JP2008294392A - 半導体素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体素子は、隣接したストレージノード236の電圧によってリセスゲート226のしきい電圧が低くなる現象を防止するための半導体素子であり、ゲート領域及びストレージノードコンタクト領域232を含み、前記ゲート領域がリセスされた活性領域を有する半導体基板200と、半導体基板200内に形成されて活性領域を定義して、グラウンド電圧(0V)が印加された遮蔽膜214を内部に具備した素子分離膜218と、半導体基板200のゲート領域に形成されたリセスゲート226と、前記活性領域のストレージノードコンタクト領域232と連結されるように形成されたストレージノード236とを含む。
【選択図】図2
Description
前記ポリシリコン膜は、N型ポリシリコン膜である。
前記遮蔽膜は、素子分離膜厚さの1/4〜1/2の厚さを有する。
前記遮蔽膜は、外部からグラウンド電圧(0V)が印加される。
前記ポリシリコン膜は、N型ポリシリコン膜で形成する。
前記遮蔽膜は、素子分離膜厚さの1/4〜1/2の厚さを有するように形成する。
前記遮蔽膜は、外部からグラウンド電圧(0V)が印加される。
208,308 流れ性が優秀な膜
210,310 段差被覆性が優秀な膜
212,312 第1絶縁膜
214,314 遮蔽膜
216,316 第2絶縁膜
218,318 素子分離膜
220,320 ゲート絶縁膜
222,322 ゲート導電膜
224,324 ハードマスク
336,326 リセスゲート
228,328 接合領域
230,330 第1層間絶縁膜
232,332 ストレージノードコンタクト
234,334 第2層間絶縁膜
236,336 ストレージノード
302 パッド酸化膜
304 パッド窒化膜
306 ハードマスク
T トレンチ
H 溝
Claims (21)
- 隣接したストレージノードの電圧によってリセスゲートのしきい電圧が低くなる現象を防止するための半導体素子であり、
ゲート領域及びストレージノードコンタクト領域を含み、前記ゲート領域がリセスされた活性領域を有する半導体基板と、
前記半導体基板内に形成されて活性領域を定義して、内部に遮蔽膜を具備した素子分離膜と、
前記半導体基板のゲート領域に形成されたリセスゲートと、
前記活性領域のストレージノードコンタクト領域と連結されるように形成されたストレージノードと、
を含むことを特徴とする半導体素子。 - 前記素子分離膜は、
前記半導体基板の素子分離領域に形成されたトレンチと、
前記トレンチの底面及び側壁に形成された第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜上に形成された前記遮蔽膜と、
前記遮蔽膜上に前記トレンチを埋め立てるように形成された第2絶縁膜と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。 - 前記第1絶縁膜は、前記トレンチの底面に形成されることを特徴とする請求項2に記載の半導体素子。
- 前記第1絶縁膜は、SOD(Spin-On Dielectric)膜またはSOG(Spin-On Glass)膜を含む流れ性が優秀な膜と、前記トレンチの側壁に形成されて、HDP(High Density Plasma)膜またはALD(Atomic Layer Deposition)膜を含む段差被覆性(Step
Coverage)が優秀な膜とで構成されることを特徴とする請求項2に記載の半導体素子。 - 前記遮蔽膜は、ポリシリコン膜を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 前記ポリシリコン膜は、N型ポリシリコン膜であることを特徴とする請求項5に記載の半導体素子。
- 前記遮蔽膜は、前記素子分離膜の1/4〜3/4の深さに位置することを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 前記遮蔽膜は、前記素子分離膜厚さの1/4〜1/2の厚さを有することを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 前記遮蔽膜は、前記半導体基板の素子分離領域全体で互いに連結されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 前記遮蔽膜は、外部からグラウンド電圧(0V)が印加されることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 隣接したストレージノードの電圧によってリセスゲートのしきい電圧が低くなる現象を防止するための半導体素子の製造方法であり、
ゲート領域及びストレージノードコンタクト領域を含む活性領域と素子分離領域とを有する半導体基板の前記素子分離領域の内部に、遮蔽膜を具備した素子分離膜を形成する工程と、
前記ゲート領域にリセスゲートを形成する工程と、
前記活性領域にストレージノードコンタクト領域と連結されるようにストレージノードを形成する工程と、
を含むことを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 前記素子分離膜を形成する工程は、
半導体基板の前記素子分離領域を蝕刻してトレンチを形成する工程と、
前記トレンチの底面及び側面に第1絶縁膜を形成する工程と、
前記第1絶縁膜上に前記遮蔽膜を形成する工程と、
前記遮蔽膜及び第1絶縁膜上に前記トレンチを埋め立てるように第2絶縁膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする請求項11に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記第1絶縁膜を形成する工程は、
前記トレンチの底面に、SOD方式またはSOG方式で流れ性が優秀な膜を形成する工程と、
前記流れ性が優秀な膜及び前記トレンチの側壁上に、HDP方式またはALD方式で段差被覆性が優秀な膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする請求項12に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記段差被覆性が優秀な膜を形成する工程後、前記段差被覆性が優秀な膜を蝕刻して前記トレンチ底面の流れ性が優秀な膜を露出させる工程、をさらに含むことを特徴とする請求項13に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記遮蔽膜を形成する工程は、
前記第1絶縁膜上に遮蔽膜を蒸着する工程と、
前記遮蔽膜が前記トレンチを完全に埋め立てない厚さを有するように前記遮蔽膜を蝕刻する工程と、
を含むことを特徴とする請求項12に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記遮蔽膜は、ポリシリコン膜で形成することを特徴とする請求項11に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記ポリシリコン膜は、N型ポリシリコン膜で形成することを特徴とする請求項16に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記遮蔽膜は、前記素子分離膜の1/4〜3/4の深さに位置することを特徴とする請求項11に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記遮蔽膜は、素子分離膜厚さの1/4〜1/2の厚さを有するように形成することを特徴とする請求項11に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記遮蔽膜は、前記半導体基板の素子分離領域全体で互いに連結されるように形成することを特徴とする請求項11に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記遮蔽膜は、外部からグラウンド電圧(0V)が印加されることを特徴とする請求項11に記載の半導体素子の製造方法。
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