JP2008218514A - 磁気ランダムアクセスメモリ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気ランダムアクセスメモリは、側面と上面とを有する段差部が形成された半導体基板11と、段差部の側面上にゲート絶縁膜20を介して形成されたゲート電極Gと、段差部の上面内に形成されたドレイン拡散層24と、ドレイン拡散層より下方の半導体基板内にドレイン拡散層と離間して形成されたソース拡散層18と、ドレイン拡散層に接続され、磁化方向が固定された固定層31と磁化方向が反転可能な記録層33と固定層及び記録層の間に設けられた非磁性層32とを有し、固定層及び記録層の間に流す電流の向きに応じて固定層及び記録層の磁化方向が平行状態又は反平行状態となる磁気抵抗効果素子MTJと、磁気抵抗効果素子に接続されたビット線BLを具備する。
【選択図】 図1
Description
[1−1]構造
第1の実施形態は、縦型トランジスタの上下に配置されたビット線とソース線(ソース拡散層)とが同一方向に延在する例である。
本発明の一実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリでは、スピン注入磁化反転を用いたデータ書き込みを行う。
第1の実施形態の読み出し動作では、磁気抵抗(Magneto Resistive)効果を利用する。
上記第1の実施形態によれば、半導体基板11に凸部13を形成し、凸部13の上面にドレイン拡散層24を形成し、凸部13の根元にソース拡散層18を形成する。これにより、凸部13をチャネル領域とする縦型トランジスタTrが形成されている。ここで、本実施形態では、従来のようなソースメタル配線は形成せずに、半導体基板11内にソース拡散層18を形成している。そして、このソース拡散層18の上方にビット線BLを形成し、このビット線BLをソース拡散層18と同方向に延在させている。従って、ビット線BLとソース線SL(ソース拡散層18)を平行に重ねて形成することができる。このため、従来のように、ビット線、ソース線、これらにつながるコンタクトをずらして配置する必要がなくなり、セル面積の縮小が可能となり、4F2(F:最小加工寸法)+αのセル面積を実現できる。
第2の実施形態は、第1の実施形態におけるビット線BLの延在方向とワード線WLの延在方向とを反対にした例である。尚、第2の実施形態では、第1の実施形態と同様の点については説明を省略する。
図3(a)は、本発明の第2の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリの平面図を示す。図3(b)は、図3(a)のIIIB−IIIB線に沿った断面図を示す。図4(a)乃至(c)は、図3(a)のソース線、ビット線、ワード線の延在方向を斜線で示した平面図である。以下に、第2の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリの構造について説明する。
上記第2の実施形態によれば、第1の実施形態と同様、縦型トランジスタTrが形成されている。ここで、本実施形態では、ワード線WLとソース線SL(ソース拡散層18)を平行に重ねて形成することができる。このため、ソース拡散層及びドレイン拡散層に接続するコンタクト2個分とゲート配線を平面に並べる必要が無いため、従来の平面型トランジスタと比べてセル面積を縮小することができる。
第3の実施形態は、第1の実施形態のゲート電極及びワード線の変形例である。尚、第3の実施形態では、第1の実施形態と同様の点については説明を省略する。
図5(a)は、本発明の第1の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリの平面図を示す。図5(b)は、図5(a)のVB−VB線に沿った断面図を示す。以下に、第5の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリの構造について説明する。
図6(a)及び(b)から図25は、本発明の第3の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリの製造工程図を示す。尚、図6(a)及び(b)から図20(a)及び(b)では、各図(a)は平面図を示し、各図(b)は断面図を示す。図21から図25は断面図のみを示す。以下に、第3の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリの製造方法について説明する。
上記第3の実施形態によれば、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、第3の実施形態では、X方向の隣接セルのゲート電極Gを接触させ、X方向に延在するワード線WLとして機能している。このため、ゲート電極Gとワード線WLを別個に形成するよりも、プロセスが容易となり、さらに、X方向のセル面積をさらに縮小することができる。
第4の実施形態は、第1の実施形態のMTJ素子上のコンタクトを小さくした例である。本実施形態は、第2及び第3の実施形態のMTJ素子上のコンタクトを小さくすることも勿論可能である。尚、第4の実施形態では、第1の実施形態と同様の点については説明を省略する。
図26は、本発明の第4の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリの断面図を示す。以下に、第4の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリの構造について説明する。
(b)Ta
(c)Tiを含む化合物(例えば、TiN、TiW、TiSiN、TiSix、TiB2、TiB、TiC)
(d)Taを含む化合物(例えば、TaB2、TaB、TaC、TaN、Ta4N5、Ta5N6、Ta2N)
(e)Zrを含む化合物(例えば、ZrB2、ZrB、ZrC、ZrN)
(f)Hfを含む化合物(例えば、HfB、HfC、HfN)
(g)Vを含む化合物(例えば、VB2、VB、VC、VN)
(h)Nbを含む化合物(例えば、NbB2、NbB、NbC、NbN)
(i)Crを含む化合物(例えば、CrB2、CrB、Cr2B、Cr3C2、Cr2N、CrN)
(j)Moを含む化合物(例えば、Mo2B3、MoB2、MoB、Mo2B、MoxCy、Mo2C、MoN)
(k)Wを含む化合物(例えば、WxBy、W2B5、WxCy、WC、W2C、WxNy、WN)
キャップ層40は、プロセスの容易性からMTJ素子MTJと同一の平面形状が望ましいが、異なる平面形状でもよい。キャップ層40の上面(コンタクト34側の面)の面積は、コンタクト34の底面(キャップ層40側の面)の面積よりも大きいことが望ましい。
上記第4の実施形態によれば、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、第4の実施形態では、MTJ素子MTJ上のコンタクト34を細くすることで、このコンタクト34の記録層33に接触する面積を記録層33の面積よりも小さくしている。このため、書き込み動作時に、コンタクト34とMTJ素子MTJとの局所的な接触部分から磁化反転が生じ、磁壁移動効果により磁化反転が伝播することで、素子全体の磁化が反転する。このため、書き込み動作時、小コンタクトの効果により、書き込み電流を低減することができる。さらに、記録層33よりも高抵抗のキャップ層40を設けることで、電流拡散による効果の減少を防ぐことができる。
[5−1]構造
第5の実施形態は、凹部の側面を利用して縦型トランジスタを形成する例である。
図28(a)及び(b)から図49(a)及び(b)は、本発明の第5の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリの製造工程図を示す。尚、各図(a)は平面図を示し、各図(b)は断面図を示す。以下に、第5の実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリの製造方法について説明する。
上記第5の実施形態によれば、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、第5の実施形態では、トレンチ54の側面を利用して縦型トランジスタTrを形成し、トレンチ56内にソース線SLを形成している。このため、凸部を利用して縦型トランジスタを形成した場合と比べて、溝内以外の段差上のリソグラフィー、加工もしくは、その段差の高さが低減でき、加工が容易になる。
第6の実施形態では、各実施形態で用いられるMTJ素子について説明する。
MTJ素子MTJの固定層31及び記録層33の磁化方向は、膜面に対して垂直方向を向いていてもよいし(垂直磁化型)、膜面に対して平行方向に向いていてもよい(平行磁化型)。
MTJ素子MTJは、例えば以下のような材料からなる。
「Fe(鉄)、Co(コバルト)、Ni(ニッケル)のうちの少なくとも1つと、Cr(クロム)、Pt(白金)、Pd(パラジウム)のうちの少なくとも1つとを含む合金からなるもの」
例えば、規則合金としては、Fe(50)Pt(50)、Fe(50)Pd(50)、Co(50)Pt(50)などがある。例えば、不規則合金としては、CoCr合金、CoPt合金、CoCrPt合金、CoCrPtTa合金、CoCrNb合金などがある。
「Fe、Co、Niのうちの少なくとも1つ又はこれらのうちの1つを含む合金と、Pd、Ptのうちの1つ又はこれらのうちの1つを含む合金とが、交互に積層された構造を持つもの」
例えば、Co/Pt人工格子、Co/Pd人工格子、CoCr/Pt人工格子などがある。Co/Pt人工格子を使用した場合及びCo/Pd人工格子を使用した場合においては、抵抗変化率(MR比)は、約40%、という大きな値を実現できる。
「希土類金属のうちの少なくとも1つ、例えば、Tb(テルビウム)、Dy(ジスプロシウム)、又は、Gd(ガドリニウム)と、遷移金属のうちの少なくとも1つとからなるアモルファス合金」
例えば、TbFe、TbCo、TbFeCo、DyTbFeCo、GdTbCoなどがある。
「Fe、Co、Niのうちの少なくとも1つと、Cr、Pt、Pdのうちの少なくとも1つとを含む合金に、不純物を添加したもの」
例えば、規則合金としては、Fe(50)Pt(50)、Fe(50)Pd(50)、又は、Co(50)Pt(50)に、Cu、Cr、Agなどの不純物を加えて磁気異方性エネルギー密度を低下させたものなどがある。例えば、不規則合金としては、CoCr合金、CoPt合金、CoCrPt合金、CoCrPtTa合金、又は、CoCrNb合金について、非磁性元素の割合を増加させて磁気異方性エネルギー密度を低下させたものなどがある。
「Fe、Co、Niのうちの少なくとも1つ又はこれらのうちの1つを含む合金と、Pd、Ptのうちの1つ又はこれらのうちの1つを含む合金とが、交互に積層された構造を持つものであって、前者の元素若しくは合金からなる層の厚さ、又は、後者の元素若しくは合金からなる層の厚さを調整したもの」
Fe、Co、Niのうちの少なくとも1つ又はこれらのうちの1つを含む合金についての厚さの最適値と、Pd、Ptのうちの1つ又はこれらのうちの1つを含む合金についての厚さの最適値とが存在し、厚さがこれら最適値から離れるに従い、磁気異方性エネルギー密度は、次第に低下する。
「希土類金属のうちの少なくとも1つ、例えば、Tb(テルビウム)、Dy(ジスプロシウム)、又は、Gd(ガドリニウム)と、遷移金属のうちの少なくとも1つとからなるアモルファス合金の組成比を調整したもの」
例えば、TbFe、TbCo、TbFeCo、DyTbFeCo、GdTbCoなどのアモルファス合金の組成比を調整し、磁気異方性エネルギー密度を小さくしたものがある。
上記各実施形態では、MTJ素子MTJの平面形状を円にしていたが、これに限定されない。MTJ素子MTJの平面形状は、例えば、長方形、正方形、楕円、六角形、菱型、平行四辺形、十字型、ビーンズ型(凹型)等、種々に変更することが可能である。
MTJ素子MTJは、1重トンネル接合(シングルジャンクション)構造でもよいし、2重トンネル接合(ダブルジャンクション)構造でもよい。
Claims (5)
- 側面と上面とを有する段差部が形成された半導体基板と、
前記段差部の前記側面上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
前記段差部の前記上面内に形成されたドレイン拡散層と、
前記ドレイン拡散層より下方の前記半導体基板内に前記ドレイン拡散層と離間して形成されたソース拡散層と、
前記ドレイン拡散層に接続され、磁化方向が固定された固定層と磁化方向が反転可能な記録層と前記固定層及び前記記録層の間に設けられた非磁性層とを有し、前記固定層及び前記記録層の間に流す電流の向きに応じて前記固定層及び前記記録層の前記磁化方向が平行状態又は反平行状態となる磁気抵抗効果素子と、
前記磁気抵抗効果素子に接続されたビット線と
を具備することを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ。 - 前記段差部は、基板面から突出する凸部であり、
前記ソース拡散層は、前記凸部の根元の前記半導体基板内に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気ランダムアクセスメモリ。 - 前記段差部は、基板面に対して窪む凹部であり、
前記凹部の底に形成され、前記ソース拡散層に接続されたソース線をさらに具備することを特徴とする請求項1に記載の磁気ランダムアクセスメモリ。 - 半導体基板上に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜をマスクとして前記半導体基板の一部を除去し、凸部を形成する工程と、
前記凸部の根元の前記半導体基板内にソース拡散層を形成する工程と、
前記凸部の側面上にゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記凸部の前記側面上に前記ゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成する工程と、
前記絶縁膜を除去し、前記凸部の上面を露出する工程と、
前記凸部の前記上面内にドレイン拡散層を形成する工程と、
前記ドレイン拡散層に接続し、磁化方向が固定された固定層と磁化方向が反転可能な記録層と前記固定層及び前記記録層の間に設けられた非磁性層とを有し、前記固定層及び前記記録層の間に流す電流の向きに応じて前記固定層及び前記記録層の前記磁化方向が平行状態又は反平行状態となる磁気抵抗効果素子を形成する工程と、
前記磁気抵抗効果素子に接続するビット線を形成する工程と
を具備することを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリの製造方法。 - 半導体基板内にトレンチを形成する工程と、
前記トレンチ内の下部にソース線を形成する工程と、
前記トレンチの側面に前記ソース線に接続するソース拡散層を形成し、前記半導体基板の表面にドレイン拡散層を形成する工程と、
前記トレンチの上部の側面にゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成する工程と、
前記ドレイン拡散層に接続し、磁化方向が固定された固定層と磁化方向が反転可能な記録層と前記固定層及び前記記録層の間に設けられた非磁性層とを有し、前記固定層及び前記記録層の間に流す電流の向きに応じて前記固定層及び前記記録層の前記磁化方向が平行状態又は反平行状態となる磁気抵抗効果素子を形成する工程と、
前記磁気抵抗効果素子に接続するビット線を形成する工程と
を具備することを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリの製造方法。
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