JP2008544536A - ナノ構造体及びそれを採用した発光ダイオードとその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
この発光ダイオードは、基板と、透明電極と、前記基板と前記透明電極との間に介在されたナノ構造体のアレイとを含む。前記ナノ構造体は、それぞれコアナノロッドと前記コアナノロッドを取り囲むナノシェルとを備える。前記コアナノロッドは、前記基板にほぼ垂直方向に形成され、長手方向に結合された第1導電型の第1ナノロッドと、(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x<1、0≦y≦1及び0≦x+y≦1)量子ウェルと、第2導電型の第2ナノロッドとを含む。前記ナノシェルは、前記量子ウェルよりバンドギャップが大きい物質で形成され、前記コアナノロッドの少なくとも前記量子ウェルドルをそれぞれ取り囲む。一方、前記透明電極は、前記第2ナノロッドに共通的に連結される。これにより、ナノシェルによって(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェル表面での非発光再結合を防止し、外部量子効率を増加させうる発光ダイオードを提供できる。
【選択図】図1
Description
また、表面での非発光再結合の影響を減少させうるナノ構造体アレイを採用した発光ダイオードを製造する方法を提供できる。
まず、GaNをエピタキシャル成長法で成長させる方法を説明する。エピタキシャル層を成長させる方法として、大きくVPE(Vapor Phase Epitaxial;気相エピタキシャル)成長法、LPE(Liquid Phase Epitaxial;液相エピタキシャル)成長法、SPE(Solid Phase Epitaxial;固相エピタキシャル)成長法が挙げられる。ここで、VPEは、反応ガスを基板上に流しながら熱による分解と反応を通じて基板上に結晶を成長させるものであって、反応ガスの原料形態によって水素化物VPE(hydride VPE;HVPE)、ハロゲン化物VPE(halide VPE)、有機金属VPE(metal organic VPE;MOVPE)などに分類できる。本実施例では、有機金属水素化物気相エピタキシャル(MO−HVPE;metal organic hydride VPE)成長法でGaN層とInGaN/GaN量子ウェルを形成するものとして説明するが、本発明が必ずこの方法に限定されるものではなく、適切な他の成長法、例えばMBE(molecular beam epitaxy)またはMOCVD(metal organic chemical vapor deposition)でGaN層とInGaN/GaN量子ウェルを形成することもできる。また、ここでは、InGaNとGaNの成長を例として説明するが、前駆体を調節して所望の組成を有する(AlxInyGa1−x−y)Nを成長させうる。
図4を参照すれば、基板10を反応器(図示せず)内に装入し、前記基板上にバッファー層20を形成する。前記基板10は、サファイアまたはガラスのような絶縁性基板であるか、又は、Si、SiO2、SiCまたはZnOのような導電性基板でありうる。
また、表面での非発光再結合の影響を減少させうるナノ構造体アレイを採用した発光ダイオードを製造する方法を提供できる。
20 n型のバッファー層
31 n型第1ナノロッド
33 量子ウェル
35 第2ナノロッド
37a ナノシェル
41 透明絶縁物
50、70 電極パッド
60 透明電極
Claims (20)
- 長手方向に結合された第1導電型の第1ナノロッドと、(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x<1、0≦y≦1及び0≦x+y≦1)量子ウェルと、第2導電型の第2ナノロッドとを含むコアナノロッドと、
少なくとも前記(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェルを取り囲み、前記(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェルよりバンドギャップが大きい物質で形成されるナノシェルと、
を含むことを特徴とするナノ構造体。 - 前記量子ウェルよりバンドギャップが大きい物質は、(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x≦1、0≦y<1及び0≦x+y≦1)またはZnOであるが、前記(AlxInyGa1−x−y)N内のAl及びIn含量は、前記(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェルよりバンドギャップが大きいように選択されることを特徴とする請求項1に記載のナノ構造体。
- 前記(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェルは、複数の(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x<1、0≦y≦1及び0≦x+y≦1)層及び複数の(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x≦1、0≦y<1及び0≦x+y≦1)バリアーが交互に繰り返されて形成される多重量子ウェルであることを特徴とする請求項1に記載のナノ構造体。
- 前記ナノシェルは、前記第2ナノロッドの端部の一部を除いて、前記コアナノロッドの外周辺部を取り囲むことを特徴とする請求項1に記載のナノ構造体。
- 基板と、
前記基板にほぼ垂直方向に形成され、長手方向に結合された第1導電型の第1ナノロッドと、(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x<1、0≦y≦1及び0≦x+y≦1)量子ウェル及び第2導電型の第2ナノロッドをそれぞれ含むコアナノロッドと、前記コアナノロッドの少なくとも前記(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェルドルをそれぞれ取り囲み、前記(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェルよりバンドギャップが大きい物質で形成されるナノシェルと、を含むナノ構造体のアレイと、
前記第2ナノロッドに共通的に連結される透明電極と、
を含むことを特徴とする発光ダイオード。 - 前記第1ナノロッド及び前記第2ナノロッドは、それぞれAlxInyGa(1−x−y)N(ここで、0≦x≦1、0≦y<1及び0≦x+y≦1)またはZnOで形成されることを特徴とする請求項5に記載の発光ダイオード。
- 前記量子ウェルよりバンドギャップが大きい物質は、(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x≦1、0≦y<1及び0≦x+y≦1)またはZnOであるが、前記AlxInyGa(1−x−y)N内のAl及びIn含量は、前記(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェルよりバンドギャップが大きいように選択されることを特徴とする請求項5に記載の発光ダイオード。
- 前記ナノ構造体間の空き空間を満たす透明絶縁物をさらに含み、前記第2ナノロッドの先端部は、前記透明絶縁物の上部面から突出して前記透明電極に連結されることを特徴とする請求項5に記載の発光ダイオード。
- 前記透明絶縁物は、SOG、SiO2、エポキシまたはシリコンであることを特徴とする請求項8に載の発光ダイオード。
- 前記透明絶縁物は、前記コアナノロッドから放出された光の一部を波長変換させる蛍光物質を含有することを特徴とする請求項8に載の発光ダイオード。
- 前記(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェルは、複数の(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x<1、0≦y≦1及び0≦x+y≦1)層及び複数の(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x≦1、0≦y<1及び0≦x+y≦1)バリアーが交互に繰り返されて形成される多重量子ウェルであることを特徴とする請求項5に記載の発光ダイオード。
- 少なくとも2つのピーク波長の光を放出するように前記複数の(AlxInyGa1−x−y)N層のうち少なくとも2つの(AlxInyGa1−x−y)N層は、In含量または厚さが互いに異なることを特徴とする請求項11に記載の発光ダイオード。
- 前記基板と前記ナノ構造体のアレイとの間に介在される第1導電型のGaNバッファー層をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載の発光ダイオード。
- 前記バッファー層の一部領域が前記ナノ構造体のアレイから延長され、前記延長されたバッファー層の一部領域上に形成される電極パッドをさらに含むことを特徴とする請求項13に記載の発光ダイオード。
- 基板に垂直方向に第1導電型の第1ナノロッドと、(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x<1、0≦y≦1及び0≦x+y≦1)量子ウェル及び第2導電型の第2ナノロッドがそれぞれ長手方向に結合されたコアナノロッドのアレイを形成し、
前記(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェルよりバンドギャップが大きい物質で前記コアナノロッドをそれぞれ被覆する初期ナノシェルを形成し、
前記初期ナノシェルの先端部をエッチングして前記第2ナノロッドの先端部を露出させるナノシェルを形成し、
前記露出された第2ナノロッドに共通的に連結される透明電極を形成する
ことを含むことを特徴とする発光ダイオードの製造方法。 - 前記初期ナノシェルを形成した後、前記コアナノロッド間の空き空間を満たす透明絶縁物を形成することをさらに含み、前記透明絶縁物は、前記第2ナノロッド及び前記ナノシェルの先端部が突出するように前記第2ナノロッドの高さより低い高さで形成されることを特徴とする請求項15に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記コアナノロッドのアレイを形成する前に、前記基板上に第1導電型のGaNバッファー層を形成し、
写真及びエッチング工程を使用して前記透明絶縁物をパターニングして前記バッファー層の一部領域を露出させることをさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の発光ダイオードの製造方法。 - 前記透明電極及び前記露出されたバッファー層の一部領域上にそれぞれ電極パッドを形成することをさらに含むことを特徴とする請求項17に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記(AlxInyGa1−x−y)N量子ウェルは、複数の(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x<1、0≦y≦1及び0≦x+y≦1)層及び複数の(AlxInyGa1−x−y)N(ここで、0≦x≦1、0≦y<1及び0≦x+y≦1)バリアーが交互に積層された多重量子ウェルであることを特徴とする請求項15に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記第1ナノロッド、多重量子ウェル及び第2ナノロッドは、MO−HVPE、MBEまたはMOCVD法を用いてインサイチュ(in−situ)で形成されることを特徴とする請求項19に記載の発光ダイオードの製造方法。
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