JP2009009691A - グローバルワードラインデコーダのレイアウト面積を減らす不揮発性メモリ装置及びその動作方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】不揮発性メモリ装置は、多数のビットラインを通じてデータを読み出すように構成され、そのゲートが、多数のワードラインのうち対応するワードラインにそれぞれ接続される多数のメモリセルと、プログラムモードで、n(3以上の整数)個の相異なるレベルの電圧を多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供するための第1タイプグローバルワードラインデコーダと、プログラムモードで、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供し、第1タイプグローバルワードラインデコーダに比べてさらに少ない数のスィッチ素子を含む第2タイプグローバルワードラインデコーダと、を備える。
【選択図】図3
Description
前記少なくとも一つのバイアス電圧は、前記選択セルが前記第1メモリセルないし第N(2以上の整数)メモリセルのうち第i(iは、1≦i≦Nの整数)メモリセルである場合、前記第(i−1)メモリセルに提供されるための第1下向きバイアス電圧及び前記第(i+1)メモリセルに提供されるための第1上向きバイアス電圧を含みうる。
前記技術的課題を果たすための本発明の実施形態による不揮発性メモリ装置の動作方法は、多数のビットラインを通じてデータを読み出すように構成され、そのゲートは、多数のワードラインのうち対応するワードラインにそれぞれ接続される多数のメモリセルを含むメモリセルアレイを備える不揮発性メモリ装置の動作方法に関する。
選択セル204のゲート、すなわち、選択セル204に連結されたワードラインWL[1]には、プログラム電圧Vpgmが提供されることによって、プログラムがなされうる。
選択セル204は、ストリング選択トランジスタ209及び共通ソースライン選択トランジスタ201との間に直列に連結された複数の不揮発性メモリセルのうちの一つであり得る。ここでは、選択セル204は、ワードラインWL[1]に接続されたメモリセルであると仮定する。
第1ダミーグローバルワードラインデコーダ811と第1エッジグローバルワードラインデコーダ812は、実質的に同一構造を有しうる。
したがって、第1ダミーグローバルワードラインデコーダ811、第1エッジグローバルワードラインデコーダ812、第2エッジグローバルワードラインデコーダ814、及び第2ダミーグローバルワードラインデコーダ815は、対応するワードラインに必要な電圧の数だけスイッチングトランジスタを備えることによって、不揮発性メモリ装置のレイアウト面積を減少させうる。
Claims (20)
- 多数のワードラインと、
多数のビットラインと、
前記多数のビットラインを通じてデータを読み出すように構成され、そのゲートが、前記多数のワードラインのうち対応するワードラインにそれぞれ接続される多数のメモリセルを含むメモリセルアレイと、
プログラムモードで、n(nは、3以上の整数)個の相異なるレベルの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供するための第1タイプグローバルワードラインデコーダと、
前記プログラムモードで、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧のうち少なくとも一つを除外した残りの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供し、前記第1タイプグローバルワードラインデコーダに比べてさらに少ない数のスィッチ素子を含む第2タイプグローバルワードラインデコーダと、を備え、
前記相異なるレベルの電圧は、前記多数のメモリセルのうち選択セルのプログラムのためのプログラム電圧、前記プログラム電圧より低いプログラム禁止電圧及び前記プログラム禁止電圧より低い少なくとも一つのバイアス電圧を含むことを特徴とする不揮発性メモリ装置。 - 前記スィッチ素子は、スイッチングトランジスタとして具現され、
前記第1タイプグローバルワードラインデコーダは、n個の相異なるレベルの電圧をそれぞれスイッチングするための多数のスイッチングトランジスタを備え、
前記第2タイプグローバルワードラインデコーダは、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧をそれぞれスイッチングするための多数のスイッチングトランジスタを備えることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記少なくとも一つのバイアス電圧は、前記選択セルの第1隣接セルに提供される下向きバイアス電圧及び前記選択セルの第2隣接セルに提供される上向きバイアス電圧を含み、
前記第1及び第2タイプグローバルワードラインデコーダは、前記プログラム禁止電圧を、前記選択されたセルではない、非選択メモリセルと、前記複数のメモリセルのうち第1及び第2隣接セルに提供し、
前記第2タイプグローバルワードラインデコーダは、
前記プログラムモードで、少なくとも前記上向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供する第1エッジグローバルワードラインデコーダと、
前記プログラムモードで、少なくとも前記下向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なる電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供する第2エッジグローバルワードラインデコーダと、を備えることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記多数のメモリセルは、
ストリング構造で直列に連結された第1メモリセルないし第N(Nは、2以上の整数)メモリセルを含み、
前記第1エッジグローバルワードラインデコーダは、前記第1メモリセルに接続されたワードラインに対応し、
前記第2エッジグローバルワードラインデコーダは、前記第Nメモリセルに接続されたワードラインに対応し、
前記第1タイプグローバルワードラインデコーダは、第2ないし第(N−1)メモリセルに接続されたワードラインに対応することを特徴とする請求項3に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記第1エッジグローバルワードラインデコーダ及び前記第2エッジグローバルワードラインデコーダは、実質的に同一構造を有することを特徴とする請求項4に記載の不揮発性メモリ装置。
- 前記多数のメモリセルは、
前記第1メモリセルに接続された第1ダミーセル及び前記第Nメモリセルに接続された第2ダミーセルをさらに含み、
前記不揮発性メモリ装置は、
前記第1ダミーセルのための第1ダミーグローバルワードラインデコーダと、
前記第2ダミーセルのための第2ダミーグローバルワードラインデコーダと、をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記プログラムモードで、
前記第1ダミーグローバルワードラインデコーダは、少なくとも前記上向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を前記第1ダミーセルに接続された第1ダミーワードラインに選択的に提供し、前記第2ダミーグローバルワードラインデコーダは、少なくとも前記下向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を前記第2ダミーセルに接続された第2ダミーワードラインに選択的に提供することを特徴とする請求項6に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記第1ダミーグローバルワードラインデコーダは、前記第1エッジグローバルワードラインデコーダと実質的に同一構造を有し、前記第2ダミーグローバルワードラインデコーダは、前記第2エッジグローバルワードラインデコーダと実質的に同一構造を有することを特徴とする請求項6に記載の不揮発性メモリ装置。
- 前記多数のメモリセルは、
ストリング構造で直列に連結された第1メモリセルないし第Nメモリセルを含み、
前記少なくとも一つのバイアス電圧は、前記選択セルが前記第1メモリセルないし第Nメモリセルのうち第i(iは、1≦i≦Nの整数)メモリセルである場合、前記第(i−1)メモリセルに提供されるための第1下向きバイアス電圧及び前記第(i+1)メモリセルに提供されるための第1上向きバイアス電圧を含むことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記第2タイプグローバルワードラインデコーダは、
前記プログラムモードで、少なくとも前記第1上向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供する第1エッジグローバルワードラインデコーダと、
前記プログラムモードで、少なくとも前記第1下向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供する第2エッジグローバルワードラインデコーダと、を備えることを特徴とする請求項9に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記少なくとも一つのバイアス電圧は、前記選択セルが前記第1メモリセルないし第N(2以上の整数)メモリセルのうち第iメモリセルである場合、前記第(i−2)メモリセルに提供されるための第2下向きバイアス電圧をさらに含み、
前記第2タイプグローバルワードラインデコーダは、
前記プログラムモードで、少なくとも前記第1上向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供する第1エッジグローバルワードラインデコーダと、
前記プログラムモードで、少なくとも前記第1下向きバイアス電圧を除外した、(n−1)までの相異なるレベルの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供する第2エッジグローバルワードラインデコーダと、を備えることを特徴とする請求項9に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記多数のメモリセルは、
前記第1メモリセルに接続された第1ダミーセル及び前記第Nメモリセルに接続された第2ダミーセルをさらに含み、
前記不揮発性メモリ装置は、
前記第1ダミーセルのための第1ダミーグローバルワードラインデコーダと、
前記第2ダミーセルのための第2ダミーグローバルワードラインデコーダと、をさらに備えることを特徴とする請求項9に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記プログラムモードで、
前記第1ダミーグローバルワードラインデコーダは、少なくとも前記第1上向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を前記第1ダミーセルに接続された第1ダミーワードラインに選択的に提供し、
前記第2ダミーグローバルワードラインデコーダは、少なくとも前記第1下向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を前記第2ダミーセルに接続された第2ダミーワードラインに選択的に提供することを特徴とする請求項12に記載の不揮発性メモリ装置。 - 多数のビットラインを通じてデータを読み出すように構成され、そのゲートが、多数のワードラインのうち対応するワードラインにそれぞれ接続される多数のメモリセルを含むメモリセルアレイを備える不揮発性メモリ装置の動作方法において、
プログラムモードで、第1タイプグローバルワードラインデコーダによってn(nは、3以上の整数)個の相異なるレベルの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供する段階と、
前記プログラムモードで、前記第1タイプグローバルワードラインデコーダに比べてさらに少ない数のスィッチ素子を含む第2タイプグローバルワードラインデコーダによって(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供する段階と、を備え、
前記相異なるレベルの電圧は、
前記多数のメモリセルのうち選択セルのプログラムのためのプログラム電圧、前記プログラム電圧より低いプログラム禁止電圧及び前記プログラム禁止電圧より低い少なくとも一つのバイアス電圧を含むことを特徴とする不揮発性メモリ装置の動作方法。 - 前記スィッチ素子は、スイッチングトランジスタとして具現され、
前記n個の相異なるレベルの電圧を選択的に提供する段階は、
前記相異なるレベルの電圧をそれぞれスイッチングするための多数のスイッチングトランジスタを選択的にイネーブルする段階と、
前記選択的にイネーブルされたスイッチングトランジスタを通じて前記相異なるレベルの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供する段階と、を備え、
前記(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を選択的に提供する段階は、
(n−1)個までの相異なるレベルの電圧をそれぞれスイッチングするための多数のスイッチングトランジスタを選択的にイネーブルする段階と、
前記選択的にイネーブルされたスイッチングトランジスタを通じて(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を前記多数のワードラインのうち対応するワードラインに選択的に提供する段階と、を備えることを特徴とする請求項14に記載の不揮発性メモリ装置の動作方法。 - 前記プログラム禁止電圧を、前記選択されたセルではない、非選択セルと前記複数のメモリセル中の第1及び第2隣接セルに提供する段階をさらに備えることを特徴とする請求項14に記載の不揮発性メモリ装置の動作方法。
- 前記少なくとも一つのバイアス電圧は、
前記選択セルの第1隣接セルに提供される下向きバイアス電圧と、
前記選択セルの第2隣接セルに提供される上向きバイアス電圧と、を含み、
前記(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を選択的に提供する段階は、
前記プログラムモードの場合、前記複数のワードラインのうちから対応するワードラインに、少なくとも前記上向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を選択的に提供する段階と、
前記プログラムモードの場合、前記複数のワードラインのうちから対応するワードラインに、少なくとも前記下向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を選択的に提供する段階と、を備えることを特徴とする請求項14に記載の不揮発性メモリ装置の動作方法。 - 前記第1ダミーセルに連結された第1ダミーワードラインに、少なくとも前記上向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個まで相異なるレベルの電圧を選択的に提供する段階と、
前記第2ダミーセルに連結された第2ダミーワードラインに、少なくとも前記下向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個まで相異なるレベルの電圧を選択的に提供する段階と、をさらに備えることを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ装置の動作方法。 - 前記下向きバイアス電圧は、第1及び第2下向きバイアス電圧を含み、
前記少なくとも前記下向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの相異なるレベルの電圧を選択的に提供する段階は、
前記プログラムモードで、前記複数のワードラインのうち対応するワードラインに少なくとも第1及び第2下向きバイアス電圧を除外した、(n−2)個までの相異なるレベルの電圧を選択的に提供する段階を備えることを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ装置の動作方法。 - 第1ダミーセルに連結された第1ダミーワードラインに、少なくとも前記上向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの異なる電圧を選択的に提供する段階と、
第2ダミーセルに連結された第2ダミーワードラインに、少なくとも前記下向きバイアス電圧を除外した、(n−1)個までの異なる電圧を選択的に提供する段階と、をさらに備えることを特徴とする請求項19に記載の不揮発性メモリ装置の動作方法。
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