JP2008282988A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】増幅回路16を構成する増幅器1において、帰還抵抗Rfは、n型のエピタキシャル層3上にシリコン酸化膜5を介して形成されたポリシリコン抵抗6と、ポリシリコン抵抗6の下部に対応する位置に形成されたp型の不純物拡散領域7とを有する。
【選択図】図3
Description
2 シリコン基板
3 エピタキシャル層
4 素子分離層
5 シリコン酸化膜
6 ポリシリコン抵抗
7 不純物拡散領域
11 Y/C分離回路
12 輪郭強調回路
13 色復調回路
14 遅延回路
15 マトリクス回路
16 増幅回路
17 CRT回路
Y 輝度信号
C 色信号
R−Y 色差信号
B−Y 色差信号
Rf 帰還抵抗
Rin 入力抵抗
− 非反転入力端子
+ 反転入力端子
out 出力端子
Claims (4)
- 第1導電型の半導体層と、
前記半導体層上に絶縁膜を介して形成されたポリシリコン抵抗と、
前記半導体層の主表面であって前記ポリシリコン抵抗の下部に形成された第2導電型の不純物拡散領域と、を有することを特徴とする半導体装置。 - 前記ポリシリコン抵抗は、
入力端子からの信号を増幅して出力端子に出力する増幅器において、前記入力端子と前記出力端子とを接続する帰還抵抗に用いることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記ポリシリコン抵抗は、バイポーラ回路と電気的に接続され、
前記半導体層は、前記ポリシリコン抵抗が形成される領域と、前記バイポーラ回路が形成される領域とが電気的に分離されており、
前記不純物拡散領域は、前記ポリシリコン抵抗が形成される領域にのみ形成されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。 - 前記ポリシリコン抵抗が形成される領域と、前記バイポーラ回路が形成される領域とは、pn接合又は誘電体により電気的に分離されていることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
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JP2007125789A JP2008282988A (ja) | 2007-05-10 | 2007-05-10 | 半導体装置 |
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JP2007125789A JP2008282988A (ja) | 2007-05-10 | 2007-05-10 | 半導体装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2012132207A1 (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置、半導体装置の製造方法及びsoi基板 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05121664A (ja) * | 1991-10-25 | 1993-05-18 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP2001127167A (ja) * | 1999-10-28 | 2001-05-11 | Mitsumi Electric Co Ltd | 半導体装置 |
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2007
- 2007-05-10 JP JP2007125789A patent/JP2008282988A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05121664A (ja) * | 1991-10-25 | 1993-05-18 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP2001127167A (ja) * | 1999-10-28 | 2001-05-11 | Mitsumi Electric Co Ltd | 半導体装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012132207A1 (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置、半導体装置の製造方法及びsoi基板 |
JPWO2012132207A1 (ja) * | 2011-03-25 | 2014-07-24 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置、半導体装置の製造方法及びsoi基板 |
JP5665970B2 (ja) * | 2011-03-25 | 2015-02-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置、及び半導体装置の製造方法 |
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