JP4580165B2 - アダマンタン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
アダマンタン誘導体及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4580165B2 JP4580165B2 JP2003414445A JP2003414445A JP4580165B2 JP 4580165 B2 JP4580165 B2 JP 4580165B2 JP 2003414445 A JP2003414445 A JP 2003414445A JP 2003414445 A JP2003414445 A JP 2003414445A JP 4580165 B2 JP4580165 B2 JP 4580165B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxo
- ether
- chloromethyl
- compound
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical class C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 12
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 10
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 (methylthio) methyl ether compound Chemical class 0.000 description 8
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 8
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 7
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 7
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical class [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 5
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 5
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QEKHQTRQZDEBFZ-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethoxy)-3,5-dimethyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3(C)CC1(C)CC2(OCCl)C3=O QEKHQTRQZDEBFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 3
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MDVGOOIANLZFCP-UHFFFAOYSA-N 1-adamantylmethanol Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(CO)C3 MDVGOOIANLZFCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUFIJIKSXVTUQS-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-3,5-dimethyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3(C)CC1(C)CC2(O)C3=O NUFIJIKSXVTUQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylbutan-2-one Chemical compound CC(C)C(C)=O SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BEPPHPDUZQZCIM-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethoxy)adamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(OCCl)C2C3=O BEPPHPDUZQZCIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YVVIHGODZFJWOL-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-1,3-dimethyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(C)C(=O)C2(C)C3O YVVIHGODZFJWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MDHZLHGRJCMNLA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxyadamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(O)C2C3=O MDHZLHGRJCMNLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 0 COC(C1(CC(C2)C3)C*3CC2C1)N Chemical compound COC(C1(CC(C2)C3)C*3CC2C1)N 0.000 description 2
- AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N Isopropylaldehyde Chemical compound CC(C)C=O AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012450 pharmaceutical intermediate Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- AXJHIOHSKCUZJD-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethoxy)adamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC2C(=O)C1(OCCl)C3 AXJHIOHSKCUZJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFUNAZXZKGIFLP-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethoxymethyl)adamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC2C(=O)C1(COCCl)C3 HFUNAZXZKGIFLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBAUQDFDSGHDNO-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethoxymethyl)adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(COCCl)C3 QBAUQDFDSGHDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXOWSXDISLKPCG-UHFFFAOYSA-N 1-(hydroxymethyl)adamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC2C(=O)C1(CO)C3 MXOWSXDISLKPCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRDNWHRYHHULRF-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyadamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC2C(=O)C1(O)C3 XRDNWHRYHHULRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPKINTDGLZNNCZ-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethoxy)-1,3-dimethyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(C)C(=O)C2(C)C3OCCl PPKINTDGLZNNCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIRFDVJCXIXHFR-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethoxy)-4-ethyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(CC)(OCCl)C2C3=O DIRFDVJCXIXHFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZFAFVNRIADLRH-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethoxy)-4-methyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(C)(OCCl)C2C3=O RZFAFVNRIADLRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMVRWBIMPDMLQM-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethoxymethyl)adamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(COCCl)C2C3=O XMVRWBIMPDMLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYGZHKHTWLUFFC-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)adamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(CO)C2C3=O DYGZHKHTWLUFFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGWXMOOQVYRIRH-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-4-methyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(C)(O)C2C3=O BGWXMOOQVYRIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJMYLRSGPCUXCG-UHFFFAOYSA-N 5-(chloromethoxy)-1,7-dimethyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2=O)CC3(OCCl)CC1(C)CC2(C)C3 BJMYLRSGPCUXCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLQREOLPYKNKFX-UHFFFAOYSA-N 5-(chloromethoxy)adamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(OCCl)CC2C3=O WLQREOLPYKNKFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFBNNJHJSNKDOV-UHFFFAOYSA-N 5-(chloromethoxymethyl)adamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(COCCl)CC2C3=O DFBNNJHJSNKDOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORLCIDAOJDSXNX-UHFFFAOYSA-N 5-(hydroxymethyl)adamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(CO)CC2C3=O ORLCIDAOJDSXNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWGCYLXAVRSZRH-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxy-1,3-dimethyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2)CC3(C)CC2(O)CC1(C)C3=O WWGCYLXAVRSZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALZPODVZIPGTQF-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxy-1,7-dimethyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2=O)CC3(O)CC1(C)CC2(C)C3 ALZPODVZIPGTQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPCNSFWTLZAXNB-UHFFFAOYSA-N 8-(chloromethoxy)-1,5-dimethyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2OCCl)CC3CC1(C)CC2(C)C3=O CPCNSFWTLZAXNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEJNQZLJUZWHBU-UHFFFAOYSA-N 8-hydroxy-1,5-dimethyladamantan-2-one Chemical compound C1C(C2O)CC3CC1(C)CC2(C)C3=O OEJNQZLJUZWHBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYCGPGGBFVFROW-UHFFFAOYSA-N CC(CC(CC(C1)C2)(C3)[O](C)(C)=C)(C1CC23[O](C)=C)O Chemical compound CC(CC(CC(C1)C2)(C3)[O](C)(C)=C)(C1CC23[O](C)=C)O PYCGPGGBFVFROW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006414 CCl Chemical group ClC* 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- VLLNJDMHDJRNFK-UHFFFAOYSA-N adamantan-1-ol Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(O)C3 VLLNJDMHDJRNFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical compound [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229940052761 dopaminergic adamantane derivative Drugs 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- TZBDEVBNMSLVKT-UHFFFAOYSA-N idramantone Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(O)CC2C3=O TZBDEVBNMSLVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M sodium perchlorate Chemical compound [Na+].[O-]Cl(=O)(=O)=O BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001488 sodium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
また、アダマンタンエステル類を、その酸感応性、ドライエッチング耐性、紫外線透過性などを利用して、フォトレジスト用樹脂原料として、使用することが試みられている(例えば、特許文献3参照)。
一方、近年、半導体素子の微細化が進むに伴い、その製造におけるリソグラフィー工程において、さらなる微細化が要求されており、したがって、KrF、ArFあるいはF2エキシマレーザー光などの短波長の照射光に対応したフォトレジスト材料を用いて、微細パターンを形成させる方法が種々検討されている。そして、前記エキシマレーザー光などの短波長の照射光に対応できる新しいフォトレジスト材料の出現が望まれていた。
すなわち、本発明の要旨は下記のとおりである。
1.一般式(I)又は(II)
で表される構造を有することを特徴とするアダマンタン誘導体。
2.前記一般式(I)又は(II)において、Yが、2つのYが一緒になって形成された=Oを示すものである上記1記載のアダマンタン誘導体。
3.一般式(III)又は(IV)
で表されるアダマンチル基を有するアルコールに、一般式(V)
で表されるカルボニル化合物及びハロゲン化水素ガスを反応させることを特徴とする上記1又は2に記載のアダマンタン誘導体の製造方法。
4.一般式(III)又は(IV)
で表されるアダマンチル基を有するアルコールに、無水酢酸の存在下、ジメチルスルホキシドを反応させて得られる(メチルチオ)メチルエーテル化合物を単離し、あるいは単離することなく、塩化スルフリルと反応させることを特徴とする上記1又は2記載のアダマンタン誘導体の製造方法。
まず、本発明の化合物Aは、一般式(I)
上記一般式(I)において、Xはハロゲン原子、Yは炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子又はヘテロ原子含有基を示す。R1〜R4は、独立に、水素、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基を示し、mは0〜15の整数、nは0〜10の整数を示す。なお、m、nが同時に0で、かつ、R3、R4が同時に水素原子の場合を除く。
上記において、ハロゲン原子はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素である。炭素数1〜10のアルキル基は直鎖状、分岐状いずれでもよい。炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基は、前記炭素数1〜10のアルキル基の適当な位置に一個もしくは二個以上のハロゲン基が置換したものであればよい。ヘテロ原子含有基は、O(酸素)、S(硫黄)又はN(窒素)を含んでいる置換基である。例えば、下記の式で表すことができる。
また、ヘテロ原子含有基は、2つのYが一緒になって形成された=Oでもよい。
前記一般式(I)で表される化合物Aは、例えば、下記のものが挙げられる。
次に、本発明の化合物Bは、一般式(II)
上記一般式(II)において、X、Y、R1〜R4、m及びnは前記に同じである。なお、この場合、m、nが同時に0で、かつ、R3、R4が同時に水素原子である場合がある。
前記一般式(II)で表される化合物Bは、例えば、下記のものが挙げられる。
次に、上記の本発明の化合物A、Bの製造方法について説明する。製造方法には、下記の二つの方法がある。
即ち、前記一般式(III)又は(IV)で表されるアダマンチル基を有するアルコール(以下、原料アルコールともいう。)に、下記一般式(V)
で表されるカルボニル化合物及びハロゲン化水素ガスを反応させる方法(製造方法1)と、原料アルコールに、無水酢酸の存在下、ジメチルスルホキシドを反応させて得られる(メチルチオ)メチルエーテル化合物を単離し、あるいは単離することなく、塩化スルフリルと反応させる方法(製造方法2)である。なお、製造方法2においては、前記一般式(III)において、m、nが同時に0の場合を除く。
以上の二方法の原料アルコールについては、先ず、化合物Aの原料アルコールとして、前記一般式(III)で表される下記の化合物が挙げられる。
次に、化合物Bの原料アルコールとして、前記一般式(IV)で表される下記の化合物が挙げられる
(1)製造方法1
原料アルコールとカルボニル化合物を溶融あるいは溶媒で希釈した後、乾燥剤を添加し、ここに乾燥したハロゲン化水素ガスを吹き込んで反応させるものである。
上記のカルボニル化合物として、ホルムアルデヒド(パラホルムアルデヒド)、アセトアルデヒド、アセトン、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、エチルメチルケトン、イソプロピルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、ジエチルケトンなどが挙げられる。カルボニル化合物の量は、原料アルコール1モルに対して、通常1〜5モルである。
また、上記の乾燥剤として、一般的な乾燥剤が使用可能である。具体的には、無水硫酸マグネシウム、無水塩化鉄、無水塩化アルミニウム等の無水無機塩;塩化カルシウム、モレキュラーシーブス、五酸化二リン、過塩素酸ナトリウム、活性アルミナ、シリカゲル、水素化カルシウム、水素化アルミニウムリチウムなどが挙げられる。乾燥剤の量は、原料アルコール1モルに対して、通常0.5〜5モルである。
ハロゲン化水素ガスは乾燥したものが好ましい。市販のボンベから供給する方法やハロゲン化ナトリウムと濃硫酸を反応させ発生したハロゲン化水素ガスを供給する方法が採用できる。ハロゲン化水素ガスの量は、原料アルコール1モルに対して、通常1〜20モルである。ハロゲン化水素として、一般に塩化水素ガスが使用される。
反応条件については、反応温度は、通常−200〜200℃であり、好ましくは−78〜50℃である。温度が低すぎると、反応速度が低下し、反応時間が長くなる。温度が高すぎると、副反応の増加や塩化水素ガスの溶媒への溶解度が低下し、多量の塩化水素ガスが必要となり、好ましくない。反応圧力は、通常絶対圧力で0.01〜10MPa、好ましくは常圧〜1MPaである。圧力が低すぎると、塩化水素ガスの溶解度が低下し、反応時間が長くなる。圧力が高すぎると、特別の耐圧の装置が必要となり経済的でない。反応時間は、通常1分〜24時間、好ましくは30分〜5時間である。
目的とする反応生成物の精製については、蒸留、晶析、カラム分離などが採用可能であり、生成物の性状と不純物の種類により精製方法を選択すればよい。
原料アルコールとジメチルスルホキシドを無水酢酸の共存下、混合・加熱し、(メチルチオ)メチルエーテル化合物を製造し(以上、前段工程)、得られた(メチルチオ)メチルエーテル化合物を塩化スルフリルと反応させ、目的の塩化メチルエーテル化合物を得る(以上、後段工程)方法である。
前段工程
ジメチルスルホキシドの量は、原料アルコール1モルに対して、通常1〜1,000モルである。
無水酢酸の量は、原料アルコール1モルに対して、通常1〜1,000モル、好ましくは2〜100モルである。溶媒はなくてもよいが、使用する場合、具体的には、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、THF等などのエーテル系溶媒;ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒が挙げられる。溶媒の量は、原料アルコールの濃度が1〜50質量%になる量でよい。
反応条件については、反応温度は、通常−200〜200℃であり、好ましくは−78〜50℃である。温度が低すぎると、反応速度が低下し、反応時間が長くなる。温度が高すぎると、副反応が増加し好ましくない。反応圧力は、通常絶対圧力で0.01〜10MPa、好ましくは常圧である。反応時間は、通常6時間〜14日間、好ましくは1〜7日間である。
後処理については、先ず反応混合液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぐ。攪拌しながら、固体の炭酸水素ナトリウムを発泡がなくなるまで加える。さらに水酸化ナトリウムとジエチルエーテルを加え、3時間〜3日間攪拌する。ジエチルエーテル層を分離後、水層を更にジエチルエーテルで抽出する。次いで、ジエチルエーテル溶液を混合し、乾燥後、ジエチルエーテルを留去し、粗生成物を得る。
反応生成物の精製については、蒸留、晶析、カラム分離などが採用可能であり、生成物の性状と不純物の種類により精製方法を選択すればよい。あるいは精製することなく、後段工程の反応に用いることができる。
溶媒はなくてもよいが、使用する場合、具体的には、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、THF等などのエーテル系溶媒;ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒が挙げられる。溶媒の量は、(メチルチオ)メチルエーテル化合物濃度が1〜50質量%になる量でよい。
反応方法については、原液あるいは溶媒に溶解した(メチルチオ)メチルエーテル化合物を攪拌しながら、塩化スルフリルを滴下する方法を採用すればよい。
反応条件については、反応温度は、通常−200〜100℃であり、好ましくは−78〜30℃である。温度が低すぎると、反応速度が低下し、反応時間が長くなる。温度が高すぎると、副反応が増加し好ましくない。反応圧力は、通常絶対圧力で0.01〜10MPa、好ましくは常圧である。反応時間は、通常1分〜24時間、好ましくは30分〜5時間である。
後処理方法については、エバポレーションにより溶媒及び軽質の副生物を除去すればよい。
目的とする反応生成物の精製については、蒸留、晶析、カラム分離などが採用可能であり、生成物の性状と不純物の種類により精製方法を選択すればよい。
このようにして、本発明のアダマンタン誘導体[(モノハロゲン置換メチル)(アダマンチル基含有アルキル)エーテル類]を効率よく製造することができる。
構造式
塩化水素ガス導入用のノズルを取り付けた50ミリリットル容のナス型フラスコに入れ、そこへ1−アダマンチルメタノール1.66g(10ミリモル)、パラホルムアルデヒド0.60g(20ミリモル)、硫酸マグネシウム1.20g(10ミリモル)及び乾燥したジクロロメタン30ミリリットルを加え、氷浴で0℃に冷却、攪拌した。ここに、塩化ナトリウム10gと濃硫酸50ミリリットルを混合して発生させた塩化水素ガスをノズルを通して1時間吹き込んだ。さらに60分間攪拌後、硫酸マグネシウムをろ過した後、ガスクロ分析を行ったところ1−アダマンチルメタノールは完全に転化し、選択率94.5%で目的物が得られていることを確認した。塩化水素及びジクロロメタンを除去後、蒸留にて精製を行い、目的物1.87g(8.72ミリモル、収率87.2%)で目的物を単離した。
この化合物の分析結果を以下に示す。
1H−NMR(500MHz):1.53(6H,f)、
1.64〜1.72(6H,d)、1.97(3H,e)、3.25(2H,b)、
5.50(2H,a)
13C−NMR(126MHz):28.18(e)、37.11(d or f)、
39.45(d or f)、33.49(c)、81.34(b)、84.25(a)
・赤外分光法(IR):2905cm-1(C−H;str.)、
1157cm-1(C−O−C;str.)、650cm-1(C−Cl;str.)
・沸点(bp):130〜133℃/0.7kPa
構造式
塩化水素ガス導入用のノズルを取り付けた1リットル容のセパラブルフラスコに攪拌装置を取り付け、そこへ4−オキソ−2−アダマンタノール50.0g(301ミリモル)、パラホルムアルデヒド13.6g(450ミリモル)、硫酸マグネシウム36.2g(300ミリモル)及び乾燥したジクロロメタン650ミリリットルを加え、氷浴で0℃に冷却、攪拌した。ここに、塩化ナトリウム300.7g(5モル)と濃硫酸700ミリリットルを混合して発生させた塩化水素ガスをノズルを通して1時間吹き込んだ。さらに3時間攪拌後、硫酸マグネシウムをろ過した後、ガスクロ分析を行ったところ4−オキソ−2−アダマンタノールは完全に転化し、選択率93.2%で目的物が得られていることを確認した。塩化水素及びジクロロメタンを除去後、蒸留にて精製を行い、目的物55.0g(256ミリモル、収率85.2%、GC純度98.8%)で目的物を単離した。
この化合物の分析結果を以下に示す。
1H−NMR(500MHz):1.66〜1.69(m)、
1.75〜1.78(m)、1.89〜2.12(m)、2.20(m)、
2.25(m)、2.28(m)、2.40(dq,J=13.0Hz,2.8Hz)、
2.51(s)、2.54(s)、2.79(s)、
3.94(t,J=3.5Hz,1H,b2)、
4.31(q,J=2.7Hz,1H,b1)、5.52(s,2H,a1)、
5.55(dd,J=5.4Hz,17.6Hz,2H,a2)
29.98(f2 or h2 or j2 or k2)、30.95(i2)、
31.26(i1)、32.46(f2 or h2 or j2 or k2)、
32.98(f1 or h1 or j1 or k1)、
33.44(f2 or h2 or j2 or k2)、
34.99(f1 or h1 or j1 or k1)、
37.80(f1 or h1 or j1 or k1)、
38.68(f2 or h2 or j2 or k2)、
38.78(f1 or h1 or j1 or k1)、45.31(e2)、
46.18(e1)、50.52(c1)、51.07(c2)、79.69(b1)、
79.82(a2)、80.44(b2)、83.97(a1)、
213.86(d2)、214.96(d1)
(なお、添字1は主異性体を表し、添字2は副異性体を表す。)
・ガスクロマトグラフィー質量分析(GC−MS):EI
216(M++2,2.9%)、214(M+,8.7%)、148(29.2%)、
79(100%)
・沸点:160〜161℃/0.2kPa
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003414445A JP4580165B2 (ja) | 2002-12-25 | 2003-12-12 | アダマンタン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002374659 | 2002-12-25 | ||
JP2003414445A JP4580165B2 (ja) | 2002-12-25 | 2003-12-12 | アダマンタン誘導体及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010022576A Division JP5137982B2 (ja) | 2002-12-25 | 2010-02-03 | アダマンタン誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004217627A JP2004217627A (ja) | 2004-08-05 |
JP4580165B2 true JP4580165B2 (ja) | 2010-11-10 |
Family
ID=32911078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003414445A Expired - Lifetime JP4580165B2 (ja) | 2002-12-25 | 2003-12-12 | アダマンタン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4580165B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4275456B2 (ja) * | 2003-05-15 | 2009-06-10 | 出光興産株式会社 | アダマンタン誘導体及びその製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58203927A (ja) * | 1982-05-24 | 1983-11-28 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | クロロメチルアルキルエ−テルの製造法 |
JPH06279341A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-04 | Hodogaya Chem Co Ltd | クロロメチルアルキルエーテルの製造方法 |
JP2001081140A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-03-27 | Samsung Electronics Co Ltd | 感光性ポリマーおよびこれを含むレジスト組成物 |
-
2003
- 2003-12-12 JP JP2003414445A patent/JP4580165B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58203927A (ja) * | 1982-05-24 | 1983-11-28 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | クロロメチルアルキルエ−テルの製造法 |
JPH06279341A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-04 | Hodogaya Chem Co Ltd | クロロメチルアルキルエーテルの製造方法 |
JP2001081140A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-03-27 | Samsung Electronics Co Ltd | 感光性ポリマーおよびこれを含むレジスト組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004217627A (ja) | 2004-08-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4866237B2 (ja) | アダマンタン誘導体、その製造方法及びフォトレジスト用感光材料 | |
WO2005075406A1 (ja) | アダマンタン誘導体及びその製造方法 | |
JP5137982B2 (ja) | アダマンタン誘導体及びその製造方法 | |
JP4429754B2 (ja) | アダマンタン誘導体及びその製造方法 | |
JP4580165B2 (ja) | アダマンタン誘導体及びその製造方法 | |
JP4790290B2 (ja) | アダマンタン誘導体及びその製造方法 | |
JP7322716B2 (ja) | アルコール化合物の製造方法及び(メタ)アクリレート化合物の製造方法 | |
JP4220888B2 (ja) | アダマンタン誘導体及びその製造方法 | |
JP6074670B2 (ja) | ペルフルオロアルケニルオキシ基含有アレーン化合物の製造法 | |
JP2007231002A (ja) | 重合性ジアマンチルエステル化合物の製造方法 | |
JPH07165670A (ja) | アルキル 3− ヒドロキシ− 2,4,5− トリフルオルベンゾエート及び/又はアルキル 3− アルコキシ−2,4,5− トリフルオルベンゾエートの製法 | |
JP5105825B2 (ja) | 4−ヒドロキシ−2−アダマンタノン化合物の製造方法 | |
JP5869664B2 (ja) | 5−オキソ−4−オキサ−5−ホモアダマンタン−2−オールの製造方法 | |
JP4275456B2 (ja) | アダマンタン誘導体及びその製造方法 | |
JP2009256306A (ja) | 重合性不飽和基を有するアダマンタン誘導体とその製造法 | |
JP4594695B2 (ja) | アダマンタン誘導体の製造方法 | |
JP6024410B2 (ja) | ヒドロキシアダマンタンポリカルボン酸化合物の製造方法 | |
JP2005097158A (ja) | 含フッ素有機化合物の製造方法 | |
JP4641772B2 (ja) | フラノンの製造方法 | |
JPH0236148A (ja) | α,β‐不飽和アルデヒドの製造方法 | |
JP2014108925A (ja) | 3,3,3−トリフルオロプロピオニル化合物の製造方法 | |
JP2007153803A (ja) | 置換アダマンチルエタノールの製造方法 | |
JP2005179192A (ja) | カルボラクトン環を有する3級アルコール化合物 | |
JP2005179300A (ja) | アダマンタン誘導体の製造方法 | |
JP2008074756A (ja) | 3,9−ビス(2−クロロエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20041208 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060623 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090428 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090512 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090710 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100203 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100803 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100827 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4580165 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |