JPH1149742A - ２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルの製造方法、及びその合成中間体とその製造方法 - Google Patents
２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルの製造方法、及びその合成中間体とその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 オゾン層破壊物質を用いずに、トリフルオロ
メチル化剤の鍵合成中間体である２−（トリフルオロメ
チルチオ）ビフェニルを工業的に製造する方法として適
した新しい高収率、低コストの製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 ２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニ
ルにフッ素化剤を作用させて２−（トリフルオロメチル
チオ）ビフェニルを合成する第一の製造方法。２−（メ
チルチオ）ビフェニルに塩素化剤を作用させて２−（ト
リフルオロメチルチオ）ビフェニルの合成中間体である
２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルを合成する第
二の製造方法。
メチル化剤の鍵合成中間体である２−（トリフルオロメ
チルチオ）ビフェニルを工業的に製造する方法として適
した新しい高収率、低コストの製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 ２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニ
ルにフッ素化剤を作用させて２−（トリフルオロメチル
チオ）ビフェニルを合成する第一の製造方法。２−（メ
チルチオ）ビフェニルに塩素化剤を作用させて２−（ト
リフルオロメチルチオ）ビフェニルの合成中間体である
２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルを合成する第
二の製造方法。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、有機合成化学にお
いて有用なトリフルオロメチル化剤を製造するための鍵
中間体である２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニ
ルの製造方法、及びそのための新規な合成中間体とその
製造方法に関するものである。
いて有用なトリフルオロメチル化剤を製造するための鍵
中間体である２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニ
ルの製造方法、及びそのための新規な合成中間体とその
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、生理活性物質の合成に有用なトリ
フルオロメチル化剤を製造するための鍵中間体である２
−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルを製造する方
法として、次の（１）、（２）が知られている。
フルオロメチル化剤を製造するための鍵中間体である２
−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルを製造する方
法として、次の（１）、（２）が知られている。
【０００３】（１）２−メルカプトビフェニルに塩基の
存在下に光照射条件下でＣＦ3 Ｂｒを反応させる方法
〔特開平３−１９７４７９号およびJ. Am. Chem. Soc.,
115巻、2156−2164ページ（1993年）参照〕。
存在下に光照射条件下でＣＦ3 Ｂｒを反応させる方法
〔特開平３−１９７４７９号およびJ. Am. Chem. Soc.,
115巻、2156−2164ページ（1993年）参照〕。
【０００４】（２）２−ブロモチオフェノールを塩基性
条件下でＣＦ2 Ｂｒ2 と反応させて２−（ブロモジフル
オロメチルチオ）ブロモベンゼンを得た後、ＡｇＢＦ4
で処理して２−（トリフルオロメチルチオ）ブロモベン
ゼンに変換し、これを触媒〔Ｐｄ（ＰＰｈ3 ）4 〕の存
在下にフェニルホウ酸と反応させる方法〔Electronic C
onference on Trends in Organic Chemistry 1（ECTO−
1), June 12 〜 July 7,1995：ＣＡ１２５−１０５２７
参照〕。
条件下でＣＦ2 Ｂｒ2 と反応させて２−（ブロモジフル
オロメチルチオ）ブロモベンゼンを得た後、ＡｇＢＦ4
で処理して２−（トリフルオロメチルチオ）ブロモベン
ゼンに変換し、これを触媒〔Ｐｄ（ＰＰｈ3 ）4 〕の存
在下にフェニルホウ酸と反応させる方法〔Electronic C
onference on Trends in Organic Chemistry 1（ECTO−
1), June 12 〜 July 7,1995：ＣＡ１２５−１０５２７
参照〕。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、（１）
及び（２）の方法は次の欠点を有している。
及び（２）の方法は次の欠点を有している。
【０００６】（ａ）（１）及び（２）の方法とも、地球
環境の観点から大きな問題となっているオゾン層の破壊
物質として見なされているＣＦ3 ＢｒやＣＦ2 Ｂｒ2 を
使用していること。
環境の観点から大きな問題となっているオゾン層の破壊
物質として見なされているＣＦ3 ＢｒやＣＦ2 Ｂｒ2 を
使用していること。
【０００７】（ｂ）また、（１）の方法は、反応効率の
劣る光反応であること。
劣る光反応であること。
【０００８】（ｃ）さらに、（２）の３工程の方法の第
１工程は２−（ジフルオロメチルチオ）ブロモベンゼン
が副生しやすいために収率が低いこと、第２工程は高価
な銀塩を用いなければならないこと、第３工程では触媒
が高価な上、反応物に対して重量比で４６％も必要とす
ること。
１工程は２−（ジフルオロメチルチオ）ブロモベンゼン
が副生しやすいために収率が低いこと、第２工程は高価
な銀塩を用いなければならないこと、第３工程では触媒
が高価な上、反応物に対して重量比で４６％も必要とす
ること。
【０００９】このように従来法は数々の問題点を有して
いたために、工業的製法としては甚だ不十分なものであ
った。
いたために、工業的製法としては甚だ不十分なものであ
った。
【００１０】本発明者は、以上に述べた如き従来の方法
の問題点を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、オゾン
層破壊物質を用いずに、トリフルオロメチル化剤の鍵合
成中間体を工業的に製造する方法として適した新しい高
収率、低コストの製造方法を見出し、本発明を完成させ
た。
の問題点を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、オゾン
層破壊物質を用いずに、トリフルオロメチル化剤の鍵合
成中間体を工業的に製造する方法として適した新しい高
収率、低コストの製造方法を見出し、本発明を完成させ
た。
【００１１】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、
【化９】 で示される２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルに
フッ素化剤を作用させることからなる、
フッ素化剤を作用させることからなる、
【化１０】 で示される２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニル
の製造方法（以下、本発明の第一の製造方法と称す
る。）に係るものである。
の製造方法（以下、本発明の第一の製造方法と称す
る。）に係るものである。
【００１２】また、本発明は、
【化１１】 で示される２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルに
係るものである。
係るものである。
【００１３】さらにまた、本発明は、
【化１２】 で示される２−（メチルチオ）ビフェニルに塩素化剤を
作用させることからなる、
作用させることからなる、
【化１３】 で示される２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルの
製造方法（以下、本発明の第二の製造方法と称する。）
に係るものである。
製造方法（以下、本発明の第二の製造方法と称する。）
に係るものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の第一の製造方法（以下、
第２工程と称することがある。）においては、本発明の
第二の製造方法（以下、第１工程と称することがあ
る。）で得られる前記式（１）で示される２−（トリク
ロロメチルチオ）ビフェニルを出発原料として用いるこ
とができる。
第２工程と称することがある。）においては、本発明の
第二の製造方法（以下、第１工程と称することがあ
る。）で得られる前記式（１）で示される２−（トリク
ロロメチルチオ）ビフェニルを出発原料として用いるこ
とができる。
【００１５】即ち、前記式（３）で示される２−（メチ
ルチオ）ビフェニルに塩素化剤を作用させて、新規な中
間体である前記式（１）で示される２−（トリクロロメ
チルチオ）ビフェニルを得る第１工程と、この第１工程
で得られる２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルに
フッ素化剤を作用させる第２工程とによって、前記式
（２）で示される２−（トリフルオロメチルチオ）ビフ
ェニルを得ることもできる。以下に、この反応のフロー
を示す。
ルチオ）ビフェニルに塩素化剤を作用させて、新規な中
間体である前記式（１）で示される２−（トリクロロメ
チルチオ）ビフェニルを得る第１工程と、この第１工程
で得られる２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルに
フッ素化剤を作用させる第２工程とによって、前記式
（２）で示される２−（トリフルオロメチルチオ）ビフ
ェニルを得ることもできる。以下に、この反応のフロー
を示す。
【化１４】
【００１６】以下、本発明の第一の製造方法（第２工
程）、本発明の第二の製造方法（第１工程）について順
に説明する。
程）、本発明の第二の製造方法（第１工程）について順
に説明する。
【００１７】本発明の第一の製造方法（第２工程）は、
前記式（１）の２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニ
ルにフッ素化剤を作用させることによって、前記式
（２）の２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルを
製造する工程である。
前記式（１）の２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニ
ルにフッ素化剤を作用させることによって、前記式
（２）の２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルを
製造する工程である。
【００１８】本発明の第一の製造方法（第２工程）で用
いられる好ましいフッ素化剤としては、下記の化合物が
例示される。 フッ化水素；フッ化水素と、アンモニア、メチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリエチルアミン、エチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミ
ン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、イソプロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチ
ルアミン、ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジル
アミン、アニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどのア
ミンとのモノフッ化水素塩、ジフッ化水素塩、トリフッ
化水素塩、テトラフッ化水素塩、またはテトラフッ化水
素以上のポリフッ化水素塩；
いられる好ましいフッ素化剤としては、下記の化合物が
例示される。 フッ化水素；フッ化水素と、アンモニア、メチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリエチルアミン、エチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミ
ン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、イソプロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチ
ルアミン、ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジル
アミン、アニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどのア
ミンとのモノフッ化水素塩、ジフッ化水素塩、トリフッ
化水素塩、テトラフッ化水素塩、またはテトラフッ化水
素以上のポリフッ化水素塩；
【００１９】フッ化水素と、ピリジン、メチルピリジ
ン、ジメチルピリジン、トリメチルピリジン、エチルピ
リジン、プロピルピリジン、ブチルピリジン、ジブチル
ピリジン、ジ−ｔ−ブチルピリジン、ジ−ｔ−ブチルメ
チルピリジンなどのピリジンまたはその誘導体とのモノ
フッ化水素塩、ジフッ化水素塩、トリフッ化水素塩、テ
トラフッ化水素塩、またはテトラフッ化水素以上のポリ
フッ化水素塩；
ン、ジメチルピリジン、トリメチルピリジン、エチルピ
リジン、プロピルピリジン、ブチルピリジン、ジブチル
ピリジン、ジ−ｔ−ブチルピリジン、ジ−ｔ−ブチルメ
チルピリジンなどのピリジンまたはその誘導体とのモノ
フッ化水素塩、ジフッ化水素塩、トリフッ化水素塩、テ
トラフッ化水素塩、またはテトラフッ化水素以上のポリ
フッ化水素塩；
【００２０】フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ
化セシウム、フッ化カリウム／フッ化カルシウム混合
物、フッ化亜鉛、フッ化銀、フッ化水銀、三フッ化アン
チモン、五フッ化アンチモン、二フッ化クロム、三フッ
化クロムなどの金属フッ化物、またはそのモノフッ化水
素塩、ジフッ化水素塩、トリフッ化水素塩、テトラフッ
化水素塩、またはテトラフッ化水素以上のポリフッ化水
素塩；
化セシウム、フッ化カリウム／フッ化カルシウム混合
物、フッ化亜鉛、フッ化銀、フッ化水銀、三フッ化アン
チモン、五フッ化アンチモン、二フッ化クロム、三フッ
化クロムなどの金属フッ化物、またはそのモノフッ化水
素塩、ジフッ化水素塩、トリフッ化水素塩、テトラフッ
化水素塩、またはテトラフッ化水素以上のポリフッ化水
素塩；
【００２１】フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化
テトラエチルアンモニウムクロリド、フッ化テトラブチ
ルアンモニウム、フッ化トリブチルメチルアンモニウ
ム、フッ化ベンジルトリメチルアンモニウム、フッ化ベ
ンジルトリエチルアンモニウム、フッ化フェニルトリメ
チルアンモニウム、フッ化Ｎ−メチルピリジニウム、フ
ッ化Ｎ−エチルピリジニウム、フッ化Ｎ−ブチルピリジ
ニウムなどの４級アンモニウムフッ化物、またはそのモ
ノフッ化水素塩、ジフッ化水素塩、トリフッ化水素塩、
テトラフッ化水素塩またはテトラフッ化水素以上のポリ
フッ化水素塩；
テトラエチルアンモニウムクロリド、フッ化テトラブチ
ルアンモニウム、フッ化トリブチルメチルアンモニウ
ム、フッ化ベンジルトリメチルアンモニウム、フッ化ベ
ンジルトリエチルアンモニウム、フッ化フェニルトリメ
チルアンモニウム、フッ化Ｎ−メチルピリジニウム、フ
ッ化Ｎ−エチルピリジニウム、フッ化Ｎ−ブチルピリジ
ニウムなどの４級アンモニウムフッ化物、またはそのモ
ノフッ化水素塩、ジフッ化水素塩、トリフッ化水素塩、
テトラフッ化水素塩またはテトラフッ化水素以上のポリ
フッ化水素塩；
【００２２】フッ化テトラフェニルホスホニウム、フッ
化テトラトリルホスホニウム、フッ化テトラメチルホス
ホニウム、フッ化テトラエチルホスホニウム、フッ化テ
トラブチルホスホニウムなどの４級ホスホニウムフッ化
物、またはそのモノフッ化水素塩、ジフッ化水素塩、ト
リフッ化水素塩、テトラフッ化水素塩またはテトラフッ
化水素以上のポリフッ化水素塩など；
化テトラトリルホスホニウム、フッ化テトラメチルホス
ホニウム、フッ化テトラエチルホスホニウム、フッ化テ
トラブチルホスホニウムなどの４級ホスホニウムフッ化
物、またはそのモノフッ化水素塩、ジフッ化水素塩、ト
リフッ化水素塩、テトラフッ化水素塩またはテトラフッ
化水素以上のポリフッ化水素塩など；
【００２３】または、以上に例示した各フッ素化剤の組
み合わせ。
み合わせ。
【００２４】なかでも、経済性と収率の点から、フッ化
水素（ＨＦ）又はトリエチルアミン・三フッ化水素塩
（Ｅｔ3 Ｎ・３ＨＦ）がさらに好ましく、取り扱いの点
を含めるとトリエチルアミン・三フッ化水素塩が特に好
ましい。
水素（ＨＦ）又はトリエチルアミン・三フッ化水素塩
（Ｅｔ3 Ｎ・３ＨＦ）がさらに好ましく、取り扱いの点
を含めるとトリエチルアミン・三フッ化水素塩が特に好
ましい。
【００２５】フッ素化剤の使用量は、収率よく生成物を
得るために、一般に、前記式（１）の２−（トリクロロ
メチルチオ）ビフェニル１モルに対して等モル以上を用
いればよい。
得るために、一般に、前記式（１）の２−（トリクロロ
メチルチオ）ビフェニル１モルに対して等モル以上を用
いればよい。
【００２６】本発明の第一の製造方法（第２工程）で
は、必ずしも溶媒を用いる必要はない。用いるフッ素化
剤が液状のフッ素化剤である場合は、溶媒を兼ねること
ができる。使用してもよい溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロ
ロベンゼン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、
ベンゾトリフロリド等の芳香族化合物；スルホラン、ジ
メチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル等の非
プロトン性極性溶媒など、またはこれらの混合物；を好
ましく例示することができる。
は、必ずしも溶媒を用いる必要はない。用いるフッ素化
剤が液状のフッ素化剤である場合は、溶媒を兼ねること
ができる。使用してもよい溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロ
ロベンゼン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、
ベンゾトリフロリド等の芳香族化合物；スルホラン、ジ
メチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル等の非
プロトン性極性溶媒など、またはこれらの混合物；を好
ましく例示することができる。
【００２７】本発明の第一の製造方法（第２工程）での
反応温度は、０℃〜３００℃の範囲から選ばれるが、反
応の効率及び収率の点から、室温〜２５０℃の範囲から
選べばよい。特に、フッ素化剤としてトリエチルアミン
・三フッ化水素塩（Ｅｔ3 Ｎ・３ＨＦ）を用いる場合
は、１００℃〜２５０℃の範囲が好ましい。
反応温度は、０℃〜３００℃の範囲から選ばれるが、反
応の効率及び収率の点から、室温〜２５０℃の範囲から
選べばよい。特に、フッ素化剤としてトリエチルアミン
・三フッ化水素塩（Ｅｔ3 Ｎ・３ＨＦ）を用いる場合
は、１００℃〜２５０℃の範囲が好ましい。
【００２８】次に、本発明の第二の製造方法（第１工
程）について説明する。
程）について説明する。
【００２９】本発明の第二の製造方法（第１工程）は、
前記式（３）の２−（メチルチオ）ビフェニルに塩素化
剤を作用させて前記式（１）の２−（トリクロロメチル
チオ）ビフェニルを製造する工程である。
前記式（３）の２−（メチルチオ）ビフェニルに塩素化
剤を作用させて前記式（１）の２−（トリクロロメチル
チオ）ビフェニルを製造する工程である。
【００３０】前記式（３）の２−（メチルチオ）ビフェ
ニルは工業的に入手容易な２−メルカプトビフェニルか
ら容易に製造できる化合物である（後述の参考例１参
照）。
ニルは工業的に入手容易な２−メルカプトビフェニルか
ら容易に製造できる化合物である（後述の参考例１参
照）。
【００３１】本発明で用いられる塩素化剤としては、一
般に使用される塩素化剤が例示できるが、例えば塩素
（Ｃｌ2 ）、塩化スルフリル（ＳＯ2 Ｃｌ2 ）、Ｎ−ク
ロロコハク酸イミド、１，３−ジクロロ−５，５−ジメ
チルヒダントインなどが好ましく例示できる。
般に使用される塩素化剤が例示できるが、例えば塩素
（Ｃｌ2 ）、塩化スルフリル（ＳＯ2 Ｃｌ2 ）、Ｎ−ク
ロロコハク酸イミド、１，３−ジクロロ−５，５−ジメ
チルヒダントインなどが好ましく例示できる。
【００３２】この第１工程の反応では、必ずしも溶媒を
用いなくてもよいが、反応を温和な条件下に進行させる
ときは溶媒を用いてもよい。用いる溶媒としては、四塩
化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラフ
ルオロエタン、ヘキサクロロエタン、トリクロロトリフ
ルオロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素；ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水
素；ベンゼン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジ
クロロベンゼン、ジフルオロベンゼン、トリクロロベン
ゼン、ベンゾトリフロリド等の芳香族炭化水素またはハ
ロゲン化芳香族炭化水素など、またはこれらの混合物；
を例示することができる。
用いなくてもよいが、反応を温和な条件下に進行させる
ときは溶媒を用いてもよい。用いる溶媒としては、四塩
化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラフ
ルオロエタン、ヘキサクロロエタン、トリクロロトリフ
ルオロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素；ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水
素；ベンゼン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジ
クロロベンゼン、ジフルオロベンゼン、トリクロロベン
ゼン、ベンゾトリフロリド等の芳香族炭化水素またはハ
ロゲン化芳香族炭化水素など、またはこれらの混合物；
を例示することができる。
【００３３】前記式（１）の２−（トリクロロメチルチ
オ）ビフェニルを収率よく得るためには、ラジカル発生
条件下で塩素化剤を作用させることが好ましい。一般
に、ラジカル発生条件は、加熱によっても達成される
が、効率の点から、好ましくは光照射を行うことによっ
て、或いはまた、ラジカル反応開始剤を添加することに
よって達成される。
オ）ビフェニルを収率よく得るためには、ラジカル発生
条件下で塩素化剤を作用させることが好ましい。一般
に、ラジカル発生条件は、加熱によっても達成される
が、効率の点から、好ましくは光照射を行うことによっ
て、或いはまた、ラジカル反応開始剤を添加することに
よって達成される。
【００３４】光照射に用いる光源としては、少なくとも
１８０〜４００ｎｍの波長の光を含む光を発する低圧ま
たは高圧水銀灯、白熱灯等の、一般の光化学反応におい
て用いられる光源あるいはまた太陽光を用いることがで
きる。
１８０〜４００ｎｍの波長の光を含む光を発する低圧ま
たは高圧水銀灯、白熱灯等の、一般の光化学反応におい
て用いられる光源あるいはまた太陽光を用いることがで
きる。
【００３５】ラジカル反応開始剤としては、一般にラジ
カル反応を行うときに用いられるラジカル反応開始剤を
用いることができ、例えば、ジベンゾイルペルオキシ
ド、ジアセチルペルオキシド、ジ−ｔ−ブチルペルオキ
シド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド等のペルオキシ
ド；ｔ−ブチル酢酸ペルエステル、ｔ−ブチル安息香酸
ペルエステルなどのペルエステル；アゾビスイソブチロ
ニトリル、フェニルアゾトリフェニルメタン、アゾビス
ジフェニルメタンなどのアゾ化合物など；を例示するこ
とができる。
カル反応を行うときに用いられるラジカル反応開始剤を
用いることができ、例えば、ジベンゾイルペルオキシ
ド、ジアセチルペルオキシド、ジ−ｔ−ブチルペルオキ
シド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド等のペルオキシ
ド；ｔ−ブチル酢酸ペルエステル、ｔ−ブチル安息香酸
ペルエステルなどのペルエステル；アゾビスイソブチロ
ニトリル、フェニルアゾトリフェニルメタン、アゾビス
ジフェニルメタンなどのアゾ化合物など；を例示するこ
とができる。
【００３６】本発明の第二の製造方法（第１工程）での
反応温度は、−３０℃〜２００℃の範囲から選ぶことが
できるが、反応を効率よく、しかも収率よく進行させる
ためには、−１０℃〜１５０℃の範囲内であることが更
に好ましい。
反応温度は、−３０℃〜２００℃の範囲から選ぶことが
できるが、反応を効率よく、しかも収率よく進行させる
ためには、−１０℃〜１５０℃の範囲内であることが更
に好ましい。
【００３７】本発明の第一の製造方法（第２工程）にお
いて、特に、出発原料として、本発明の第二の製造方法
（第１工程）で得られる前記式（１）の２−（トリクロ
ロメチルチオ）ビフェニルを使用することもできる。
いて、特に、出発原料として、本発明の第二の製造方法
（第１工程）で得られる前記式（１）の２−（トリクロ
ロメチルチオ）ビフェニルを使用することもできる。
【００３８】即ち、前記式（３）で示される２−（メチ
ルチオ）ビフェニルに塩素化剤を作用させ、この反応生
成物である前記式（１）で示される２−（トリクロロメ
チルチオ）ビフェニルを反応後に単離することなく、こ
の反応生成物にフッ素化剤を作用させて、前記式（２）
で示される２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニル
を得ることもできる。
ルチオ）ビフェニルに塩素化剤を作用させ、この反応生
成物である前記式（１）で示される２−（トリクロロメ
チルチオ）ビフェニルを反応後に単離することなく、こ
の反応生成物にフッ素化剤を作用させて、前記式（２）
で示される２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニル
を得ることもできる。
【００３９】この方法は、前記式（３）で示される２−
（メチルチオ）ビフェニルに塩素化剤を作用させるＡ工
程と、このＡ工程で得られる反応生成物（２−（トリク
ロロメチルチオ）ビフェニル）にフッ素化剤を作用させ
るＢ工程とからなる。前記Ａ工程及びＢ工程はそれぞ
れ、前記第１工程及び第２工程に対応するが、それらを
以下に説明する。
（メチルチオ）ビフェニルに塩素化剤を作用させるＡ工
程と、このＡ工程で得られる反応生成物（２−（トリク
ロロメチルチオ）ビフェニル）にフッ素化剤を作用させ
るＢ工程とからなる。前記Ａ工程及びＢ工程はそれぞ
れ、前記第１工程及び第２工程に対応するが、それらを
以下に説明する。
【００４０】前記Ａ工程は、前記式（１）で示される２
−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルを単離する後処
理の操作を除けば、出発原料、塩素化剤、その使用量、
反応溶媒、反応温度等は前述の第１工程の場合と同様で
ある。
−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルを単離する後処
理の操作を除けば、出発原料、塩素化剤、その使用量、
反応溶媒、反応温度等は前述の第１工程の場合と同様で
ある。
【００４１】前記Ｂ工程は、前記Ａ工程で得られる反応
生成物に、フッ素化剤を作用させる工程である。ここで
用いるフッ素化剤、反応温度、反応時間及び後処理等
は、前述の第２工程と同様である。
生成物に、フッ素化剤を作用させる工程である。ここで
用いるフッ素化剤、反応温度、反応時間及び後処理等
は、前述の第２工程と同様である。
【００４２】
【発明の作用効果】本発明の第一の製造方法は、２−
（トリクロロメチルチオ）ビフェニルにフッ素化剤を作
用させて２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルを
合成し、また、本発明の第二の製造方法は、２−（メチ
ルチオ）ビフェニルに塩素化剤を作用させて２−（トリ
フルオロメチルチオ）ビフェニルの合成中間体である２
−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルを合成している
ので、オゾン層破壊物質を用いずに、トリフルオロメチ
ル化剤の鍵合成中間体である２−（トリフルオロメチル
チオ）ビフェニルを工業的に製造する方法として適した
新しい高収率、低コストの製造方法を提供することがで
きる。
（トリクロロメチルチオ）ビフェニルにフッ素化剤を作
用させて２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルを
合成し、また、本発明の第二の製造方法は、２−（メチ
ルチオ）ビフェニルに塩素化剤を作用させて２−（トリ
フルオロメチルチオ）ビフェニルの合成中間体である２
−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルを合成している
ので、オゾン層破壊物質を用いずに、トリフルオロメチ
ル化剤の鍵合成中間体である２−（トリフルオロメチル
チオ）ビフェニルを工業的に製造する方法として適した
新しい高収率、低コストの製造方法を提供することがで
きる。
【００４３】
【実施例】以下、本発明を具体的な実施例を参考例と共
に説明するが、本発明はこれらの例に限定されるもので
はない。
に説明するが、本発明はこれらの例に限定されるもので
はない。
【００４４】参考例１
【化１５】
【００４５】水酸化ナトリウム３６ｇ（０．８６ｍｏ
ｌ）の水（１００ｍｌ）溶液中に２−メルカプトビフェ
ニル１４０ｇ（０．７５ｍｏｌ）を加え、室温で３０分
間攪拌後、氷冷し、ここにジメチル硫酸７８．３ｍｌ
（０．８３ｍｏｌ）を攪拌下に２５分間かけて滴下し
た。
ｌ）の水（１００ｍｌ）溶液中に２−メルカプトビフェ
ニル１４０ｇ（０．７５ｍｏｌ）を加え、室温で３０分
間攪拌後、氷冷し、ここにジメチル硫酸７８．３ｍｌ
（０．８３ｍｏｌ）を攪拌下に２５分間かけて滴下し
た。
【００４６】滴下後、１１０℃で２時間攪拌した後、放
冷し、反応混合物をジエチルエーテルで抽出した。抽出
液を水で２回、そして飽和食塩水で１回洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、
濾過液を減圧下で濃縮した。
冷し、反応混合物をジエチルエーテルで抽出した。抽出
液を水で２回、そして飽和食塩水で１回洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別した後、
濾過液を減圧下で濃縮した。
【００４７】得られた残渣を減圧蒸留により精製して、
目的とする２−（メチルチオ）ビフェニル１３８．２ｇ
（収率９２％）を得た。その物性値およびスペクトルデ
ータを次に示す。
目的とする２−（メチルチオ）ビフェニル１３８．２ｇ
（収率９２％）を得た。その物性値およびスペクトルデ
ータを次に示す。
【００４８】
【００４９】実施例１
【化１６】
【００５０】参考例１で得られた２−（メチルチオ）ビ
フェニル８０．０ｇ（０．４０ｍｏｌ）の四塩化炭素１
４０ｍｌ溶液を水浴で冷却しながら、ここに４００Ｗ高
圧水銀灯で照射しながら塩素ガスを１０５分間かけて通
じた。塩素ガスの吸収が収まったところで終了した。
フェニル８０．０ｇ（０．４０ｍｏｌ）の四塩化炭素１
４０ｍｌ溶液を水浴で冷却しながら、ここに４００Ｗ高
圧水銀灯で照射しながら塩素ガスを１０５分間かけて通
じた。塩素ガスの吸収が収まったところで終了した。
【００５１】塩素ガスを止めた後、窒素ガスで反応系内
の塩素を極力除いた後、反応液をチオ硫酸ナトリウム水
溶液で洗浄後、有機層を分取した。この有機層を水で１
回、飽和食塩水で１回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。
の塩素を極力除いた後、反応液をチオ硫酸ナトリウム水
溶液で洗浄後、有機層を分取した。この有機層を水で１
回、飽和食塩水で１回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。
【００５２】乾燥剤を濾別した後、濾過液を減圧下で濃
縮することにより、黄色油状体１１５ｇ（粗収率９４
％）を得た。この油状体を減圧下で蒸留し、目的とする
２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニル１００ｇ（収
率８２％）を得た。その物性値およびスペクトルデータ
を次に示す。
縮することにより、黄色油状体１１５ｇ（粗収率９４
％）を得た。この油状体を減圧下で蒸留し、目的とする
２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニル１００ｇ（収
率８２％）を得た。その物性値およびスペクトルデータ
を次に示す。
【００５３】 沸点：173-175 ℃/5〜6mmHg 融点：59〜60℃ 1H-NMR（重クロロホルム中）：δ7.32〜7.42(5H, m) 7.45〜7.51(2H, m) 7.59(1H, td, J=8Hz, 1Hz) 8.05(1H, dd, J=8Hz, 1Hz) Massスペクトル：306,304,302(Ｍ+ ） 元素分析：計算値（C13H9Cl3S)；C, 51.42％ ; H, 2.99％ 実測値；C, 51.37％ ; H, 2.88％
【００５４】実施例２
【化１７】
【００５５】実施例１で得られた２−（トリクロロメチ
ルチオ）ビフェニル３．０ｇ（９．９ｍｍｏｌ）とトリ
エチルアミン・三フッ化水素塩５．０ｍｌ（３０．７ｍ
ｍｏｌ）をオートクレーブ中、１８０℃で９時間加熱し
た。
ルチオ）ビフェニル３．０ｇ（９．９ｍｍｏｌ）とトリ
エチルアミン・三フッ化水素塩５．０ｍｌ（３０．７ｍ
ｍｏｌ）をオートクレーブ中、１８０℃で９時間加熱し
た。
【００５６】放冷後、反応液にｎ−ヘキサンと水を加
え、有機層を分取した。有機層を水で２回、飽和食塩水
で１回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
え、有機層を分取した。有機層を水で２回、飽和食塩水
で１回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
【００５７】乾燥剤を濾別した後、濾過液を減圧下で濃
縮した。得られた残渣をシリカゲルのカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製して、目的とす
る２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニル２．２ｇ
（収率８６％）を得た。その物性値及びスペクトルデー
タを次に示す。
縮した。得られた残渣をシリカゲルのカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製して、目的とす
る２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニル２．２ｇ
（収率８６％）を得た。その物性値及びスペクトルデー
タを次に示す。
【００５８】 沸点：109-110 ℃/6-7mmHg 融点：37℃ 1 H-NMR（重クロロホルム中）：δ7.20〜7.60(8H, m), 7.78(1H, br. d., J=7.5Hz) 19 F-NMR（重クロロホルム中、CFCl3 内部標準）：42.5ppm(s) Massスペクトル： 254(M+ )
【００５９】実施例３
【化１８】
【００６０】２−（メチルチオ）ビフェニル３０２ｇ
（１．５１ｍｏｌ）の１，２−ジクロロベンゼン３００
ｍｌ溶液に、室温で４００Ｗの高圧水銀灯を用いて照射
しながら塩素ガスを通した。塩素ガスの吸収が収まった
ところで終了した。およそ１７０分間を要した。
（１．５１ｍｏｌ）の１，２−ジクロロベンゼン３００
ｍｌ溶液に、室温で４００Ｗの高圧水銀灯を用いて照射
しながら塩素ガスを通した。塩素ガスの吸収が収まった
ところで終了した。およそ１７０分間を要した。
【００６１】塩素ガスを止めた後、反応液に窒素ガスを
通じて、残存している塩素ガスと塩化水素ガスを除い
た。この反応液にトリエチルアミン・三フッ化水素塩８
００ｍｌ（４．９１ｍｏｌ）を加えた後、この混合物を
オートクレーブ中、２００℃で４時間反応させた。
通じて、残存している塩素ガスと塩化水素ガスを除い
た。この反応液にトリエチルアミン・三フッ化水素塩８
００ｍｌ（４．９１ｍｏｌ）を加えた後、この混合物を
オートクレーブ中、２００℃で４時間反応させた。
【００６２】放冷後、得られた反応液にヘキサンと水を
加えてよく混合した。これに炭酸カルシウム２５０ｇ
（２．５０ｍｏｌ）を加え、固形物を濾別した後、有機
層を分離した。この有機層を水で３回洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。
加えてよく混合した。これに炭酸カルシウム２５０ｇ
（２．５０ｍｏｌ）を加え、固形物を濾別した後、有機
層を分離した。この有機層を水で３回洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。
【００６３】乾燥剤を濾別した後、溶媒のヘキサンを留
去した。得られた残渣を減圧下で分別蒸留して１，２−
ジクロロベンゼンを分離することにより、２２８ｇ（収
率６０％）の２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニ
ルを得た。この生成物の沸点とＮＭＲデータは実施例２
のものと一致していた。
去した。得られた残渣を減圧下で分別蒸留して１，２−
ジクロロベンゼンを分離することにより、２２８ｇ（収
率６０％）の２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニ
ルを得た。この生成物の沸点とＮＭＲデータは実施例２
のものと一致していた。
【００６４】実施例４
【化１９】
【００６５】２−（メチルチオ）ビフェニル３０１ｇ
（１．５ｍｏｌ）のクロロベンゼン２５０ｍｌ溶液に、
室温で４００Ｗの高圧水銀灯を用いて照射しながら塩素
ガスを通した。塩素ガスの吸収が収まったところで終了
した。およそ２１０分間を要した。
（１．５ｍｏｌ）のクロロベンゼン２５０ｍｌ溶液に、
室温で４００Ｗの高圧水銀灯を用いて照射しながら塩素
ガスを通した。塩素ガスの吸収が収まったところで終了
した。およそ２１０分間を要した。
【００６６】塩素ガスを止めた後、反応液に窒素ガスを
通じて、残存している塩素ガスと塩化水素ガスを除い
た。この反応液から減圧下で溶媒のクロロベンゼンを留
去した後、これにトリエチルアミン・三フッ化水素塩８
０８ｍｌ（４．９６ｍｏｌ）を加えた後、この混合物を
オートクレーブ中、１８０℃で１２時間反応させた。
通じて、残存している塩素ガスと塩化水素ガスを除い
た。この反応液から減圧下で溶媒のクロロベンゼンを留
去した後、これにトリエチルアミン・三フッ化水素塩８
０８ｍｌ（４．９６ｍｏｌ）を加えた後、この混合物を
オートクレーブ中、１８０℃で１２時間反応させた。
【００６７】放冷後、得られた反応液にヘキサンと水を
加えてよく混合した。これに炭酸カルシウム７４４ｇ
（７．４３ｍｏｌ）を加え、固形物を濾別した後、有機
層を分離した。この有機層を水で３回洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。
加えてよく混合した。これに炭酸カルシウム７４４ｇ
（７．４３ｍｏｌ）を加え、固形物を濾別した後、有機
層を分離した。この有機層を水で３回洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。
【００６８】乾燥剤を濾別した後、溶媒を留去した。得
られた残渣を減圧下で蒸留することにより２５３ｇ（収
率６６％）の２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニ
ルを得た。この生成物の沸点とＮＭＲデータは実施例２
のものと一致していた。
られた残渣を減圧下で蒸留することにより２５３ｇ（収
率６６％）の２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニ
ルを得た。この生成物の沸点とＮＭＲデータは実施例２
のものと一致していた。
Claims (7)
- 【請求項１】 【化１】 で示される２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルに
フッ素化剤を作用させることからなる、 【化２】 で示される２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニル
の製造方法。 - 【請求項２】 【化３】 で示される２−（メチルチオ）ビフェニルに塩素化剤を
作用させて、 【化４】 で示される２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルを
得る第１工程と、前記式（１）で示される２−（トリク
ロロメチルチオ）ビフェニルにフッ素化剤を作用させ
て、 【化５】 で示される２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニル
を得る第２工程とを有する、請求項１に記載した製造方
法。 - 【請求項３】 ラジカル発生条件下で２−（メチルチ
オ）ビフェニルに塩素化剤を作用させる、請求項２に記
載した製造方法。 - 【請求項４】 前記フッ素化剤として、フッ化水素又は
トリエチルアミン・三フッ化水素塩を用いる、請求項１
〜３のいずれか１項に記載した製造方法。 - 【請求項５】 【化６】 で示される２−（メチルチオ）ビフェニルに塩素化剤を
作用させることからなる、 【化７】 で示される２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニルの
製造方法。 - 【請求項６】 ラジカル発生条件下で２−（メチルチ
オ）ビフェニルに塩素化剤を作用させる、請求項５に記
載した製造方法。 - 【請求項７】 【化８】 で示される２−（トリクロロメチルチオ）ビフェニル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20790097A JPH1149742A (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | ２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルの製造方法、及びその合成中間体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20790097A JPH1149742A (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | ２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルの製造方法、及びその合成中間体とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1149742A true JPH1149742A (ja) | 1999-02-23 |
Family
ID=16547442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20790097A Pending JPH1149742A (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | ２−（トリフルオロメチルチオ）ビフェニルの製造方法、及びその合成中間体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1149742A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005511665A (ja) * | 2001-11-29 | 2005-04-28 | ユニバーシティ・オブ・サザン・カリフォルニア | マグネシウムで媒介されたフッ素化アルキルシランの調製 |
| WO2005073182A1 (ja) * | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Daikin Industries, Ltd. | 含フッ素不飽和スルホニルフロライドの製造方法 |
| WO2006049014A1 (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-11 | National University Corporation, Hokkaido University | α，α－ジフルオロアミンの製造方法 |
| JP2011140461A (ja) * | 2010-01-07 | 2011-07-21 | Nippon Soda Co Ltd | フッ化ジスルフィド化合物の製造方法 |
| US8399707B2 (en) | 2007-07-06 | 2013-03-19 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 4-(trichloromethylthio) anilines, method for production thereof, and method for producing 4-(trifluoromethylthio) anilines |
| JP2015157758A (ja) * | 2011-03-03 | 2015-09-03 | 日本曹達株式会社 | フルオロスルホニルイミド塩の製造方法 |
| US11542231B2 (en) | 2018-03-30 | 2023-01-03 | Kanto Denka Kogyo Co., Ltd. | Method of producing fluorine-containing sulfide compounds |
-
1997
- 1997-08-01 JP JP20790097A patent/JPH1149742A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005511665A (ja) * | 2001-11-29 | 2005-04-28 | ユニバーシティ・オブ・サザン・カリフォルニア | マグネシウムで媒介されたフッ素化アルキルシランの調製 |
| WO2005073182A1 (ja) * | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Daikin Industries, Ltd. | 含フッ素不飽和スルホニルフロライドの製造方法 |
| WO2006049014A1 (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-11 | National University Corporation, Hokkaido University | α，α－ジフルオロアミンの製造方法 |
| JPWO2006049014A1 (ja) * | 2004-11-05 | 2008-05-29 | 国立大学法人 北海道大学 | α，α−ジフルオロアミンの製造方法 |
| US7829741B2 (en) | 2004-11-05 | 2010-11-09 | National University Corporation | Process for producing α, α-difluoroamine |
| JP4941929B2 (ja) * | 2004-11-05 | 2012-05-30 | 国立大学法人北海道大学 | α，α−ジフルオロアミンの製造方法 |
| US8399707B2 (en) | 2007-07-06 | 2013-03-19 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 4-(trichloromethylthio) anilines, method for production thereof, and method for producing 4-(trifluoromethylthio) anilines |
| US8466321B2 (en) | 2007-07-06 | 2013-06-18 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 4-(trichloromethylthio) anilines, method for production thereof, and method for producing 4-(trifluoromethylthio) anilines |
| JP2011140461A (ja) * | 2010-01-07 | 2011-07-21 | Nippon Soda Co Ltd | フッ化ジスルフィド化合物の製造方法 |
| JP2015157758A (ja) * | 2011-03-03 | 2015-09-03 | 日本曹達株式会社 | フルオロスルホニルイミド塩の製造方法 |
| US11542231B2 (en) | 2018-03-30 | 2023-01-03 | Kanto Denka Kogyo Co., Ltd. | Method of producing fluorine-containing sulfide compounds |
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