JP2008114426A - 画像形成装置及びその制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レーザ光を偏向するポリゴンミラーの反射面を特定する特定部320と、画像信号をパルス幅変調したPWM信号を発生するPWM信号生成部303と、画像信号に含まれる像形成対象画素の周辺画素の配置状況を表す周辺画素情報を生成する画像処理装置301と、ポリゴンミラーの反射面と周辺画素情報に対応して、前記レーザ光の光量に関する情報を記憶するメモリ321とを有し、PWM信号、及びメモリ321から読み出した情報とに対応する電流値でレーザ315を駆動して像を形成する。
【選択図】 図3
Description
一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置であって、
前記レーザ光を発生し感光体上での露光量を制御するレーザ発光手段と、
注目画素が少なくとも、副走査方向に孤立する記録画素、副走査方向に連続する画像端部の記録画素、それ以外の記録画素のいずれかであるかを判別し、その判別結果を基に周辺画素情報を生成する周辺画素情報生成手段と、
前記周辺画素情報と、副走査方向の光走査ラインピッチ変位量と、記録画素の画像情報に対応して、前記レーザ発光手段に対して露光量の設定を行う露光量設定手段と、
を有することを特徴とする。
一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置であって、
前記レーザ光を発生し感光体上での露光量を制御するレーザ発光手段と、
注目画素が、少なくとも中間調画像中にあるかどうかを判別する像域分離手段と、
前記像域分離手段の判別結果より周辺画像情報を生成する周辺画像情報生成手段と、
前記周辺画像情報と、副走査方向の光走査ラインピッチ変位量と、記録画素の画像情報に対応して、前記レーザ発光手段に対して露光量の設定を行う露光量設定手段と、
を有することを特徴とする。
一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置であって、
前記レーザ光を発生し感光体上での露光量を制御するレーザ発光手段と、
注目画素が少なくとも、副走査方向に孤立する記録画素、副走査方向に連続する画像端部の記録画素、それ以外の記録画素のいずれかであるかを判別した判別結果と、前記像域分離手段により少なくとも中間調画像中にあるかどうかを判別した判別結果を基に周辺画素情報を生成する周辺画素情報生成手段と、
前記周辺画素情報と、副走査方向の光走査ラインピッチ変位量と、記録画素の画像情報に対応して、前記レーザ発光手段に対して露光量の設定を行う露光量設定手段と、
を有することを特徴とする。
一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置の制御方法であって、
前記レーザ光を偏向するポリゴンミラーの反射面を特定する特定工程と、
画像信号をパルス幅変調したPWM信号を発生するPWM工程と、
前記画像信号に含まれる像形成対象画素の周辺画素の配置状況を表す周辺画素情報を生成する生成工程と、
前記ポリゴンミラーの反射面と前記周辺画素情報に対応して、前記レーザ光の光量に関する情報を記憶するメモリから読み出した前記情報と、前記PWM信号とに基づいてレーザ発生素子を制御して前記像形成対象画素を形成する像形成制御工程と、
を有することを特徴とする。
一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置の制御方法であって、
前記レーザ光を偏向するポリゴンミラーの反射面を特定する特定工程と、
画像信号をパルス幅変調したPWM信号を発生するPWM工程と、
前記画像信号に含まれる像域を判定して各像域に対応する画像属性信号を発生する像域分離工程と、
前記ポリゴンミラーの反射面に対応して、前記レーザ光による前記感光体上の走査ライン同士の間隔のずれを補正するための前記レーザ光の光量に関する情報を記憶するメモリから読み出した前記情報と、前記PWM信号と前記画像属性信号とに基づいてレーザ発生素子を駆動して前記像形成対象画素を形成する像形成制御工程と、
を有することを特徴とする。
一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置の制御方法であって、
画像信号に含まれる像形成対象画素の周辺画素の配置状況を表す周辺画素情報を生成する生成工程と、
前記周辺画素情報及び前記レーザ光により形成される主走査ラインの間隔の変位に対応して前記画素情報をパルス幅変調したPWM信号情報を記憶するテーブルを参照して、画像信号の画素情報、前記周辺画素情報及び前記変位に基づいて、前記画素情報をパルス幅変調したPWM信号を発生するPWM工程と、
前記PWM信号に応じてレーザ発生素子を駆動して前記像形成対象画素を形成する像形成制御工程と、を有することを特徴とする。
図3は、本発明の実施の形態1に係る半導体レーザ駆動回路305、露光量設定部319を中心としたレーザ光量の制御構成を説明する図である。
図9は、本発明の実施の形態2に係る半導体レーザの駆動を説明するブロック図である。ここでは4つの半導体レーザにより一走査で同時に4本のレーザ光による露光走査を行っている。この場合のレーザ光は、画像情報に応じてパルス幅変調(PWM)により1画素内で多値制御が行われるとともに、走査ラインの粗密と上下隣接画素の有無に応じてレーザ光量が制御される。以下にその詳細を説明する。
図12は、本発明の実施の形態3に係る半導体レーザ駆動回路1207、露光量設定部1202を中心としたレーザ光量の制御構成を説明する図である。
図17は、本発明の実施の形態4に係る半導体レーザ駆動回路1713、露光量設定部1717を中心としたレーザ露光量の制御構成を説明する図である。尚、この図17において、前述の図3と共通する部分は同じ記号で示している。
前述の実施の形態4に係る構成では、像域分離処理部1701において中間調画像であるかどうかを判別してレーザ光量の補正の有無を選択している。
Claims (16)
- 一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置であって、
前記レーザ光を発生し感光体上での露光量を制御するレーザ発光手段と、
注目画素が少なくとも、副走査方向に孤立する記録画素、副走査方向に連続する画像端部の記録画素、それ以外の記録画素のいずれかであるかを判別し、その判別結果を基に周辺画素情報を生成する周辺画素情報生成手段と、
前記周辺画素情報と、副走査方向の光走査ラインピッチ変位量と、記録画素の画像情報に対応して、前記レーザ発光手段に対して露光量の設定を行う露光量設定手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。 - 一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置であって、
前記レーザ光を発生し感光体上での露光量を制御するレーザ発光手段と、
注目画素が、少なくとも中間調画像中にあるかどうかを判別する像域分離手段と、
前記像域分離手段の判別結果より周辺画像情報を生成する周辺画像情報生成手段と、
前記周辺画像情報と、副走査方向の光走査ラインピッチ変位量と、記録画素の画像情報に対応して、前記レーザ発光手段に対して露光量の設定を行う露光量設定手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。 - 一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置であって、
前記レーザ光を発生し感光体上での露光量を制御するレーザ発光手段と、
注目画素が少なくとも、副走査方向に孤立する記録画素、副走査方向に連続する画像端部の記録画素、それ以外の記録画素のいずれかであるかを判別した判別結果と、前記像域分離手段により少なくとも中間調画像中にあるかどうかを判別した判別結果を基に周辺画素情報を生成する周辺画素情報生成手段と、
前記周辺画素情報と、副走査方向の光走査ラインピッチ変位量と、記録画素の画像情報に対応して、前記レーザ発光手段に対して露光量の設定を行う露光量設定手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。 - 前記露光量設定手段は、前記レーザ光が複数の場合、前記複数のレーザ光による前記感光体上の副走査方向のピッチ間隔のずれ量に対応して露光量の設定を行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の画像形成装置。
- 前記露光量設定手段は、
ポリゴンミラーの反射面を特定する反射面特定手段と、
ポリゴンミラーの反射面に対応して、前記レーザ光の光量に関する情報を記憶する記憶手段とを有し、
前記記憶手段から読み出した情報に基づいて露光量の設定を行う請求項1乃至4のいずれか1項に記載の画像形成装置。 - 前記反射面特定手段は、前記レーザ光の走査時間変動を検出して前記反射面を特定することを特徴とする請求項5に記載の画像形成装置。
- 前記反射面特定手段は、基準となる基準反射面を特定し、前記基準反射面からの前記レーザ光の走査回数を計数することにより、前記レーザ光を偏向するポリゴンミラーの反射面を特定することを特徴とする請求項5又は6に記載の画像形成装置。
- 前記露光量設定手段は、
光走査ラインの副走査方向の走査位置を検出する走査位置検出手段を有し、
前記走査位置検出手段により検出された走査ラインの位置情報に応じて、露光量の設定を行う請求項1乃至4のいずれか1項に記載の画像形成装置。 - 前記レーザ発光手段は、
前記露光量設定手段により、前記走査ライン間隔と前記周辺画像情報に対応してそれぞれ電流値が設定される複数の電流源と、
前記複数の電流源のそれぞれに接続され、各対応する電流源から供給される電流を前記レーザ発生手段に供給する複数のスイッチング手段を有し、
前記周辺画素情報に応じて前記複数のスイッチング手段のいずれかを選択し、記録画素の画像情報に応じて当該選択したスイッチング手段の駆動タイミングを制御し、前記記録画素におけるレーザ光輝度と発光時間を制御することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の画像形成装置。 - 前記露光量設定手段は、
記録画素の画像情報と、前記周辺画素情報と、前記レーザ光により形成される前記走査ライン間隔に対応して、記録画素内でのレーザ発光時間を指示するパルス幅変調信号を生成し、
前記レーザ発生手段は、前記パルス幅変調信号により、発光タイミング制御されることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の画像形成装置。 - 前記露光量設定手段において、露光量の設定値に上限値、或は下限値の少なくともいずれかを設定する上下限値設定手段を更に有することを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の画像形成装置。
- 前記上下限値設定手段は、前記記録画素の主走査方向に隣接する画素の有無に応じて前記上限値、下限値の設定を切り換えることを特徴とする請求項11に記載の画像形成装置。
- 前記周辺画素情報生成手段において、注目画素を含む画像に対して副走査方向へ連続する記録画素のドット数に基づいて前記周辺画素情報を生成することを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の画像形成装置。
- 一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置の制御方法であって、
前記レーザ光を偏向するポリゴンミラーの反射面を特定する特定工程と、
画像信号をパルス幅変調したPWM信号を発生するPWM工程と、
前記画像信号に含まれる像形成対象画素の周辺画素の配置状況を表す周辺画素情報を生成する生成工程と、
前記ポリゴンミラーの反射面と前記周辺画素情報に対応して、前記レーザ光の光量に関する情報を記憶するメモリから読み出した前記情報と、前記PWM信号とに基づいてレーザ発生素子を制御して前記像形成対象画素を形成する像形成制御工程と、
を有することを特徴とする画像形成装置の制御方法。 - 一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置の制御方法であって、
前記レーザ光を偏向するポリゴンミラーの反射面を特定する特定工程と、
画像信号をパルス幅変調したPWM信号を発生するPWM工程と、
前記画像信号に含まれる像域を判定して各像域に対応する画像属性信号を発生する像域分離工程と、
前記ポリゴンミラーの反射面に対応して、前記レーザ光による前記感光体上の走査ライン同士の間隔のずれを補正するための前記レーザ光の光量に関する情報を記憶するメモリから読み出した前記情報と、前記PWM信号と前記画像属性信号とに基づいてレーザ発生素子を駆動して前記像形成対象画素を形成する像形成制御工程と、
を有することを特徴とする画像形成装置の制御方法。 - 一つ又は複数のレーザ光をポリゴンミラーで偏向して感光体上を走査することにより像形成を行う画像形成装置の制御方法であって、
画像信号に含まれる像形成対象画素の周辺画素の配置状況を表す周辺画素情報を生成する生成工程と、
前記周辺画素情報及び前記レーザ光により形成される主走査ラインの間隔の変位に対応して前記画素情報をパルス幅変調したPWM信号情報を記憶するテーブルを参照して、画像信号の画素情報、前記周辺画素情報及び前記変位に基づいて、前記画素情報をパルス幅変調したPWM信号を発生するPWM工程と、
前記PWM信号に応じてレーザ発生素子を駆動して前記像形成対象画素を形成する像形成制御工程と、
を有することを特徴とする画像形成装置の制御方法。
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