JP2008527079A5 - - Google Patents
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Description
一態様では、本発明は、式Ｉ：
ＲfＳＯ2−Ｎ（Ｒ）（ＣnＨ2n）ＣＨＺ（ＣmＨ2m）Ｎ（Ｒ’）ＳＯ2Ｒf （Ｉ）
（式中、Ｒfはそれぞれ独立してＣpＦ2p+1であり、ここで、ｐは２〜５であり、
ＲはＣ1〜Ｃ4アルキルまたはアリール基であり、
ｍおよびｎは両方とも１以上の整数であり、
ＺはＨまたは式：（Ｃm’Ｈ2m’）Ｘ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ）3の基であり、ここで、ｍ’は０〜４であり、ＸはＯ、ＳまたはＮＨであり、およびＱは−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ2）n’−または−（ＣＨ2）n’−であり、；そしてＲ’はＲであるかまたは、ＺがＨであるとき、式−（ＣＨ2）n’−Ｓｉ（Ｙ）3の基であり；ｎ’は１〜２０の整数であり、そしてＹは加水分解性基である）
の１つもしくはそれ以上のシランを含有するフルオロケミカル組成物を提供する。
ＲfＳＯ2−Ｎ（Ｒ）（ＣnＨ2n）ＣＨＺ（ＣmＨ2m）Ｎ（Ｒ’）ＳＯ2Ｒf （Ｉ）
（式中、Ｒfはそれぞれ独立してＣpＦ2p+1であり、ここで、ｐは２〜５であり、
ＲはＣ1〜Ｃ4アルキルまたはアリール基であり、
ｍおよびｎは両方とも１以上の整数であり、
ＺはＨまたは式：（Ｃm’Ｈ2m’）Ｘ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ）3の基であり、ここで、ｍ’は０〜４であり、ＸはＯ、ＳまたはＮＨであり、およびＱは−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ2）n’−または−（ＣＨ2）n’−であり、；そしてＲ’はＲであるかまたは、ＺがＨであるとき、式−（ＣＨ2）n’−Ｓｉ（Ｙ）3の基であり；ｎ’は１〜２０の整数であり、そしてＹは加水分解性基である）
の１つもしくはそれ以上のシランを含有するフルオロケミカル組成物を提供する。
本発明の第３態様は、上記のフルオロケミカル組成物および式ＩＩ：
Ｍ（Ｒ’’）q（Ｙ）r-q （ＩＩ）
（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｖ、Ｓｎ、およびＺｎから選択され、
Ｒ’’は非加水分解性基であり、
Ｙは、ＯＲ、ＯＣＯＣＨ3またはＣｌなどの加水分解性基であり、
ｑは０、１または２であり、そして
ｒは４、３または２である）
の１つもしくはそれ以上の化合物を提供する。
Ｍ（Ｒ’’）q（Ｙ）r-q （ＩＩ）
（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｖ、Ｓｎ、およびＺｎから選択され、
Ｒ’’は非加水分解性基であり、
Ｙは、ＯＲ、ＯＣＯＣＨ3またはＣｌなどの加水分解性基であり、
ｑは０、１または２であり、そして
ｒは４、３または２である）
の１つもしくはそれ以上の化合物を提供する。
本フルオロケミカル組成物は式Ｉ
ＲfＳＯ2−Ｎ（Ｒ）（ＣnＨ2n）ＣＨＺ（ＣmＨ2m）Ｎ（Ｒ’）ＳＯ2Ｒf （Ｉ）
（式中、Ｒfはそれぞれ独立してＣpＦ2p+1であり、ここで、ｐは２〜５であり、
ＲはＣ1〜Ｃ4アルキルまたはアリール基であり、
ｍおよびｎは両方とも１以上の整数であり、
ＺはＨまたは式：（Ｃm’Ｈ2m’）Ｘ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ）3の基であり、ここで、ｍ’は０〜４であり、ＸはＯ、ＳまたはＮＨであり、およびＱは−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ2）n’−または−（ＣＨ2）n’−であり、；そしてＲ’はＲであるかまたは、ＺがＨであるとき、式−（ＣＨ2）n’−Ｓｉ（Ｙ）3の基であり；ｎ’は１〜２０の整数であり、そしてＹは加水分解性基である）
の１つもしくはそれ以上のシランを含有する。
ＲfＳＯ2−Ｎ（Ｒ）（ＣnＨ2n）ＣＨＺ（ＣmＨ2m）Ｎ（Ｒ’）ＳＯ2Ｒf （Ｉ）
（式中、Ｒfはそれぞれ独立してＣpＦ2p+1であり、ここで、ｐは２〜５であり、
ＲはＣ1〜Ｃ4アルキルまたはアリール基であり、
ｍおよびｎは両方とも１以上の整数であり、
ＺはＨまたは式：（Ｃm’Ｈ2m’）Ｘ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ）3の基であり、ここで、ｍ’は０〜４であり、ＸはＯ、ＳまたはＮＨであり、およびＱは−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ2）n’−または−（ＣＨ2）n’−であり、；そしてＲ’はＲであるかまたは、ＺがＨであるとき、式−（ＣＨ2）n’−Ｓｉ（Ｙ）3の基であり；ｎ’は１〜２０の整数であり、そしてＹは加水分解性基である）
の１つもしくはそれ以上のシランを含有する。
本発明のフルオロケミカル組成物では、式Ｉの１つもしくはそれ以上のシランが式ＩＩ
Ｍ（Ｒ’’）q（Ｙ）r-q （ＩＩ）
（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｖ、Ｓｎ、およびＺｎから選択され、
Ｒ’’は非加水分解性基であり、
Ｙは加水分解性基であり、
ｑは０、１または２であり、そして
ｒは４、３または２である）
の１つもしくはそれ以上の化合物と化合させられてもよい。
Ｍ（Ｒ’’）q（Ｙ）r-q （ＩＩ）
（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｖ、Ｓｎ、およびＺｎから選択され、
Ｒ’’は非加水分解性基であり、
Ｙは加水分解性基であり、
ｑは０、１または２であり、そして
ｒは４、３または２である）
の１つもしくはそれ以上の化合物と化合させられてもよい。
式（Ｉ）、（II）の化合物および任意の架橋剤、および／またはそれらの部分または完全重縮合生成物を含む、本発明の組成物は一般に、撥水および撥油性であるコーティングを生成するのに十分な量で基材に塗布される。実際には有用なコーティングはもっと厚くてもよいが、このコーティングは極めて薄く、例えば、１〜５０分子層であることができる。
上記の明細書、実施例およびデータは、本発明の組成物の製造および使用の完全な説明を提供する。本発明の多くの実施形態は本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく行われ得るので、本発明は、本明細書の冒頭に添付される特許請求の範囲に存在する。
以下に、本願発明に関連する発明について、その実施形態を列挙する。
［実施形態１］
式：
Ｒ f ＳＯ 2 −Ｎ（Ｒ）（Ｃ n Ｈ 2n ）ＣＨＺ（Ｃ m Ｈ 2m ）Ｎ（Ｒ’）ＳＯ 2 Ｒ f （Ｉ）
（式中、Ｒ f はそれぞれ独立してＣ p Ｆ 2p+1 であり、ここで、ｐは２〜５であり、
ＲはＨまたはＣ 1 〜Ｃ 4 アルキルまたはアリール基であり、
ｍおよびｎは両方とも１以上の整数であり、
Ｚは式：（Ｃ m’ Ｈ 2m’ ）Ｘ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ） 3 の基であり、ここで、ｍ’は０〜４であり、ＸはＯ、ＳまたはＮＨであり、およびＱは−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ 2 ） n’ −または−（ＣＨ 2 ） n’ −であり、；そしてＲ’はＲであるかまたは、ＺがＨであるとき、式−（ＣＨ 2 ） n’ −Ｓｉ（Ｙ） 3 の基であり；ｎ’は１〜２０の整数であり、そしてＹは加水分解性基である）
の１つもしくはそれ以上のシランを含むフルオロケミカル組成物。
［実施形態２］
ｐが４であり、ｍが１〜６であり、そしてｎが１〜６である、実施形態１に記載の組成物。
［実施形態３］
Ｚが−Ｏ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ） 3 であり、ここで、Ｙが独立して−Ｃｌ、またはＣ 1 〜Ｃ 4 アルコキシ基である、実施形態２に記載の組成物。
［実施形態４］
Ｑが−（ＣＨ 2 ） n’ −であり、ここで、ｎ’が１〜１０である、実施形態３に記載の組成物。
［実施形態５］
Ｑが−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ 2 ） n’ −であり、ここで、ｎ’が１〜１０である、実施形態３に記載の組成物。
［実施形態６］
Ｚが水素であり、そしてＲ’が−（ＣＨ 2 ） n’ −Ｓｉ（Ｙ） 3 であり、ここで、Ｙが独立して−Ｃｌ、またはＣ 1 〜Ｃ 4 アルコキシ基である、実施形態２に記載の組成物。
［実施形態７］
Ｒが−ＣＨ 3 または−ＣＨ 2 ＣＨ 3 である、実施形態２に記載の組成物。
［実施形態８］
ｎおよびｍの合計が２であり、ＸがＯであり、そしてＱが−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ 2 ） 3 −である、実施形態２に記載の組成物。
［実施形態９］
式［Ｃ 4 Ｆ 9 ＳＯ 2 Ｎ（ＣＨ 3 ）ＣＨ 2 ］ 2 ＣＨＯＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ） 3 、
［Ｃ 4 Ｆ 9 ＳＯ 2 Ｎ（ＣＨ 3 ）ＣＨ 2 ］ 2 ＣＨＯＣＯＮＨＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ） 3 、および
Ｃ 4 Ｆ 9 ＳＯ 2 Ｎ（ＣＨ 3 ）ＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｎ（ＳＯ 2 Ｃ 4 Ｆ 9 ）ＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ） 3
の１つもしくはそれ以上のシランを含む、実施形態１に記載の組成物。
［実施形態１０］
有機溶媒をさらに含む、実施形態１に記載の組成物。
［実施形態１１］
前記溶媒がアルコール、エーテル、ケトンもしくはエステル、またはそれらの混合物である、実施形態１０に記載の組成物。
［実施形態１２］
式：
Ｍ（Ｒ’’） q （Ｙ） r-q （ＩＩ）
（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｖ、Ｓｎ、およびＺｎから選択され、
Ｒ’’は非加水分解性基であり、
Ｙは加水分解性基であり、
ｑは０、１または２であり、そして
ｒは４、３または２である）
の１つもしくはそれ以上の化合物をさらに含む、実施形態１に記載の組成物。
［実施形態１３］
Ｒ’’がＲである、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１４］
Ｙが独立して−Ｃｌ、またはＣ 1 〜Ｃ 4 アルコキシ基である、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１５］
ＭがＳｉであり、Ｒ’’が−ＣＨ 3 または−ＣＨ 2 ＣＨ 3 であり、そしてＹが独立して−Ｃｌ、−ＯＣＨ 3 または−ＯＣＨ 2 ＣＨ 3 である、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１６］
式ＩＩの化合物がテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、またはチタン酸テトラエチルヘキシルである、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１７］
化合物Ｉ対ＩＩの重量比が約１００：０〜約１：９９である、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１８］
化合物Ｉ対ＩＩの重量比が約５０：５０〜約１０：９０である、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１９］
（ａ）式：
Ｒ f ＳＯ 2 −Ｎ（Ｒ）（Ｃ n Ｈ 2n ）ＣＨＺ（Ｃ m Ｈ 2m ）Ｎ（Ｒ’）ＳＯ 2 Ｒ f （Ｉ）
（式中、Ｒ f はそれぞれ独立してＣ p Ｆ 2p+1 であり、ここで、ｐは２〜５であり、
ＲはＣ 1 〜Ｃ 4 アルキルまたはアリール基であり、
ｍおよびｎは両方とも１以上の整数であり、
ＺはＨまたは式：（Ｃ m’ Ｈ 2m’ ）Ｘ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ） 3 の基であり、ここで、ｍ’は０〜４であり、ＸはＯ、ＳまたはＮＨであり、およびＱは−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ 2 ） n’ −または−（ＣＨ 2 ） n’ −であり、；そしてＲ’はＲであるかまたは、ＺがＨであるとき、式−（ＣＨ 2 ） n’ −Ｓｉ（Ｙ） 3 の基であり；ｎ’は１〜２０の整数であり、そしてＹは加水分解性基である）
の１つもしくはそれ以上のシランと、
（ｂ）式：
Ｍ（Ｒ’’） q （Ｙ） r-q （ＩＩ）
（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｖ、Ｓｎ、およびＺｎから選択され、
Ｒ’’はＲであり、
Ｙは独立して−Ｃｌ、またはＣ 1 〜Ｃ 4 アルコキシ基であり、
ｑは０、１または２であり、そして
ｒは４、３または２である）
の１つもしくはそれ以上の化合物と、
（ｃ）有機溶媒と
を含むフルオロケミカル組成物。
［実施形態２０］
ｐが４である実施形態１９に記載の組成物。
［実施形態２１］
成分（ａ）および（ｂ）の縮合生成物を含む実施形態１９に記載の組成物。
［実施形態２２］
実施形態１０に記載の組成物を基材に塗布する工程を含むケイ質基材の処理方法。
［実施形態２３］
実施形態２２に記載の組成物を基材に塗布する工程を含むケイ質基材の処理方法。
以下に、本願発明に関連する発明について、その実施形態を列挙する。
［実施形態１］
式：
Ｒ f ＳＯ 2 −Ｎ（Ｒ）（Ｃ n Ｈ 2n ）ＣＨＺ（Ｃ m Ｈ 2m ）Ｎ（Ｒ’）ＳＯ 2 Ｒ f （Ｉ）
（式中、Ｒ f はそれぞれ独立してＣ p Ｆ 2p+1 であり、ここで、ｐは２〜５であり、
ＲはＨまたはＣ 1 〜Ｃ 4 アルキルまたはアリール基であり、
ｍおよびｎは両方とも１以上の整数であり、
Ｚは式：（Ｃ m’ Ｈ 2m’ ）Ｘ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ） 3 の基であり、ここで、ｍ’は０〜４であり、ＸはＯ、ＳまたはＮＨであり、およびＱは−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ 2 ） n’ −または−（ＣＨ 2 ） n’ −であり、；そしてＲ’はＲであるかまたは、ＺがＨであるとき、式−（ＣＨ 2 ） n’ −Ｓｉ（Ｙ） 3 の基であり；ｎ’は１〜２０の整数であり、そしてＹは加水分解性基である）
の１つもしくはそれ以上のシランを含むフルオロケミカル組成物。
［実施形態２］
ｐが４であり、ｍが１〜６であり、そしてｎが１〜６である、実施形態１に記載の組成物。
［実施形態３］
Ｚが−Ｏ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ） 3 であり、ここで、Ｙが独立して−Ｃｌ、またはＣ 1 〜Ｃ 4 アルコキシ基である、実施形態２に記載の組成物。
［実施形態４］
Ｑが−（ＣＨ 2 ） n’ −であり、ここで、ｎ’が１〜１０である、実施形態３に記載の組成物。
［実施形態５］
Ｑが−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ 2 ） n’ −であり、ここで、ｎ’が１〜１０である、実施形態３に記載の組成物。
［実施形態６］
Ｚが水素であり、そしてＲ’が−（ＣＨ 2 ） n’ −Ｓｉ（Ｙ） 3 であり、ここで、Ｙが独立して−Ｃｌ、またはＣ 1 〜Ｃ 4 アルコキシ基である、実施形態２に記載の組成物。
［実施形態７］
Ｒが−ＣＨ 3 または−ＣＨ 2 ＣＨ 3 である、実施形態２に記載の組成物。
［実施形態８］
ｎおよびｍの合計が２であり、ＸがＯであり、そしてＱが−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ 2 ） 3 −である、実施形態２に記載の組成物。
［実施形態９］
式［Ｃ 4 Ｆ 9 ＳＯ 2 Ｎ（ＣＨ 3 ）ＣＨ 2 ］ 2 ＣＨＯＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ） 3 、
［Ｃ 4 Ｆ 9 ＳＯ 2 Ｎ（ＣＨ 3 ）ＣＨ 2 ］ 2 ＣＨＯＣＯＮＨＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ） 3 、および
Ｃ 4 Ｆ 9 ＳＯ 2 Ｎ（ＣＨ 3 ）ＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｎ（ＳＯ 2 Ｃ 4 Ｆ 9 ）ＣＨ 2 ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ） 3
の１つもしくはそれ以上のシランを含む、実施形態１に記載の組成物。
［実施形態１０］
有機溶媒をさらに含む、実施形態１に記載の組成物。
［実施形態１１］
前記溶媒がアルコール、エーテル、ケトンもしくはエステル、またはそれらの混合物である、実施形態１０に記載の組成物。
［実施形態１２］
式：
Ｍ（Ｒ’’） q （Ｙ） r-q （ＩＩ）
（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｖ、Ｓｎ、およびＺｎから選択され、
Ｒ’’は非加水分解性基であり、
Ｙは加水分解性基であり、
ｑは０、１または２であり、そして
ｒは４、３または２である）
の１つもしくはそれ以上の化合物をさらに含む、実施形態１に記載の組成物。
［実施形態１３］
Ｒ’’がＲである、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１４］
Ｙが独立して−Ｃｌ、またはＣ 1 〜Ｃ 4 アルコキシ基である、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１５］
ＭがＳｉであり、Ｒ’’が−ＣＨ 3 または−ＣＨ 2 ＣＨ 3 であり、そしてＹが独立して−Ｃｌ、−ＯＣＨ 3 または−ＯＣＨ 2 ＣＨ 3 である、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１６］
式ＩＩの化合物がテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、またはチタン酸テトラエチルヘキシルである、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１７］
化合物Ｉ対ＩＩの重量比が約１００：０〜約１：９９である、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１８］
化合物Ｉ対ＩＩの重量比が約５０：５０〜約１０：９０である、実施形態１２に記載の組成物。
［実施形態１９］
（ａ）式：
Ｒ f ＳＯ 2 −Ｎ（Ｒ）（Ｃ n Ｈ 2n ）ＣＨＺ（Ｃ m Ｈ 2m ）Ｎ（Ｒ’）ＳＯ 2 Ｒ f （Ｉ）
（式中、Ｒ f はそれぞれ独立してＣ p Ｆ 2p+1 であり、ここで、ｐは２〜５であり、
ＲはＣ 1 〜Ｃ 4 アルキルまたはアリール基であり、
ｍおよびｎは両方とも１以上の整数であり、
ＺはＨまたは式：（Ｃ m’ Ｈ 2m’ ）Ｘ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ） 3 の基であり、ここで、ｍ’は０〜４であり、ＸはＯ、ＳまたはＮＨであり、およびＱは−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ 2 ） n’ −または−（ＣＨ 2 ） n’ −であり、；そしてＲ’はＲであるかまたは、ＺがＨであるとき、式−（ＣＨ 2 ） n’ −Ｓｉ（Ｙ） 3 の基であり；ｎ’は１〜２０の整数であり、そしてＹは加水分解性基である）
の１つもしくはそれ以上のシランと、
（ｂ）式：
Ｍ（Ｒ’’） q （Ｙ） r-q （ＩＩ）
（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｖ、Ｓｎ、およびＺｎから選択され、
Ｒ’’はＲであり、
Ｙは独立して−Ｃｌ、またはＣ 1 〜Ｃ 4 アルコキシ基であり、
ｑは０、１または２であり、そして
ｒは４、３または２である）
の１つもしくはそれ以上の化合物と、
（ｃ）有機溶媒と
を含むフルオロケミカル組成物。
［実施形態２０］
ｐが４である実施形態１９に記載の組成物。
［実施形態２１］
成分（ａ）および（ｂ）の縮合生成物を含む実施形態１９に記載の組成物。
［実施形態２２］
実施形態１０に記載の組成物を基材に塗布する工程を含むケイ質基材の処理方法。
［実施形態２３］
実施形態２２に記載の組成物を基材に塗布する工程を含むケイ質基材の処理方法。
Claims (5)
- 式：
ＲfＳＯ2−Ｎ（Ｒ）（ＣnＨ2n）ＣＨＺ（ＣmＨ2m）Ｎ（Ｒ’）ＳＯ2Ｒf （Ｉ）
（式中、Ｒfはそれぞれ独立してＣpＦ2p+1であり、ここで、ｐは２〜５であり、
ＲはＣ1〜Ｃ4アルキルまたはアリール基であり、
ｍおよびｎは両方とも１以上の整数であり、
ＺはＨまたは式：（Ｃm’Ｈ2m’）Ｘ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ）3の基であり、ここで、ｍ’は０〜４であり、ＸはＯ、ＳまたはＮＨであり、およびＱは−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ2）n’−または−（ＣＨ2）n’−であり、；そしてＲ’はＲであるかまたは、ＺがＨであるとき、式−（ＣＨ2）n’−Ｓｉ（Ｙ）3の基であり；ｎ’は１〜２０の整数であり、そしてＹは加水分解性基である）
の１つもしくはそれ以上のシランを含むフルオロケミカル組成物。 - 以下のいずれか一つであることを特徴とする、
ａ）Ｚが−Ｏ−Ｑ−Ｓｉ（Ｙ）3であり、ここで、Ｙが独立して−Ｃｌ、またはＣ1〜Ｃ4アルコキシ基であるか、
ｂ）Ｚが水素であり、そしてＲ’が−（ＣＨ 2 ） n’ −Ｓｉ（Ｙ） 3 であり、ここで、Ｙが独立して−Ｃｌ、またはＣ 1 〜Ｃ 4 アルコキシ基であるか、
ｃ）Ｒが−ＣＨ 3 または−ＣＨ 2 ＣＨ 3 であるか、
ｄ）ｎおよびｍの合計が２であり、ＸがＯであり、そしてＱが−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ2）3−であるか、あるいは
ｅ）ｐが４であり、ｍが１〜６であり、また、ｎが１〜６である、
請求項１に記載のフルオロケミカル組成物。 - 式：
Ｍ（Ｒ’’）q（Ｙ）r-q （ＩＩ）
（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｖ、Ｓｎ、およびＺｎから選択され、
Ｒ’’は非加水分解性基であり、
Ｙは加水分解性基であり、
ｑは０、１または２であり、そして
ｒは４、３または２である）
の１つもしくはそれ以上の化合物をさらに含む、請求項１に記載の組成物。 - さらに、有機溶媒を含む、請求項１〜３のいずれかに記載のフルオロケミカル組成物。
- 請求項４に記載のフルオロケミカル組成物を基材に塗布する工程を含むケイ質基材の処理方法。
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