ）を得る。
得られた生成物（化合物Ｅ−１１ａおよび化合物Ｅ−１１ｂ）の質量分析データは次のとおりである。
Ｅ−１１ａ：ｍ／ｚ＝２６９（Ｍ）+
Ｅ−１１ｂ：ｍ／ｚ＝２２７（Ｍ）+
＜実施例１４：Ｎ−アセチル−２，３−ジメチル−４−トリフルオロメチルチオアニリンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２，３−ジメチル−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−６）０.３０ｇとピリジン・９ＨＦ錯体２．２３ｇとの混合物を、オートクレーブに入れ、９０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、Ｎ−アセチル−２，３−ジメチル−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１２ａ）のＨＰＬＣ面積百分率は３３．１％、２，３−ジメチル−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１２ｂ、化合物Ｅ−１２ａの脱アセチル体）のＨＰＬＣ面積百分率は４９．３％であった。得られた上記の生成物を、濃塩酸とメタノールとの混合液（質量比１：１０）に溶解し、該混合物を６５℃で６時間攪拌した。該反応混合物を室温に冷却し、飽和重曹水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して２，３−ジメチル−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１２ｂ）を得た。
得られた生成物（化合物Ｅ−１２ｂ）の1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．１１（ｓ，３Ｈ）、２．５０（ｓ，３Ｈ）、３．８４（ｂｓ，２Ｈ）、６．５５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）。
＜実施例１５：Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリンの合成−２＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−２）０.３２ｇとピリジン・９ＨＦ錯体２．５８ｇとの混合物を、オートクレーブに入れ、９０℃で１時間、１２０℃で２時間、１５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物を冷却し、水３．２ｇへ注加、次いで、酢酸エチル４．０ｇを加えた。飽和重曹水を加え、中和した後、分液した。酢酸エチル層を、水５．０ｇで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−８ａ）およびＮ−メチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−８ｂ、化合物Ｅ−８ａの脱アセチル体）を含有する生成物０．２０ｇを得た。化合物Ｅ−８ａのＨＰＬＣ面積百分率は２１．０％、化合物Ｅ−８ｂのＨＰＬＣ面積百分率は７２．２％であった。次いで、得られた上記の生成物０．１９ｇを、濃塩酸０．２ｇとメタノール２．０ｇとの混合液に溶解し、該混合物を６５℃で６時間攪拌した。該反応混合物を室温に冷却し、飽和重曹水２５ｇおよび酢酸エチル３０ｇを加え抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮してＮ−メチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−８ｂ）０．１３ｇを得た。ＧＣ面積百分率は９５．５％であった。
得られた化合物Ｅ−８ｂの1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
1Ｈ-ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．９１（ｍ，３Ｈ）、４．２７（ｂｒ，１Ｈ）、６．６２−６．６７（ｍ，１Ｈ）、７．２３−７．３３（ｍ，２Ｈ）。
＜実施例１６：Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリンの合成−２＞
Figure 2009013130
Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−１）０.４８ｇとトリエチルアミン・３ＨＦ錯体２.１０ｇとの混合物をオートクレーブに入れ、６０℃で１時間、ついで１２０℃で２時間、ついで１８０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物を冷却し、水２．２７ｇへ注加、次いで、酢酸エチル４．６０ｇで抽出した。酢酸エチル層を、水および炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下、濃縮して、Ｎ−アセチル−２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−７ａ）および２−フルオロ−４−トリフルオロメチルチオアニリン（化合物Ｅ−７ｂ、化合物Ｅ−７ａの脱アセチル体）を含有する生成物を得た（０．３７ｇ）。化合物Ｅ−７ａのＨＰＬＣ面積百分率は５１％、化合物Ｅ−７ｂのＨＰＬＣ面積百分率は２９％であった。
化合物Ｅ−７ａおよびＥ−７ｂの1Ｈ−ＮＭＲデータは次のとおりである。
化合物Ｅ−７ａ；
1Ｈ-ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．２５（ｓ，３Ｈ）、７．３−７．４（ｍ，３Ｈ）、８．４６（ｔ，１Ｈ）。
化合物Ｅ−７ｂ；
1Ｈ-ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．８−４．２（ｂｒ，２Ｈ）、６．７５（ｔ，１Ｈ）、７．２−７．３（ｍ，２Ｈ）。
＜比較例１：２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオア二リンの合成＞
Figure 2009013130
２−フルオロ−４−メチルチオアニリン（化合物Ｓ−１）１．２１ｇとクロロベンゼン３．４９ｇとの混合物に、室温下、塩化スルフリル３．３７ｇとクロロベンゼン３．５０ｇとの混合物を、３０分間かけて滴下した。反応混合物を２０−２５℃にて１．５時間攪拌した後、６０−６５℃に昇温して４時間攪拌した。得られた反応物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、２−フルオロ−４−トリクロロメチルメチルチオア二リン（化合物Ｈ−１）のＧＣ面積百分率は、２．１％、原料である化合物Ｓ−１のＧＣ面積百分率は、３．７％であった。
＜比較例２：Ｎ−ベンゾイル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオア二リンの合成＞
Figure 2009013130
Ｎ−ベンゾイル−２−フルオロ−４−メチルチオア二リン３．１６ｇとクロロベンゼン９．４０ｇとの混合物に、室温下、塩化スルフリル５．４０ｇとクロロベンゼン９．３９ｇとの混合物を、４０分間かけて滴下した。反応混合物を６０−６５℃に昇温して４時間攪拌した。得られた反応物をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、多数の生成物のピークが検出され、Ｎ−ベンゾイル−２−フルオロ−４−トリクロロメチルチオア二リン（化合物Ｈ−２）のピークは同定困難であった。
なお、ガスクロマトグラフィーおよび高速液体クロマトグラフィーの分析条件は、次のとおりである。
（１）ガスクロマトグラフィー
ＧＣ装置：島津ＧＣ−１４Ａ、インテグレーター：島津ＣＲ８Ａ、カラム：ＤＢ−５（膜厚１．５μｍ、長さ３０ｍ、内径０．５３ｍｍ）、カラム温度条件：５０℃から５℃／ｍｉｎで７０℃まで昇温し、続いて１０℃／ｍｉｎで２５０℃まで昇温し、続いて１５℃／ｍｉｎで２８０℃まで昇温し、２８０℃にて１０分間保持、インジェクション温度：２８０℃、ディテクター温度：２５０℃、キャリヤガス：Ｈｅ ５ｍｌ／ｍｉｎ。
（２）高速液体クロマトグラフィー
ＬＣ装置：日立ＬＣ−７１００、インテグレーター：日立ＬＣ−７５００、カラム：ＯＤＳ Ｌ−Ｃｏｌｕｍｎ ４．６ｍｍΦ×１５０ｍｍ、移動相：Ａ液（０．１％リン酸水）、Ｂ液（アセトニトリル）、グラジエント条件：Ａ液／Ｂ液を９０／１０→（２７ｍｉｎ）→９／９１（１０ｍｉｎ保持）、流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ、カラム温度：４０℃、検出波長：２５４ｎｍ、注入量：１０μＬ。
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

Claims (7)

  1. 下記一般式（Ｉ）：
    Figure 2009013130
     （式中、Ｒ1は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表わす。Ｒ2は、独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基を表わす。Ｒ3は、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わす。ｍは、０〜４の整数を表わす。）
    で示される４−（メチルチオ）アニリン類を、塩化スルフリルと反応させることを特徴とする、下記一般式（ＩＩ）：
    Figure 2009013130
     （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびｍは、前記と同じ意味を表わす。）
    で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類の製造方法。
  2. 前記一般式（Ｉ）におけるＲ3は、アセチル基である請求項１に記載の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類の製造方法。
  3. 下記一般式（Ｉ）：
    Figure 2009013130
     （式中、Ｒ1は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表わす。Ｒ2は、独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基を表わす。Ｒ3は、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わす。ｍは、０〜４の整数を表わす。）
    で示される４−（メチルチオ）アニリン類を、塩化スルフリルと反応させることにより、下記一般式（ＩＩ）：
    Figure 2009013130
     （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびｍは、前記と同じ意味を表わす。）
    で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を得る工程と、
    前記一般式（ＩＩ）で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類を、フッ素化剤と反応させることにより、下記一般式（ＩＩＩ）：
    Figure 2009013130
     （式中、Ｒ1、Ｒ2およびｍは、前記と同じ意味を表わす。Ｒ4は、水素原子、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わす。）
    で示される４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類を得る工程と、を含む４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造方法。
  4. 前記フッ素化剤は、フッ化水素および／またはフッ化水素−アミン錯体である請求項３に記載の４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造方法。
  5. 前記一般式（ＩＩ）におけるＲ3は、アセチル基である請求項３または４に記載の４−（トリフルオロメチルチオ）アニリン類の製造方法。
  6. 下記一般式（ＩＩ）：
    Figure 2009013130
     （式中、Ｒ1は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を表わす。Ｒ2は、独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基を表わす。Ｒ3は、ホルミル基、アセチル基またはトリフルオロアセチル基を表わす。ｍは、０〜４の整数を表わす。）
    で示される４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類。
  7. 前記一般式（ＩＩ）におけるＲ3は、アセチル基である請求項６に記載の４−（トリクロロメチルチオ）アニリン類。
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