JP2008311327A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5086714B2 (ja) * 2007-07-13 2012-11-28 Hoya株式会社 マスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法
JP2011013321A (ja) * 2009-06-30 2011-01-20 Hoya Corp フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び塗布装置
JP6659422B2 (ja) * 2016-03-29 2020-03-04 アルバック成膜株式会社 塗布装置、マスクブランクの製造方法
CN114082602A (zh) * 2021-11-30 2022-02-25 Tcl华星光电技术有限公司 涂胶机构以及涂胶装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4445985A1 (de) * 1994-12-22 1996-06-27 Steag Micro Tech Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Belackung oder Beschichtung eines Substrats
JP2000343015A (ja) * 1999-06-08 2000-12-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP3252325B2 (ja) * 1999-10-29 2002-02-04 株式会社ヒラノテクシード 塗工方法及び塗工装置
JP3808741B2 (ja) * 2001-10-01 2006-08-16 東京エレクトロン株式会社 処理装置
JP2005051220A (ja) * 2003-07-17 2005-02-24 Hoya Corp レジスト膜付基板の製造方法
KR20070017228A (ko) * 2003-07-17 2007-02-08 호야 가부시키가이샤 레지스트막 부착 기판의 제조방법
JP2005246274A (ja) * 2004-03-05 2005-09-15 Nidek Co Ltd 塗工方法及び塗工装置
JP4169719B2 (ja) * 2004-03-30 2008-10-22 Hoya株式会社 レジスト膜付基板の製造方法
JP4410063B2 (ja) * 2004-09-06 2010-02-03 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP4673157B2 (ja) * 2004-10-01 2011-04-20 株式会社ヒラノテクシード 塗工装置
JP2006269599A (ja) * 2005-03-23 2006-10-05 Sony Corp パターン形成方法、有機電界効果型トランジスタの製造方法、及び、フレキシブルプリント回路板の製造方法

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