JP2008131455A - 発振回路 - Google Patents

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Abstract

【課題】寄生容量のために発振波形が接地線側または電源線側に引き込まれることを抑制し、発振出力端子からはフル振幅の正常な発振波形が出力される発振回路を提供する。
【解決手段】圧電振動子Xの両端子が増幅器Aの入出力端子に接続され、増幅器Aの出力端子から発振波形が出力される発振回路において、増幅器Aの入力側に、P型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型のESD保護回路B1が接続されている。増幅器Aの入力側のESD保護回路B1がP型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型であるため、発振状態で増幅器Aの入力側で接地線側または電源線側に流れる電流はジャンクションリークのみで、発振波形が引き込まれるほどには電流は流れず、増幅器Aの入力側でも出力側でも発振波形はフル振幅波形を得ることが可能で、高周波で発振させるときでも、発振出力端子OUTからフル振幅波形を出力させることが可能となる。
【選択図】図1

Description

本発明は、圧電振動子の両端子が増幅器の入出力端子に接続され、前記増幅器の出力端子から発振波形が出力される発振回路にかかわり、特には、ESD(Electro Static Discharge)に対する保護、つまり静電気放電に起因するサージ電圧から回路を保護する技術に関する。
図6は、従来の技術における増幅器と圧電振動子を含む発振回路の回路構成を示す。ボンディングパッドT1,T2の両端間に対して、LSIの外部でセラミック発振子、水晶発振子などの圧電振動子Xが接続され、それぞれの接続点と低電位側電源VSS(GND)との間に発振用容量素子C1,C2が介挿されている。LSIの内部において、ボンディングパッドT1に増幅器Aの入力端子が接続され、増幅器Aの出力端子がボンディングパッドT2に接続されている。そして、増幅器Aの両端間にバイアス用帰還抵抗Rfが接続されている。増幅器Aは、その代表例としてインバータ(反転増幅器)で示している。増幅器Aの出力端子に波形整形回路1を介して発振出力端子OUTが接続されている。さらに、増幅器Aの入力端子とボンディングパッドT1との間に入力側のESD保護回路B1′が挿入され、増幅器Aの出力端子とボンディングパッドT2との間に出力側のESD保護回路B2が挿入されている。入力側のESD保護回路B1′は、MOS型の対電源ESD保護素子G1とMOS型の対接地ESD保護素子G2で構成されている。また、出力側のESD保護回路B2は、MOS型の対電源ESD保護素子E1とMOS型の対接地ESD保護素子E2で構成されている。上側に位置するMOS型の対電源ESD保護素子G1,E1は、Pチャンネル型MOSトランジスタで構成され、それぞれのゲートが抵抗を介してソースと電源線に接続されている。そして、一方のトランジスタのドレインは増幅器Aの入力端子であるノードN1に接続され、他方のトランジスタのドレインは増幅器Aの出力端子であるノードN2に接続されている。また、下側に位置するMOS型の対接地ESD保護素子G2,E2は、Nチャンネル型MOSトランジスタで構成され、それぞれのゲートが抵抗を介してソースと接地線に接続されている。そして、一方のトランジスタのドレインは増幅器Aの入力端子であるノードN1に接続され、他方のトランジスタのドレインは増幅器Aの出力端子であるノードN2に接続されている。
上記のように構成された発振回路において、ボンディングパッドT1とボンディングパッドT2の間の圧電振動子Xを動作させて、発振波形を増幅器Aに入力する。バイアス用帰還抵抗Rfは、インバータを反転増幅器として活性領域で動作させる。そして、増幅器Aを用いて圧電振動子Xに正帰還をかける。発振用容量素子C1,C2は、圧電振動子Xの誘導性との協働で位相反転を行う。以上のようにして、振幅を次第に増大させ、ある一定期間後、振幅が安定した状態で発振を継続させる。安定化された発振波形は、波形整形回路1を通って波形整形されたのち、発振出力端子OUTから出力され、LSI内部へ供給される。
通常動作時においては、対電源ESD保護素子G1と対接地ESD保護素子G2、対電源ESD保護素子E1と対接地ESD保護素子E2は、いずれも非導通状態となっている。
外部から静電気放電に起因するサージ電圧がボンディングパッドT1に印加されたときは、入力側のESD保護回路B1′が動作する。すなわち、正のサージ電圧が印加されたときは、MOS型の対電源ESD保護素子G1がアバランシェ降伏により導通し、電荷を速やかに電源線VDDへ逃がす。また、負のサージ電圧が印加されたときは、MOS型の対接地ESD保護素子G2がアバランシェ降伏により導通し、電荷を速やかに接地線VSSへ逃がす。
また、外部から静電気放電に起因するサージ電圧がボンディングパッドT2に印加されたときは、出力側のESD保護回路B2が動作する。すなわち、正のサージ電圧が印加されたときは、MOS型の対電源ESD保護素子E1がアバランシェ降伏により導通し、電荷を速やかに電源線VDDへ逃がす。また、負のサージ電圧が印加されたときは、MOS型の対接地ESD保護素子E2がアバランシェ降伏により導通し、電荷を速やかに接地線VSSへ逃がす。
特開平9−148845号公報(第2−3頁、第1−2図)
上記の従来の技術における発振回路の場合には、寄生容量のために、発振出力端子OUTから発振波形が出力されなくなることがある。すなわち、発振回路が発振状態にあるとき、MOS型の対接地ESD保護素子G2におけるNチャンネル型MOSトランジスタのゲートとノードN1との間の寄生のカップリング容量Cpにより、MOSトランジスタのゲート電位が持ち上がり、ゲートソース間の電位がMOSトランジスタの閾値電圧以上になって、サージ電圧印加時でないにもかかわらず、このMOSトランジスタが導通してしまい、接地線VSSに対してMOSトランジスタのON電流I1が流れることになる。この電流I1により、もともと3.3Vの発振振幅となるべきものが、接地線側に引き込まれる結果、3.3Vよりも小さい発振振幅となってしまう。
このときのノードN1、ノードN2、発振出力端子OUTの発振波形の状態を示したのが図7である。電流I1により、ノードN1における発振波形は0Vと3.3Vよりも小さい電圧(例えば2.0V)の間の発振振幅となる。ノードN2の発振波形は、増幅器A(インバータ)によりノードN1における発振波形が反転されるから、0Vより大きい電圧(例えば3.3−2.0V=1.3V)と3.3Vの間の発振振幅となる。この場合、ノードN2の発振波形(例えば1.3V〜3.3V)は、波形整形回路1(インバータ)のLレベル側のスレッショルド電圧を超えることができない。その結果、発振出力端子OUTには発振波形を出力できず、発振出力端子OUTから出力される電圧は定常的に0Vの波形となってしまう。すなわち、寄生のカップリング容量Cpのために、発振出力端子OUTから発振波形が出力されなくなってしまう。
本発明は、このような事情に鑑みて創作したものであり、寄生のカップリング容量のために発振状態で発振波形が接地線側または電源線側に引き込まれることを抑制し、発振出力端子からはフル振幅の正常な発振波形が出力される発振回路を提供することを目的としている。
本発明による発振回路は、圧電振動子の両端子が増幅器の入出力端子に接続され、前記増幅器の出力端子から発振波形が出力される発振回路において、前記増幅器の入力側に、P型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型のESD保護回路が接続されているものである。
この構成においては、増幅器の入力側のESD保護回路がP型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型であるため、発振状態で接地線側または電源線側に流れる電流はジャンクションリークのみで、発振波形が引き込まれるほどには接地線側または電源線側に電流は流れない。これにより、増幅器の入力側でも出力側でも発振波形はフル振幅波形を得ることが可能となり、発振出力端子からフル振幅波形を出力させることが可能となる。
また、本発明による発振回路は、圧電振動子の両端子が増幅器の入出力端子に接続され、前記増幅器の出力端子から発振波形が出力される発振回路において、前記増幅器の入力側と出力側にそれぞれ、P型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型のESD保護回路が接続されているものである。
この構成においては、増幅器の入力側のESD保護回路だけでなく、出力側のESD保護回路も、P型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型であるため、上記の効果に加えて、増幅器の両端側に接続する発振用容量素子の容量をともに小さくすることが可能で、高周波での発振特性を向上させることが可能となる。
上記構成の発振回路において、前記ダイオード型のESD保護回路は、前記N型拡散層が電源線に接続され、前記P型拡散層が前記増幅器の入力端子に接続された対電源ESD保護素子と、前記P型拡散層が接地線に接続され、前記N型拡散層が前記増幅器の入力端子に接続された対接地ESD保護素子とを備えているという態様がある。このように構成すれば、外部から静電気放電に起因するサージ電圧が印加されたときに、そのサージ電圧が正のサージ電圧であっても負のサージ電圧であっても、いずれにも対応でき、しかも、上記同様に、発振状態では発振出力端子からフル振幅波形を出力させることが可能となる。
また上記構成の発振回路において、前記ダイオード型のESD保護回路は、
前記増幅器の入力端子に接続の信号線中に挿入された抵抗素子と、
前記N型拡散層が電源線に接続され、前記P型拡散層の一部が前記増幅器の入力端子と前記抵抗素子との接続点に接続され、前記P型拡散層の他の一部が前記抵抗素子の他端に接続された対電源ESD保護素子と、
前記P型拡散層が接地線に接続され、前記N型拡散層の一部が前記増幅器の入力端子と前記抵抗素子との接続点に接続され、前記N型拡散層の他の一部が前記抵抗素子の他端に接続された対接地ESD保護素子とを備えているという態様がある。このように構成すれば、対電源ESD保護素子も対接地ESD保護素子も2段構えとなるので、速度の速いサージが入ってきた場合に、1段目のESD保護回路では放電しきれないサージ電流を、そのあとの抵抗素子と2段目のESD保護回路によって放電することができ、ESD耐圧を向上させることが可能となる。
なお、前記抵抗素子としては、ポリシリコンで形成されているものが好ましい。
本発明によれば、増幅器の入力側のESD保護回路がP型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型であるため、発振状態で接地線側または電源線側に流れる電流はジャンクションリークのみで、発振波形が引き込まれるほどには接地線側または電源線側に電流は流れない。これにより、増幅器の入力側でも出力側でも発振波形はフル振幅波形を得ることが可能となり、発振出力端子からフル振幅波形を出力させることができる。
また、増幅器の入力側のESD保護回路だけでなく、出力側のESD保護回路も、P型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型とすれば、増幅器の両端側に接続する発振用容量素子の容量をともに小さくすることが可能で、高周波での発振特性を向上させることが可能となる。
以下、本発明にかかわる発振回路の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態1における発振回路の構成を示す回路図である。図1において、従来の技術の図6におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。従来の技術においては増幅器Aの入力側のESD保護回路B1′がMOS型に構成されていたのに対して、本実施の形態では入力側のESD保護回路B1がダイオード型に構成されている。簡単に説明すると、T1,T2はボンディングパッド、Xはセラミック発振子、水晶発振子などの圧電振動子、C1,C2は位相反転のための発振用容量素子、Aは増幅器、Rfはバイアス用帰還抵抗、1は波形整形回路、OUTは発振出力端子、B1は入力側のESD保護回路、B2は出力側のESD保護回路、E1はMOS型の対電源ESD保護素子、E2はMOS型の対接地ESD保護素子である。本実施の形態に特有の構成として、増幅器Aの入力端子とボンディングパッドT1との間に、P型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型のESD保護回路B1が挿入されている。この入力側のダイオード型のESD保護回路B1は、対電源ESD保護素子2dと対接地ESD保護素子2sで構成されている。対電源ESD保護素子2dはダイオードD1で構成され、対接地ESD保護素子2sはダイオードD2で構成されている。上側に位置する対電源ESD保護素子2dは、そのダイオードD1におけるN型拡散層が電源線VDDに接続され、P型拡散層が増幅器Aの入力側のノードN1に接続されている。下側に位置する対接地ESD保護素子2sは、そのダイオードD2におけるP型拡散層が接地線VSSに接続され、N型拡散層がノードN1に接続されている。その他の構成については、従来の技術と同様であるので、説明を省略する。
次に、上記のように構成された本実施の形態の発振回路の動作を説明する。
発振回路が発振状態にあるとき、ノードN1から接地線VSSに対して流れる電流は、対接地ESD保護素子2sにおけるダイオードD2のジャンクションリーク電流I1のみである。ジャンクションリーク電流I1は非常に小さな電流であるため、ノードN1における発振波形を接地線VSS側に引き込むことはない。このときのノードN1、ノードN2、発振出力端子OUTの発振波形を図2に示す。
ノードN1における発振波形は、0Vと3.3Vの間でフル振幅した発振波形になる。ノードN2における発振波形は、増幅器AでノードN1の波形を反転させた波形になるので、0Vと3.3Vの間でフル振幅した発振波形になる。したがって、発振出力端子OUTから出力される発振波形は、ノードN2における発振波形を波形整形回路1で反転させた波形になるので、0Vと3.3Vの間でフル振幅した発振波形となり、正常な発振波形を出力できる。
図1の入力側のダイオード型のESD保護回路B1のレイアウト構成を図3に示す。3はノードN1に接続される配線、4pはP+ 拡散層、4nはN+ 拡散層、5dはVDD配線、5sはVSS配線である。
+ 拡散層4pは長方形の形をしている。N+ 拡散層4nは、P+ 拡散層4pからある一定の距離をおいて、P+ 拡散層4pを囲むような角型リング形状の形をしている。このP+ 拡散層4pとN+ 拡散層4nとでダイオードが構成されている。
対電源ESD保護素子2dにおいては、ノードN1に接続される配線3からヴィアV1を介してP+ 拡散層4pに至り、P+ 拡散層4pとN+ 拡散層4nとでダイオードが形成され、N+ 拡散層4nからヴィアV2を介してVDD配線5dへと至る。
一方、対接地ESD保護素子2sにおいては、VSS配線5sからヴィアV1を介してP+ 拡散層4pに至り、P+ 拡散層4pとN+ 拡散層4nとでダイオードが形成され、N+ 拡散層4nからヴィアV2を介してノードN1に接続される配線3へと至る。
なお、対電源ESD保護素子2dと対接地ESD保護素子2sは、それぞれ何個かに分割されていてもよい。
本実施の形態によれば、増幅器Aの入力側のESD保護回路B1をP型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型に構成してあるので、発振状態で接地線側または電源線側に流れる電流をジャンクションリーク電流のみに小さく制限することができる。その結果、増幅器Aの入力側でも出力側でも発振波形はフル振幅波形を得て、発振出力端子OUTからフル振幅波形を出力させることができる。
(実施の形態2)
図4は本発明の実施の形態2における発振回路の構成を示す回路図である。本実施の形態は、実施の形態1に対して、入力側のダイオード型のESD保護回路B1の構成を変更したものに相当する。図4において、実施の形態1の図1におけるのと同じ符号は同一構成要素を指している。本実施の形態に特有の構成は、次のとおりである。入力側のダイオード型のESD保護回路B1は、ポリシリコンで形成された抵抗素子Roと、対電源ESD保護素子2dと、対接地ESD保護素子2sとで構成されている。増幅器Aの入力端子とボンディングパッドT1との間の信号線中に抵抗素子Roが挿入されている。対電源ESD保護素子2dは、2つのダイオードD1,D3から構成されている。対接地ESD保護素子2sも、2つのダイオードD2,D4から構成されている。
対電源ESD保護素子2dにおいて、ダイオードD1は、そのN型拡散層が電源線VDDに接続され、P型拡散層が増幅器Aの入力側のノードN1と抵抗素子Roとの接続点に接続されている。ダイオードD3は、そのN型拡散層が電源線VDDに接続され、P型拡散層が抵抗素子RoとボンディングパッドT1との接続点に接続されている。
また、対接地ESD保護素子2sにおいて、ダイオードD2は、そのP型拡散層が接地線VSSに接続され、N型拡散層が増幅器Aの入力側のノードN1と抵抗素子Roとの接続点に接続されている。ダイオードD4は、そのP型拡散層が接地線VSSに接続され、N型拡散層が抵抗素子RoとボンディングパッドT1との接続点に接続されている。
その他の構成については、実施の形態1と同様であるので、説明を省略する。
本実施の形態によれば、実施の形態1の発振回路と同様、発振出力端子OUTからフル振幅の正常な発振波形を出力することができる。加えて、速度の速いサージが入ってきた場合、ダイオードD3やダイオードD4では放電しきれないサージ電流を、抵抗素子RoおよびダイオードD1やダイオードD2によって放電することができ、発振回路のESD耐圧を向上させることができる。
(実施の形態3)
図5は本発明の実施の形態3の発振回路の構成を示す回路図である。図5において、実施の形態1の図1におけるのと同じ符号は同一構成要素を指している。本実施の形態に特有の構成は、次のとおりである。入力側のESD保護回路B1も出力側のESD保護回路B3も、ともにダイオード型に構成されている。ここでは、実施の形態1の場合の図1と同じ回路構成としている。
すなわち、出力側のダイオード型のESD保護回路B3は、対電源ESD保護素子6dと対接地ESD保護素子6sで構成されている。対電源ESD保護素子6dはダイオードD5で構成され、対接地ESD保護素子6sはダイオードD6で構成されている。上側に位置する対電源ESD保護素子6dは、そのダイオードD5におけるN型拡散層が電源線VDDに接続され、P型拡散層が増幅器Aの出力側のノードN2に接続されている。下側に位置する対接地ESD保護素子6sは、そのダイオードD6におけるP型拡散層が接地線VSSに接続され、N型拡散層がノードN2に接続されている。
なお、入力側のESD保護回路B1も出力側のESD保護回路B3も、実施の形態2の場合の図4のダイオード型のESD保護回路B1の構成と同じとしてもよい。その他の構成については、実施の形態1と同様であるので、説明を省略する。
本実施の形態によれば、実施の形態1の発振回路と同様、発振出力端子OUTからフル振幅の正常な発振波形を出力することができる。加えて、出力側のESD保護回路B3もP型拡散層とN型拡散層で形成したダイオード型であるため、ボンディングパッドT1とボンディングパッドT2に接続の発振用容量素子C1,C2の容量をともに小さくすることができ、特に、高周波の発振特性を向上させることができる。
本発明の発振回路は、増幅器と圧電振動子を用いて、特に、高周波で発振させる場合に有用である。
本発明の実施の形態1における発振回路の構成を示す回路図 本発明の実施の形態1における発振回路での各ノードでの発振波形を示す図 本発明の実施の形態1における発振回路のダイオード型のESD保護回路のレイアウト構成図 本発明の実施の形態2における発振回路の構成を示す回路図 本発明の実施の形態3における発振回路の構成を示す回路図 従来の技術における発振回路の構成を示す回路図 従来の技術におけるにおける発振回路での各ノードでの発振波形を示す図
符号の説明
1 波形整形回路
2d,6d 対電源ESD保護素子
2s,6s 対接地ESD保護素子
A 増幅器
B1 入力側のダイオード型のESD保護回路
B2 出力側のMOS型のESD保護回路
B3 出力側のダイオード型のESD保護回路
C1,C2 発振用容量素子
D1〜D6 ダイオード
E1 MOS型の対電源ESD保護素子
E2 MOS型の対接地ESD保護素子
Rf バイアス用帰還抵抗
Ro 抵抗素子
T1,T2 ボンディングパッド
X 圧電振動子

Claims (5)

  1. 圧電振動子の両端子が増幅器の入出力端子に接続され、前記増幅器の出力端子から発振波形が出力される発振回路において、前記増幅器の入力側に、P型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型のESD保護回路が接続されている発振回路。
  2. 圧電振動子の両端子が増幅器の入出力端子に接続され、前記増幅器の出力端子から発振波形が出力される発振回路において、前記増幅器の入力側と出力側にそれぞれ、P型拡散層とN型拡散層を有するダイオード型のESD保護回路が接続されている発振回路。
  3. 前記ダイオード型のESD保護回路は、
    前記N型拡散層が電源線に接続され、前記P型拡散層が前記増幅器の入力端子に接続された対電源ESD保護素子と、
    前記P型拡散層が接地線に接続され、前記N型拡散層が前記増幅器の入力端子に接続された対接地ESD保護素子とを備えている請求項1または請求項2に記載の発振回路。
  4. 前記ダイオード型のESD保護回路は、
    前記増幅器の入力端子に接続の信号線中に挿入された抵抗素子と、
    前記N型拡散層が電源線に接続され、前記P型拡散層の一部が前記増幅器の入力端子と前記抵抗素子との接続点に接続され、前記P型拡散層の他の一部が前記抵抗素子の他端に接続された対電源ESD保護素子と、
    前記P型拡散層が接地線に接続され、前記N型拡散層の一部が前記増幅器の入力端子と前記抵抗素子との接続点に接続され、前記N型拡散層の他の一部が前記抵抗素子の他端に接続された対接地ESD保護素子とを備えている請求項1または請求項2に記載の発振回路。
  5. 前記抵抗素子は、ポリシリコンで形成されている請求項4に記載の発振回路。
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US (2) US7683728B2 (ja)
JP (1) JP2008131455A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011135317A (ja) * 2009-12-24 2011-07-07 Seiko Epson Corp 集積回路装置及び電子機器

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4917460B2 (ja) * 2007-03-19 2012-04-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP5771489B2 (ja) * 2011-09-15 2015-09-02 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US8854147B2 (en) * 2012-10-12 2014-10-07 Google Inc. Crystal oscillator with electrostatic discharge (ESD) compliant drive level limiter
US9530266B2 (en) 2013-02-06 2016-12-27 Hornady Manufacturing Company Handgun mini-vault
CN104143820A (zh) * 2013-05-08 2014-11-12 博通集成电路(上海)有限公司 静电放电保护电路及方法
TWI566517B (zh) * 2015-06-16 2017-01-11 智原科技股份有限公司 晶體振盪電路、此晶體振盪電路的增益級及其設計方法
US10291180B2 (en) * 2017-10-06 2019-05-14 Realtek Semiconductor Corp. Crystal oscillator circuit and method thereof
CN109697148B (zh) * 2018-12-28 2021-01-15 苏州浪潮智能科技有限公司 一种测试方法和装置
US11734974B2 (en) 2021-04-21 2023-08-22 Hornady Mannfacturing Company Safe with biometric lock mechanism

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0353706A (ja) * 1989-07-21 1991-03-07 Nec Corp 発振回路
JPH0426221A (ja) * 1990-05-21 1992-01-29 Seiko Epson Corp 発振回路
JPH05343919A (ja) * 1992-06-06 1993-12-24 Hitachi Ltd 半導体装置
JP2001257536A (ja) * 2001-02-13 2001-09-21 Seiko Epson Corp 発振回路、電子回路、これらを備えた半導体装置、時計および電子機器
JP2002246843A (ja) * 2001-02-13 2002-08-30 Nippon Precision Circuits Inc 電圧制御発振器用集積回路
JP2004096711A (ja) * 2002-07-10 2004-03-25 Seiko Epson Corp 発振回路、電子機器、時計

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09148845A (ja) 1995-11-22 1997-06-06 Toyo Commun Equip Co Ltd 発振回路
US6147564A (en) 1996-12-04 2000-11-14 Seiko Epson Corporation Oscillation circuit having electrostatic protective circuit
JP3536561B2 (ja) 1996-12-04 2004-06-14 セイコーエプソン株式会社 発振回路、電子回路、これらを備えた半導体装置、時計および電子機器
US6320473B1 (en) * 1999-09-30 2001-11-20 Stmicroelectronics, Inc. Integrated oscillator circuit apparatus with capacitive coupling for reducing start-up voltage
US6593823B2 (en) 2000-09-26 2003-07-15 Seiko Epson Corporation Oscillation circuit and electronic circuit, and semiconductor device, timepiece and electronic equipment provided with the same
US6777721B1 (en) * 2002-11-14 2004-08-17 Altera Corporation SCR device for ESD protection
US7086593B2 (en) * 2003-04-30 2006-08-08 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Magnetic field response measurement acquisition system
US7193483B2 (en) 2005-03-24 2007-03-20 Silicon Laboratories Inc. Blocking a leakage current
US7477495B2 (en) * 2005-12-13 2009-01-13 Silicon Laboratories, Inc. System and method of ESD protection of integrated circuit components

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0353706A (ja) * 1989-07-21 1991-03-07 Nec Corp 発振回路
JPH0426221A (ja) * 1990-05-21 1992-01-29 Seiko Epson Corp 発振回路
JPH05343919A (ja) * 1992-06-06 1993-12-24 Hitachi Ltd 半導体装置
JP2001257536A (ja) * 2001-02-13 2001-09-21 Seiko Epson Corp 発振回路、電子回路、これらを備えた半導体装置、時計および電子機器
JP2002246843A (ja) * 2001-02-13 2002-08-30 Nippon Precision Circuits Inc 電圧制御発振器用集積回路
JP2004096711A (ja) * 2002-07-10 2004-03-25 Seiko Epson Corp 発振回路、電子機器、時計

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011135317A (ja) * 2009-12-24 2011-07-07 Seiko Epson Corp 集積回路装置及び電子機器

Also Published As

Publication number Publication date
US7940138B2 (en) 2011-05-10
US7683728B2 (en) 2010-03-23
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