JP2008526024A - プラズマ処理装置用のシリコン電極及び炭化珪素電極の表面から黒色シリコン及び黒色炭化珪素を除去する方法 - Google Patents
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- H01J37/32862—In situ cleaning of vessels and/or internal parts
Abstract
【選択図】図1
Description
異なる位置でそれぞれの下面に電気的かつ熱的に結合されている(100)シリコンの試験片を持った4つのシリコン上部電極が、ウエハのプラズマエッチングに使用された。電極及び試験片の下面には、黒色シリコン形成物が存在していた。それから、使用された電極は、平行平板プラズマ処理チャンバ中でプラズマ洗浄された。プラズマ洗浄中に、基板支持体の上にダミーウエハが載置された。
実施例2では、異なる位置でそれぞれの下面に電気的かつ熱的に結合されている(100)シリコンの試験片を持った5つのシリコン上部電極が、ウエハのプラズマエッチングに使用された。電極及び試験片の下面には、黒色シリコンが存在していた。それから、使用された電極は、平行平板プラズマ処理チャンバでプラズマ洗浄された。洗浄プロセス中に基板支持体にダミーウエハが載置された。
実施例3では、電極から黒色シリコンを除去する効率に及ぼす洗浄ガスのフッ素濃度の影響を確認するために、4つのシリコン上部電極が、ウエハのプラズマエッチングに使用され、次に平行平板プラズマ処理チャンバでプラズマ洗浄された。各電極には、異なる位置の下面に電気的かつ熱的に結合された(100)シリコンの試験片があった。電極及び試験片の下面には、黒色シリコンが形成していた。洗浄プロセス中に基板支持体にダミーウエハが載置された。
実施例4では、ウエハのプラズマエッチングに使用された3つの異なるシリコン上部電極は、上部電極温度が異なることを除いて同じプロセス条件を使用して平行平板プラズマ処理チャンバでプラズマ洗浄された。各電極について、(100)シリコンの試験片は、異なる位置で下面に電気的かつ熱的に結合された。電極及び試験片の下面には、黒色シリコン形成物が存在した。
実施例5では、各々低kシリコン酸化物層を含む100枚のウエハが、シリコン上部電極を使用する平行平板プラズマ処理チャンバで、エッチングステップにかけられた。100枚のウエハが処理された後で、シリコン上部電極は、次のプロセス条件を使用して洗浄された。すなわち、600mTのチャンバ圧力、2500ワット及び27MHzという下部電極の第1の電力レベル及び第1の周波数、1000ワット及び2MHzという下部電極の第2の電力レベル及び第2の周波数、200sccmのCF4流量、400sccmのO2流量、15分の洗浄時間。図5に示されるように、開始時、25、50、75及び100枚のウエハがそれぞれエッチングされた後、及び100枚のウエハ全てのエッチングに続く上部電極の洗浄の後で、シリコン酸化物エッチング速度及びエッチング速度%均一性(3シグマ)が求められた。試験結果は、本明細書で説明された方法の実施形態に従って上部電極を洗浄することによって、上部電極下面の状態とシリコン酸化物のエッチング速度の両方が回復されうることを実証している。
実施例6では、約500nmの平均特徴長さを有する黒色シリコンを含む第1のシリコン上部電極が、次のプロセス条件を使用してプラズマ洗浄された。すなわち、200mTのチャンバ圧力、2500ワット及び27MHzという下部電極の第1の電力レベル及び第1の周波数、1000ワット及び2MHzという下部電極の第2の電力レベル及び第2の周波数、200sccmのCF4流量、400sccmのO2流量、20℃の電極温度、30秒の洗浄時間。洗浄後の黒色シリコン平均特徴長さは、約460nmであった。約430nmの平均特徴長さを有する黒色シリコンを含む第2のシリコン上部電極は、次のプロセス条件を使用してプラズマ洗浄された。すなわち、200mTのチャンバ圧力、2500ワット及び27MHzという下部電極の第1の電力レベル及び第1の周波数、1000ワット及び2MHzという下部電極の第2の電力レベル及び第2の周波数、200sccmのNF3流量、400sccmのO2流量、30秒の洗浄時間。洗浄後の平均特徴長さは、約360nmであった。これらの試験結果は、CF4/O2及びNF3/O2ガス混合物は、両方とも黒色シリコンを除去するのに効果的であり、NF3/O2ガス混合物の方がいっそう効果的であることを実証している。
Claims (20)
- プラズマ処理チャンバの使用された電極の表面から黒色シリコン又は黒色炭化珪素を除去する方法であって、
前記方法は、下部電極及び上部電極を含むプラズマ処理チャンバにフッ素含有ガス組成物を供給する手順を含み、前記上部電極は、(i)シリコンから成り、表面に黒色シリコンを有するプラズマに曝された表面を含むか、又は、(ii)炭化珪素から成り、表面に黒色炭化珪素を有するプラズマに曝された表面を含み、
前記方法は、前記ガス組成物を励起してプラズマを生成する手順を含み、かつ、
前記方法は、前記上部電極の前記プラズマに曝された表面から前記黒色シリコン又は黒色炭化珪素の少なくとも一部をエッチングする手順を含むことを特徴とする方法。 - 前記上部電極が、それぞれが単結晶シリコン、多結晶シリコン又は非晶質シリコンから成る、シャワーヘッド電極及びセグメント化された外部電極リングを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記フッ素含有ガスが、CF4、CHF3、CH2F2、CH3F、C2F6、C2H2F4、C2F4、C3F6、C3F8、C4F6、C4F8、C5F8、NF3又はこれらの混合物から成るグループから選ばれることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記ガス組成物が、実質的にCF4及びO2、又は、NF3及びO2から成ることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記ガス組成物が実質的にCF4及びO2から成り、O2の流量に対するCF4の流量の比が約1:10から約5:1であり、又は、
前記ガス組成物が実質的にNF3及びO2から成り、O2の流量に対するNF3の流量の比が約1:10から約5:1であることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - O2の流量に対するCF4の流量の前記比、又は、O2の流量に対するNF3の流量の前記比が、約1:5から約2:1であることを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記ガス組成物の全流量が、約250sccmから約2000sccmであり、前記プラズマ処理チャンバが、約20ミリトルから約1000ミリトルの圧力であることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記上部電極を接地しながら前記下部電極に2つの異なるレベルの電力を2つの異なる周波数で供給することによって、前記ガス組成物が励起されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記上部電極の前記プラズマに曝された表面が、等方性エッチングされることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記上部電極の温度は、前記エッチング中に約50℃から約200℃であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 低k誘電体層を含む複数の半導体基板を前記プラズマ処理チャンバでプラズマエッチングする手順をさらに含み、前記低k誘電体層のプラズマエッチング中に、前記上部電極の前記プラズマに曝された表面に、前記黒色シリコン又は黒色炭化珪素が形成されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記エッチングが、前記上部電極の前記プラズマに曝された表面から約50nmから約500nmの深さを除去することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記プラズマ処理チャンバ中の前記上部電極に加えて、シリコン部品から黒色シリコンをエッチングし、又は、炭化珪素部品から黒色炭化珪素を除去する手順をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 容量結合プラズマ処理チャンバの使用された電極の表面から黒色シリコンを除去する方法であって、
前記方法は、CF4及びO2、又は、NF3及びO2を含むガス組成物を、約1:10から約5:1の、(i)O2の流量に対するCF4の流量の比、又は、(ii)O2の流量に対するNF3の流量の比で、プラズマ処理チャンバに供給する手順を含み、前記プラズマ処理チャンバは、下部電極と表面に黒色シリコンの付いたプラズマに曝された表面を有するシリコンから成る上部電極とを含み、
前記方法は、前記ガス組成物を励起してプラズマを生成する手順を含み、かつ、
前記方法は、前記上部電極の前記プラズマに曝された表面から前記黒色シリコンの少なくとも一部を等方性エッチングする手順を含むことを特徴とする方法。 - 前記上部電極の前記プラズマに曝された表面から約50nmから約500nmの深さを除去する手順を含むことを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 前記上部電極が、それぞれが単結晶シリコン、多結晶シリコン又は非晶質シリコンから成る、シャワーヘッド電極及び外部電極リングを含むことを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 前記上部電極の温度は、前記エッチング中に約50℃から約200℃であることを特徴とする請求項14に記載の方法。
- O2の流量に対するCF4の流量の前記比、又は、O2の流量に対するNF3の流量の前記比が、約1:5から約2:1であることを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 前記ガス組成物の全流量が、約250sccmから約2000sccmであり、前記プラズマ処理チャンバが、約20ミリトルから約1000ミリトルの圧力であることを特徴とする請求項18に記載の方法。
- 前記上部電極を接地しながら前記下部電極に2つの異なるレベルの電力を2つの異なる周波数で供給することによって、前記ガス組成物が励起されることを特徴とする請求項14に記載の方法。
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