JP2018092064A - 画像形成装置および画像形成制御プログラム - Google Patents

Abstract

【課題】揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において生じる濃度むらを良好に解消する。【解決手段】発光部を有する光源からの光ビームを揺動ミラーを用いて主走査方向に走査する画像形成装置において、主走査位置に応じて副走査方向に発生する濃度むらを解消するように定められた補正値を記憶しておき、画像データに含まれる着目画素が副走査方向上流側エッジであるか副走査方向下流側エッジであるかを判別し、像担持体における光ビームの主走査方向の照射位置と当該光ビームの走査方向と画像データのエッジ判別結果とに応じて、補正値に基づいて発光部の発光量を補正する。【選択図】図１

Description

本発明は、複写機やプリンタなどの画像形成装置と画像形成制御プログラムとに関し、特に、光源からの光ビームを揺動ミラーを用いて被走査面上に往復走査する画像形成装置と画像形成制御プログラムとに関する。

画像形成装置として、画像データに応じた主走査方向の１ラインの画像形成を行うと共に、主走査方向の１ライン毎の画像形成を副走査方向に繰り返して１頁分の画像形成を行うものが知られている。
その一例として、電子写真方式の画像形成装置では、画像データに応じて変調したレーザビームを像担持体の主走査方向に走査し、これと並行して、副走査方向に回転する像担持体（感光体ドラム）上に、前記レーザビームによって画像を形成している。この場合に、ドットクロックと呼ばれるクロック信号（画素クロック）を基準にして、レーザビームを画像データで変調するようにしている。

また、一般的に使用されるポリゴンミラーの代わりに、共振型の振動ミラー（揺動ミラー）を偏向器として用いた画像形成装置として、特許文献１−４に記載の画像形成装置が知られている。このような画像形成装置では、レーザ光源が点灯して光ビームを偏向器に対して射出する。偏向器である揺動ミラーは、共振振動しており、光ビームを偏向させる。偏向された光ビームは、感光体上を走査する。これにより、感光体上に静電潜像が形成される。

特開２００７−１５２７１０号公報 特開２００６−３３７６５２号公報 特開２０１５−１００９２０号公報 特開２０１２−８３４２５号公報

特許文献１では、振動する偏向ミラーにより偏向された光ビームをａｒｃ−ｓｉｎ特性を有する走査光学系を介して潜像担持体表面に往復走査する画像形成装置において、中央部より端部において形成されるトナー濃度が濃くなるという画像弊害を防止するようにしている。ここで、主走査方向Ｘにおける端部と中央部とでハーフトーン処理で用いるディザマトリックスを切換えるようにしている。つまり、中央部ＣＰに対して用いるディザマトリックスに比べて、端部ＥＰに対して用いるディザマトリックスは、同じ階調値に対してより少ない画素に微小ドットを形成するよう決定する。

特許文献２では、光源からの光ビームを被走査面上に往復走査可能な光走査装置および該光走査装置を装備した画像形成装置において、副走査方向の走査ピッチが大きいところで、被走査面上の有効走査領域の副走査方向にスポットが繋がらないため良好な２次元走査ができないという問題を解決するようにしている。ここで、被走査面上に走査されるスポットのスポット径が、被走査面の有効走査領域における副走査方向の走査ピッチの最大値以上となるように構成されている。したがって、被走査面上の有効走査領域において、副走査方向の走査ピッチが小さいところは勿論大きいところにであっても副走査方向にスポットが必ず繋がる。よって、良好な２次元走査が可能となる。この場合、副走査方向に、ビームピッチが広いところでも、スポット径を大きくして、単に、スポットがつながっているのみである。

特許文献３では、マルチビームのビーム間隔の変動による濃度むらを減らすことを目的にしている。ここで、画像形成装置は、各画素の階調値を、マルチビームのビーム間隔の変動に応じて、当該ビーム間隔の変動による濃度むらが減るように補正するビーム補正部と、各画素の補正後の階調値に応じて変調されたマルチビームにより感光体上を走査し、複数ラインの露光を並行して行う画像形成部と、を備え、ビーム補正部は、マルチビームのビーム位置ごとに決定された補正係数のうち、各画素のビーム位置に対応する補正係数を用いて、各画素の階調値と、各画素の副走査方向上側又は下側に位置する隣接画素の階調値とをそれぞれ重み付けて加算する階調補間処理を行って、各画素の補正後の階調値を得る。この場合、マルチビーム間隔の変動に起因する濃度むらを対象にしており、マルチビーム以外には対応できず、また、他の原因にも対応することができない。また、揺動ミラーによる往復走査までは言及していない。

特許文献４では、揺動ミラーを用いてレーザ光を同一の被走査面に対して往復走査させて画像を書き込む際、被走査面上に形成した画像の主走査方向の画像端に生じる濃度むらを低減することを目標にしている。ここで、２つの光源の各レーザ光を各色感光体の同一の被走査面上に対して主走査方向に往復走査して照射する際、ＰＷＭ回路がＬＵＴ回路のパルス幅に基いて光源Ｕドライバへ、往路と復路の走査ライン毎に、及び複数光源の各チャネル毎に、被走査面上に与える露光エネルギーが有効走査幅内で走査方向に向かって段階的に大きく又は小さくなるように各レーザ光の発光時のパルス幅を変化させるためのＰＷＭ信号を出力する。

この特許文献４では、特許文献４内の段落０００５や図１３に示されるように、隣接主走査ラインの間隔が粗になると画像が薄くなり、隣接主走査ラインの間隔が密になると画像が濃くなる濃度むらを解消することを目的としている。そのため、特許文献４内の段落００６０−００６２や図７に示されるように、隣接主走査ラインの間隔が密になる領域では光ビームの画素を形成するＰＷＭ幅を狭く制御し、隣接主走査ラインの間隔が粗になる領域に向けて光ビームの画素を形成するＰＷＭ幅を狭い状態から徐々に通常状態に戻すように制御している。

ところで、揺動ミラーを主走査に用いる画像形成装置では、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）は、図１９のようにサインカーブに近い形状になることが知られている。また、図１９のように揺動ミラーを主走査に使用した場合、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じることも知られている。

また、図１９のように揺動ミラーを主走査に使用した場合であって、像担持体における光ビームの隣接する主走査ラインの間隔よりも大きいスポット径の光ビームを用いて像担持体上に画像を形成する場合がある。
この場合、隣接する同一の主走査ラインにおける主走査方向の右側と主走査方向の左側で、上述した隣接主走査ライン間隔の粗密によって、同一主走査位置で副走査方向に隣接する２画素は、重なり合う面積が変化することで、２画素の総面積や副走査方向長が変化する状態になる。

また、同様に、隣接する主走査ラインにおける同一主走査位置において、この同一主走査位置で副走査方向に隣接する２画素は、上述した隣接主走査ライン間隔の粗密によって重なり合う面積が変化して、２画素の総面積や副走査方向長が変化する状態になる。
この図１９における重なり合う２画素の総面積や副走査方向長は、用紙上では２画素のトナー付着面積（トナー付着量、濃度）を意味している。ここで、重なりが大きく２画素の総面積や副走査方向長が減少した場合には用紙上では濃度の減少として現れ、重なりが小さく２画素の総面積や副走査方向長が増大した場合には用紙上では濃度の増大として現れることになる。すなわち、揺動ミラーを用いた場合の隣接主走査ライン間隔の粗密によって、濃度むらが発生することを意味している。

例えば、図１９において、２画素分の太さを有する主走査方向の線（図１９中では横線）の画像を２本形成した場合と仮定すると、図１９の具体例では、１本目では低濃度〜高濃度の横線が形成され、２本目では高濃度〜低濃度の横線が形成されることになる。また、副走査方向に隣接する２画素からなるドットを含む中間調の画像では、左右で異なる濃度に視認されることになる。なお、ここでは２画素のみを示したが、他の画素数でも同様の問題が生じることがある。

この図１９のような濃度むらの問題やその解決手段については、以上の特許文献１−４のいずれにも開示されていなかった。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において生じる濃度むらを良好に解消することが可能な画像形成装置および画像形成制御プログラムを実現することを目的とする。

すなわち、課題を解決する手段としての本発明は以下に説明するものである。
（１）本発明の一側面が反映された画像形成装置の一態様は、発光部を有する光源からの光ビームを像担持体の主走査方向に走査すると共に前記像担持体を前記主走査方向と直交する副走査方向に駆動することで前記像担持体上に画像を形成する画像形成部を有する画像形成装置であって、画像データに応じて前記発光部を所定の発光量で発光させるよう発光駆動する発光駆動部と、前記発光部から出射される光ビームを反射面の揺動運動により主走査方向に往復走査させる揺動ミラーと、画像データに含まれる着目画素が副走査方向上流側エッジであるか副走査方向下流側エッジであるかを判別する画像処理部と、主走査位置に応じて副走査方向に発生する濃度むらを解消するように定められた補正値を記憶する記憶部と、前記揺動ミラーの揺動運動と前記像担持体の駆動とを制御し、前記像担持体における前記光ビームの主走査方向の照射位置と当該光ビームの走査方向と画像データのエッジ判別結果とに応じて、前記補正値に基づいて、前記発光部の発光量を補正するように前記発光駆動部を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。

また、本発明の一側面が反映された画像形成制御プログラムの一態様は、発光部を有する光源からの光ビームを像担持体の主走査方向に走査すると共に前記像担持体を前記主走査方向と直交する副走査方向に駆動する画像形成装置を制御する画像形成制御プログラムであって、画像データに応じて前記発光部を所定の発光量で発光させるよう発光駆動する発光駆動部、前記発光部から出射される光ビームを反射面の揺動運動により主走査方向に往復走査させる揺動ミラー、画像データに含まれる着目画素が副走査方向上流側エッジであるか副走査方向下流側エッジであるかを判別する画像処理部、主走査位置に応じて副走査方向に発生する濃度むらを解消するように定められた補正値を記憶する記憶部と、前記揺動ミラーの揺動運動と前記像担持体の駆動とを制御し、前記像担持体における前記光ビームの主走査方向の照射位置と当該光ビームの走査方向と画像データのエッジ判別結果とに応じて、前記補正値に基づいて、前記発光部の発光量を補正するように前記発光駆動部を制御する制御部、として画像形成装置のコンピュータを機能させる。

（２）以上の(１）において、前記制御部は、着目画素が前記エッジ判別結果が副走査方向上流側エッジであると判別された場合、前記着目画素と副走査方向下流側で前記着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より小さい場合には、前記補正値に基づいて前記発光部の発光量を増大させるように補正し、前記着目画素と副走査方向下流側で前記着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より大きい場合には、前記補正値に基づいて前記発光部の発光量を減少させるように補正する。

（３）以上の(１）−（２）において、前記制御部は、着目画素が前記エッジ判別結果が副走査方向下流側エッジであると判別された場合、前記着目画素と副走査方向上流側で前記着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より小さい場合には、前記補正値に基づいて前記発光部の発光量を増大させるように補正し、前記着目画素と副走査方向上流側で前記着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より大きい場合には、前記補正値に基づいて前記発光部の発光量を減少させるように補正する。

（４）以上の(１）−（３）において、前記制御部は、前記既定値を、主走査方向の中央付近における前記光ビームの副走査方向の間隔、又は、前記光ビームの全体の副走査方向の間隔の平均値により定める。
（５）以上の(１）−（４）において、前記揺動ミラーで主走査される光ビームの光路上であって画像領域外の両端で前記光ビームの検知するセンサを備えて構成され、前記制御部は、走査される前記光ビームが前記センサで検知された時間間隔の平均値に応じて、副走査方向上流側エッジと副走査方向下流側エッジで副走査方向に発生する濃度むらが解消されるように前記発光部の発光量を補正するように前記発光駆動部を制御する。

（６）以上の(１）−（４）において、前記揺動ミラーで主走査される光ビームの光路上であって画像領域外の両端で前記光ビームの検知するセンサを備えて構成され、前記制御部は、走査される前記光ビームが前記センサで検知された時間間隔の測定値に応じて、副走査方向下流側エッジで副走査方向に発生する濃度むらが解消されるように前記発光部の発光量を補正するように前記発光駆動部を制御する。

（７）以上の(１）−（６）において、前記制御部は、副走査方向上流側エッジと副走査方向下流側エッジのいずれにも該当しない画素に対応する発光部では光量を変更しない。
（８）以上の(１）−（７）において、前記光源は、像担持体における光ビームの隣接する主走査ラインの間隔よりも大きいスポット径の光ビームを前記像担持体上に形成し、前記制御部は、発光量の補正により上流側エッジ又は下流側エッジの位置を調整する。

本発明の一側面が反映された画像形成装置と画像形成制御プログラムの一態様によると、以下のような効果が得られる。
（１）本発明の一側面が反映された画像形成装置の一態様は、発光部から出射される光ビームを揺動ミラーの揺動運動により像担持体上で主走査方向に往復走査させると共に像担持体を副走査方向に駆動して画像を形成する際に、画像データに含まれる着目画素が副走査方向上流側エッジであるか副走査方向下流側エッジであるかを判別し、像担持体における光ビームの主走査方向の照射位置と当該光ビームの走査方向と画像データのエッジ判別結果とに応じて、主走査位置に応じて副走査方向に発生する濃度むらを解消するように定められた補正値に基づいて、発光駆動部が発光部の発光量を補正する。

これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）がサインカーブに近い形状になり、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じて、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

（２）以上の(１）において、着目画素がエッジ判別結果が副走査方向上流側エッジであると判別された場合、着目画素と副走査方向下流側で着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より小さい場合には、補正値に基づいて発光部の発光量を増大させるように補正し、着目画素と副走査方向下流側で着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より大きい場合には、補正値に基づいて発光部の発光量を減少させるように補正する。

これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じて、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

（３）以上の(１）−（２）において、着目画素がエッジ判別結果が副走査方向下流側エッジであると判別された場合、着目画素と副走査方向上流側で着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より小さい場合には、補正値に基づいて発光部の発光量を増大させるように補正し、着目画素と副走査方向上流側で着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より大きい場合には、補正値に基づいて発光部の発光量を減少させるように補正する。

これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じて、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

（４）以上の(１）−（３）において、既定値を、主走査方向の中央付近における光ビームの副走査方向の間隔、又は、光ビームの全体の副走査方向の間隔の平均値により定める。
これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）がサインカーブに近い形状になり、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じて、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を主走査方向全体にわたって相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

（５）以上の(１）−（４）において、揺動ミラーで主走査される光ビームの光路上であって画像領域外の両端で光ビームの検知するセンサを設け、走査される光ビームがセンサで検知された時間間隔の平均値に応じて、副走査方向上流側エッジと副走査方向下流側エッジで副走査方向に発生する濃度むらが解消されるように発光部の発光量を補正するように発光駆動部を制御する。

これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）がサインカーブに近い形状になり、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じて、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を副走査方向上流側エッジと副走査方向下流側エッジで確実に相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

（６）以上の(１）−（４）において、揺動ミラーで主走査される光ビームの光路上であって画像領域外の両端で光ビームの検知するセンサを設け、走査される光ビームがセンサで検知された時間間隔の測定値に応じて、副走査方向下流側エッジで副走査方向に発生する濃度むらが解消されるように発光部の発光量を補正するように発光駆動部を制御する。

これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）がサインカーブに近い形状になり、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じて、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を副走査方向下流側エッジで確実に相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

（７）以上の(１）−（６）において、副走査方向上流側エッジと副走査方向下流側エッジのいずれにも該当しない画素に対応する発光部では光量を変更しない。
これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）がサインカーブに近い形状になり、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じて、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。また、濃度むらに影響の無い部分については影響を与えることがない。

（８）以上の(１）−（７）において、像担持体における光ビームの隣接する主走査ラインの間隔よりも大きいスポット径の光ビームを像担持体上に形成し、発光量の補正により上流側エッジ又は下流側エッジの位置を調整する。
これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）がサインカーブに近い形状になり、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じて、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

本発明の実施形態の画像形成装置の構成を示すブロック図である。 本発明の一実施形態の画像形成の動作を示すフローチャートである。 本発明の一実施形態の画像形成による走査の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成による信号処理を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成でのエッジ検出を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 本発明の一実施形態の画像形成の様子を示す説明図である。 揺動ミラーを主走査に用いた従来の様子を示す説明図である。

以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態（実施形態）を詳細に説明する。なお、以下の説明において、画像形成装置１００における制御部１０１の制御は、画像形成制御プログラムにより実行される。
〔画像形成装置の構成〕
以下、本実施形態の画像形成装置１００の第１の実施形態の構成を、図１に基づいて詳細に説明する。なお、ここでは説明のために光源から単一の光ビームが発生するものを具体例にするが、光源から複数の光ビームを同時に発生させるマルチビームの構成であっても構わない。また、ここでは、単色の画像形成を行う場合を具体例にしているが、複数色のカラー画像を形成する画像形成装置であっても構わない。また、この実施形態では、画像形成装置１００において本実施形態に関連する構成要件を中心に説明する。したがって、画像形成装置として一般的であり、周知となっている構成要件については説明を省略している。

この図１において、画像形成装置１００は、制御部１０１、画素クロック生成部１０２、記憶部１０３、操作表示部１０５、画像入力部１０７、画像読み取り部１１０、画像データ記憶部１２０、画像処理部１３０、発光駆動部１４０、画像形成部１５０、を備えて構成される。

ここで、制御部１０１は画像形成装置１００の各部を制御するためにＣＰＵや各種プロセッサなどで構成され、画像データや所定の命令データに応じて光ビームの発生の制御を行う。また、本実施形態において、制御部１０１は、主走査方向端部で生じる濃度むらを解消するため、発光駆動部１４０に対して光ビームの光量補正の制御を行う。画素クロック生成部１０２は、基本クロック等を元にして、画像形成時の１ドットに合致したタイミングの画素クロックを生成して、画像処理部１３０や発光駆動部１４０等に供給する。記憶部１０３は、不揮発性の記憶素子により構成された記憶手段であり、各種設定値やチャートのパターン等を記憶する。なお、本実施形態において、記憶部１０３は、主走査位置に応じて副走査方向に発生する濃度むらを解消するように定められた補正値を記憶する。操作表示部１０５は、ユーザによる各種操作を操作部で受け付けて制御部１０１に操作内容を通知し、制御部１０１からの情報を可視化して表示部に表示する。画像入力部１０７は、入力インタフェースであり、外部機器から画像データの入力を受け付ける。画像読み取り部１１０は、原稿やチャートの画像を読み取って、読み取り画像データを生成するスキャナである。画像データ記憶部１２０は、画像形成用画像データや読み取り画像データを必要な期間保存するストレージである。画像処理部１３０は、画像形成用画像データや読み取り画像データに各種の画像処理を施す。なお、本実施形態では、画像処理部１３０は、画像データに含まれる着目画素が、副走査方向上流側エッジであるか、副走査方向下流側エッジであるかを判別する。発光駆動部１４０は、制御部１０１の制御に基づいて、画像処理部１３０で画像処理された画像データに応じた光ビームを発生させるように光源を発光駆動する。なお、本実施形態において、主走査位置に応じて副走査方向に生じる濃度むらを解消するため、制御部１０１の制御により光ビームの光量が制御される。

画像形成部１５０は、光ビームで像担持体１５９ａを走査する露光ユニットを備えた画像形成部である。この露光ユニットは、後述する各種の光学部品で構成されている。
この図１において、画像形成部１５０は、露光ユニットを中心に記載しており、光源１５１、コリメータレンズ１５２、シリンドリカルレンズ１５３、揺動走査部１５４（揺動ミラー１５４ａと揺動ミラー駆動部１５４ｂ）、ｆθレンズ１５５、シリンドリカルレンズ１５６、ミラー１５７（ミラー１５７ａ、ミラー１５７ｂ）、センサ１５８（センサ１５８ａ、センサ１５８ｂ）、像担持体１５９ａ、副走査駆動部１５９ｂ、を備えて構成されている。

なお、像担持体１５９ａ周囲の、帯電部、現像部、転写部、用紙搬送部などについては、既知の構成であるため、図示省略している。
光源１５１は、１又は複数の発光部を有する半導体レーザ等の光源である。コリメータレンズ１５２と、シリンドリカルレンズ１５３は、光源１５１からの光ビームについて光学的に各種調整をする。揺動ミラー１５４ａ備えた揺動走査部１５４は、揺動ミラー駆動部１５４ｂにより駆動され、像担持体１５９ａ上で光ビームを主走査方向に走査する。

揺動走査部１５４揺動ミラー１５４ａと揺動ミラー駆動部１５４ｂとを含み、半導体製造技術を応用して微小機械を半導体基板上に一体形成するマイクロマシニング技術を用いて形成されるものである。ここで、揺動の中心は、像担持体１５９ａの画像領域の中心と一致している。揺動ミラー駆動部１５４ｂは、駆動信号に基づいて揺動ミラー１５４ａに対して静電気的、電磁気的あるいは機械的な外力を作用させて、揺動ミラー１５４ａを駆動信号の周波数で揺動させる。なお、揺動ミラー駆動部１５４ｂによる揺動ミラー１５４ａの駆動方式は、静電吸着、電磁気力あるいは機械力などのいずれの方式を採用してもよく、それ等の駆動方式は周知であるため、ここでは説明を省略する。

ｆθレンズ１５５は、光学的に走査角度の調整を行い、光ビームについて角度一定の状態から像担持体上の速度一定の状態に変換する。シリンドリカルレンズ１５６は、複数の光ビームについて光学的な調整を行う。
ミラー１５７ａは、画像領域外で所定位置の光ビームをセンサ１５８ａに導き、第１水平同期信号の検出を行う。ミラー１５７ｂは、画像領域外で所定位置の光ビームをセンサ１５８ｂに導き、第２水平同期信号の検出を行う。なお、このセンサ１５８ａとセンサ１５８ｂとは、水平同期センサやＳＯＳセンサなどと呼ばれることもある。

そして、以上のようにして走査される光ビームが像担持体１５９ａ上に主走査方向に走査され、副走査駆動部１５９ｂにより像担持体１５９ａが副走査方向に回転して副走査がなされ、像担持体１５９ａ表面には光ビームに応じた２次元の潜像が形成される。
なお、像担持体１５９ａ上に照射された光ビームによって形成される潜像は、図示されない現像部によりトナー像にされ、図示されない転写部によって用紙に転写される。用紙上のトナー像は図示されない定着部によって定着され、用紙は画像形成装置１００の外部に排出される。

〔実施形態の動作〕
以下、第１実施形態としての画像形成装置の動作、及び画像形成装置を制御する画像形成制御プログラムの処理手順について、図２に示すフローチャートを参照して説明する。
画像形成装置１００の電源オンにより、制御部１０１は画像形成装置１００内の各部を初期化する。初期化作業が完了した後、制御部１０１は、プリント実行指示を待つ（図２中のステップＳ１００）。

プリント実行指示が操作表示部１０５等から入力されると（図２中のステップＳ１００でＹＥＳ）、制御部１０１は、これから光ビームを照射すべき像担持体１５９ａ上での位置（光ビーム照射位置）、すなわち着目画素を把握する（図２中のステップＳ１０１）。
本実施形態の構成において、光ビームは揺動ミラー１５４ａによって主走査がなされるため、光ビームの軌跡（主走査ライン）は、図３の実線のように、第１方向の光ビームの移動と反転、第２方向の光ビームの移動と反転を繰り返すことで、像担持体１５９ａ上ではサインカーブに近い形状になっている。

ここで、図４（ａ）はセンサ１５８ａにより検出される第１水平同期信号を示し、図４（ｂ）はセンサ１５８ｂにより検出される第２水平同期信号を示している。この図４において、第１水平同期信号（図４（ａ）中のＬレベル部分）から第２水平同期信号（図４（ｂ）中のＬレベル部分）までの期間が図３における第１方向の画像領域であり、第２水平同期信号（図４（ｂ）中のＬレベル部分）から第１水平同期信号（図４（ａ）中のＬレベル部分）までの期間が図３における第２方向の画像領域である。すなわち、制御部１０１は、センサ１５８ａとセンサ１５８ｂの検出結果を受けて、それまでの第１水平同期信号と第２水平同期信号の検出時刻と現時刻とから、走査中の光ビームの照射位置と移動方向とを推測することができる。

また、制御部１０１の指示を受けた画像処理部１４０は、これから光ビームを照射すべき像担持体１５９ａ上での位置（光ビーム照射位置、すなわち着目画素）が、画像データにおいて上流側エッジに該当するか、画像データにおいて下流側エッジに該当するか、を判別する（図２中のステップＳ１０２）。

図５において、ｐ１〜ｐ５まで副走査方向の５画素を判別する場合を例示している（図５（ａ））。ここで、ｐ１はドット無（白）、ｐ２〜ｐ４はドット有（黒）、ｐ５はドット無（白）、であるとする。
まず、ドット有（黒）の画素ｐ２を着目画素としてエッジ判別を行う場合、着目画素ｐ２に対して副走査方向上流側に隣接する画素ｐ１と、着目画素ｐ２に対して副走査方向下流側に隣接する画素ｐ３とを抽出し、ドット有（黒）／ドット無（白）を調べる。画素ｐ２がドット有（黒）である場合に、画素ｐ１がドット無（白）であれば、画素ｐ２が［上流側エッジ］であると判別する（図５（ｂ））。なお、画素ｐ２がドット有（黒）であって、画素ｐ３がドット有（黒）である場合に、画素ｐ３側には［エッジなし］と判別する（図５（ｂ））。

また、ドット有（黒）の画素ｐ３を着目画素としてエッジ判別を行う場合、着目画素ｐ３に対して副走査方向上流側に隣接する画素ｐ２と、着目画素ｐ３に対して副走査方向下流側に隣接する画素ｐ４とを抽出し、ドット有（黒）／ドット無（白）を調べる。画素ｐ２がドット有（黒）であって、画素ｐ４がドット有（黒）である場合に、両側に［エッジなし］と判別する（図５（ｃ））。

また、ドット有（黒）の画素ｐ４を着目画素としてエッジ判別を行う場合、着目画素ｐ４に対して副走査方向上流側に隣接する画素ｐ３と、着目画素ｐ４に対して副走査方向下流側に隣接する画素ｐ５とを抽出し、ドット有（黒）／ドット無（白）を調べる。画素ｐ４がドット有（黒）である場合に、画素ｐ５がドット無（白）であれば、画素ｐ４が［下流側エッジ］であると判別する（図５（ｄ））。なお、画素ｐ４がドット有（黒）であって、画素ｐ３がドット有（黒）である場合に、画素ｐ３側には［エッジなし］と判別する（図５（ｄ））。

すなわち、副走査方向上流側エッジか副走査方向下流側エッジかのエッジ判別は、以下のアルゴリズムに基づいて、画像処理部１４０又は制御部１０１が行う。
・上流側エッジ：副走査方向の下流側のみにドットが存在する。
・エッジなし ：副走査方向の上流側／下流側共にドットが存在する。

・下流側エッジ：副走査方向の上流側のみにドットが存在する。
なお、この図５では着目画素がｐ２，ｐ３，ｐ４の場合を連続して説明したが、ステップＳ１０２では、これから光ビームを照射すべき像担持体１５９ａ上での位置（光ビーム照射位置）での画素を着目画素として上述した判別を行えば良い。

以上のエッジ判別により着目画素が、副走査方向上流側エッジでも副走査方向下流側エッジでもないと判別された場合（図２中のステップＳ１０３でＮＯ）、制御部１０１は、光ビームの最大光量を通常値になるよう発光駆動部１４０を設定する（図２中のステップＳ１０４）。

そして、発光駆動部１４０は、画像処理部１３０から受信した着目画素の画像データと、制御部１０１からの最大光量の設定とに応じた光量で着目画素の光ビームを発生させる（図２中のステップＳ１１２）。
以上のエッジ判別により着目画素が、副走査方向上流側エッジであると判別された場合（図２中のステップＳ１０３でＹＥＳ、ステップＳ１０５でＹＥＳ）、制御部１０１は、光ビーム走査方向として、その副走査方向上流側エッジが主走査反転前であるか主走査反転後であるかを判定する（図２中のステップＳ１０６）。同様に、以上のエッジ判別により着目画素が、副走査方向下流側エッジであると判別された場合（図２中のステップＳ１０３でＹＥＳ、ステップＳ１０５でＮＯ）、制御部１０１は、光ビーム走査方向として、その副走査方向下流側エッジが主走査反転前であるか主走査反転後であるかを判定する（図２中のステップＳ１０７）。

ここで、図３の第１方向と第２方向の画像領域中において、既に通過した主走査反転よりも次の主走査反転に近い側を「主走査反転前」、次の主走査反転よりも既に通過した主走査反転に近い側を「主走査反転後」、と呼ぶことにする。
なお、「主走査反転前」は「次の主走査反転位置に接近している」という相対的な「主走査方向」を意味しており、「主走査反転後」は「前の主走査反転位置から離反している」という相対的な「主走査方向」を意味している。すなわち、本実施形態において、主走査反転前と主走査反転後という状態は、絶対的な右方向や左方向といった方向ではなく、主走査反転位置に対する相対的な主走査方向を表しているものとする。

ここで、着目画素が副走査方向上流側エッジであって主走査反転前であれば（図２中のステップＳ１０５でＹＥＳ、ステップＳ１０６でＹＥＳ）、副走査方向に隣接する画素との間隔が狭くなっているため（図６（ａ）、図７（ａ１）参照）、記憶部１０３に記憶されている補正値を主走査位置に応じて参照し、光ビームの光量を通常値より増大させる（図２中のステップＳ１０８）。この光量増大により、図７（ａ１）から図７（ａ２）のようになり、副走査方向に隣接する画素との間隔を広げて適正間隔にすることが可能になる。

同様に、着目画素が副走査方向上流側エッジであって主走査反転後であれば（図２中のステップＳ１０５でＹＥＳ、ステップＳ１０６でＮＯ）、副走査方向に隣接する画素との間隔が広くなっているため（図６（ｂ）、図７（ｂ１）参照）、記憶部１０３に記憶されている補正値を主走査位置に応じて参照し、光ビームの光量を通常値より減少させる（図２中のステップＳ１０９）。この光量減少により、図７（ｂ１）から図７（ｂ２）のようになり、副走査方向に隣接する画素との間隔を狭めて適正間隔にすることが可能になる。

同様に、着目画素が副走査方向下流側エッジであって主走査反転後であれば（図２中のステップＳ１０５でＮＯ、ステップＳ１０７でＹＥＳ）、副走査方向に隣接する画素との間隔が狭くなっているため（図６（ｃ）、図７（ｃ１）参照）、記憶部１０３に記憶されている補正値を主走査位置に応じて参照し、光ビームの光量を通常値より増大させる（図２中のステップＳ１１０）。この光量増大により、図７（ｃ１）から図７（ｃ２）のようになり、副走査方向に隣接する画素との間隔を広げて適正間隔にすることが可能になる。

同様に、着目画素が副走査方向下流側エッジであって主走査反転前であれば（図２中のステップＳ１０５でＮＯ、ステップＳ１０７でＮＯ）、副走査方向に隣接する画素との間隔が広くなっているため（図６（ｄ）、図７（ｄ１）参照）、記憶部１０３に記憶されている補正値を主走査位置に応じて参照し、光ビームの光量を通常値より減少させる（図２中のステップＳ１１１）。この光量減少により、図７（ｄ１）から図７（ｄ２）のようになり、副走査方向に隣接する画素との間隔を狭めて適正間隔にすることが可能になる。

なお、図７では同一主走査位置における状態を説明したが、同一副走査位置における状態を示せば図８のようになる。ここで、図８において、（ａ１）、（ａ２）、（ｂ１）、（ｂ２）（ｃ１）、（ｃ２）、（ｄ１）、（ｄ２）、それぞれは、図７における（ａ１）、（ａ２）、（ｂ１）、（ｂ２）（ｃ１）、（ｃ２）、（ｄ１）、（ｄ２）と同じ状態の光量の補正を示している。すなわち、副走査方向に隣接する画素との間隔を光量の調整により適正間隔にすることが可能になる。

すなわち、本実施形態では、図６や図７に示すように、像担持体１５９ａにおける光ビームの隣接する主走査ライン（副走査方向に隣接する光ビーム軌跡）の間隔よりも大きいスポット径の光ビームを像担持体１５９ａに照射し、発光量の補正により上流側エッジ又は下流側エッジの位置を調整している。

ここで、制御部１０１は、以上のようにしてエッジ判別結果と光ビーム走査方向（主走査反転前であるか主走査反転後であるか）と光ビーム主走査方向照射位置とにより決定した光量補正を実行するように、すなわち光ビームの最大光量が光量補正された値になるよう発光駆動部１４０を設定する。そして、発光駆動部１４０は、画像処理部１３０から受信した着目画素の画像データと、制御部１０１からの最大光量の設定とに応じた光量で着目画素の光ビームを発生させる（図２中のステップＳ１１２）。

そして、制御部１０１は、以上の一連の処理（図２中のステップＳ１０１〜Ｓ１１２）を、次に光ビームを照射すべき像担持体１５９ａ上での位置（光ビーム照射位置）、すなわち着目画素について繰り返し実行する（図２中のステップＳ１１３）。
〔実施形態の動作（２）〕
以上の図６，図７，図８では、光源１５１から１の光ビームが像担持体１５９ａに向けて照射される場合の光量補正の具体例を示していた。一方、光源１５１から副走査方向に整列した複数の光ビームを同時に照射する、いわゆるマルチビームの画像形成を行う場合がある。

図９は、２つの光ビームを同時に照射する場合における、副走査方向画素間隔の状態を示す説明図である。すなわち、副走査方向に隣接する２光ビームと２光ビームとの間隔の変化を示している。
ここで、着目画素（図９（ａ１１））が副走査方向上流側エッジであって主走査反転前であれば、副走査方向に隣接する光ビーム軌跡との間隔が狭くなっているため、記憶部１０３に記憶されている補正値を主走査位置に応じて参照し、着目画素の光量を通常値より増大させる。この光量増大により、図１０（ａ１１）が図１０（ａ２１）になり、図１１（ａ１１）が図１１（ａ２１）になり、副走査方向上流側エッジを広げて適正間隔にすることが可能になる。

同様に、着目画素（図９（ｂ１１））が副走査方向上流側エッジであって主走査反転後であれば、副走査方向に隣接する光ビーム軌跡との間隔が広くなっているため、記憶部１０３に記憶されている補正値を主走査位置に応じて参照し、着目画素の光量を通常値より減少させる。この光量減少により、図１０（ｂ１１）が図１０（ｂ２１）になり、図１１（ｂ１１）が図１１（ｂ２１）になり、副走査方向上流側エッジを狭めて適正間隔にすることが可能になる。

同様に、着目画素（図９（ｃ１２））が副走査方向下流側エッジであって主走査反転後であれば、副走査方向に隣接する光ビーム軌跡との間隔が狭くなっているため、記憶部１０３に記憶されている補正値を主走査位置に応じて参照し、着目画素の光量を通常値より増大させる。この光量増大により、図１０（ｃ１２）が図１０（ｃ２２）になり、図１１（ｃ１２）が図１１（ｃ２２）になり、副走査方向上流側エッジを広げて適正間隔にすることが可能になる。

同様に、着目画素（図９（ｄ１２））が副走査方向下流側エッジであって主走査反転前であれば、副走査方向に隣接する光ビーム軌跡との間隔が狭くなっているため、記憶部１０３に記憶されている補正値を主走査位置に応じて参照し、着目画素の光量を通常値より減少させる。この光量減少により、図１０（ｄ１２）が図１０（ｄ２２）になり、図１１（ｄ１２）が図１１（ｄ２２）になり、副走査方向上流側エッジを狭めて適正間隔にすることが可能になる。

〔実施形態の動作（３）〕
図１２は着目画素の主走査位置と記憶部１０３に格納されている補正値との関係を示す説明図である。ここで、図１２の画像領域中において、既に通過した主走査反転よりも次の主走査反転に近い側を「主走査反転前」、次の主走査反転よりも既に通過した主走査反転に近い側を「主走査反転後」、としている。そして、主走査方向において両端に近づくほど、隣接する光ビーム軌跡との間隔の広／狭が変化するため、補正値が大きくなるようにしている。なお、主走査の中央部付近は隣接する光ビーム軌跡との間隔がほぼ一定であるために、補正値を定めないようにしている。

図１３は着目画素の主走査位置と記憶部１０３に格納されている補正値との関係の他の例を示す説明図である。ここで、図１３の画像領域中において、既に通過した主走査反転よりも次の主走査反転に近い側を「主走査反転前」、次の主走査反転よりも既に通過した主走査反転に近い側を「主走査反転後」、としている。なお、主走査の中央部付近で主走査反転前と主走査反転後とを分けるようにしている。そして、主走査方向において両端に近づくほど、隣接する光ビーム軌跡との間隔の広／狭が変化するため、補正値が大きくなるようにしている。

なお、実際の補正値については、主走査と副操作との関係で定まる光ビームの軌跡に応じて定めることが望ましい。
〔実施形態の動作（４）〕
以上の説明では、揺動ミラー１５４ａの揺動動作による光ビームの主走査範囲の中心と像担持体の中心とが一致していることが前提であった。

しかしながら、図１４に示されるように、揺動ミラー１５４ａの揺動動作によっては光ビームの主走査範囲の中心と像担持体の中心とが一致しなことがある。図１４の例では、主走査の範囲が、センサ１５８ａ側に偏った状態になっている。
この偏り状態は、図１５において、センサ１５８ａで検知される２つの第１水平同期信号の間隔ｔ_aと、センサ１５８ｂで検知される２つの第２水平同期信号の間隔ｔ_bとの比較により判別することができる。すなわち、制御部１０１は、ｔ_a＝ｔ_bであれば偏り無し、ｔ_a＞ｔ_bであればセンサ１５８ａ側に偏り有り、ｔ_a＜ｔ_bであればセンサ１５８ｂ側に偏り有り、と判別する。

この際に、記憶部１０３に記憶させる補正値としては、いずれの偏りにも対応できるように、偏り無しの通常の場合よりも広範囲な補正値を予め作成して格納しておく。そして、制御部１０１は、判別された偏りに応じて、補正値の適用範囲を適宜選択する。
例えば、ｔ_a＝ｔ_bであって偏り無しの場合には、制御部１０１は、図１６中の画像領域適用範囲（１）の補正値を適用する。また、ｔ_a＞ｔ_bであってセンサ１５８ａ側に偏り有りの場合には、センサ１５８ｂ側に隣接光ビーム軌跡間隔の違いが大きくなるため、制御部１０１は、図１６中の画像領域適用範囲（１）の補正値を適用する。そして、ｔ_a＜ｔ_bであってセンサ１５８ｂ側に偏り有りの場合には、センサ１５８ａ側に隣接光ビーム軌跡間隔の違いが大きくなるため、制御部１０１は、図１６中の画像領域適用範囲（３）の補正値を適用する。

なお、図１６では補正値の適用範囲を変更するようにしたが、予め別の補正テーブルを設けておいても良い。
これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）がサインカーブに近い形状になり、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じ、かつ、光ビームの軌跡が主走査方向のいずれかに偏った状態になり、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

また、センサ１５８ａ，１５８ｂで検知された時間間隔の測定値に応じて、副走査方向下流側エッジのみで副走査方向に発生する濃度むらが解消されるように発光量を補正するように発光駆動部１４０を制御することも可能である。この場合も、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）がサインカーブに近い形状になり、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じて、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を副走査方向下流側エッジで確実に相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

〔実施形態の動作（５）〕
以上の動作（４）の説明では、揺動ミラー１５４ａの揺動動作による光ビームの主走査範囲の中心と像担持体の中心とが一致せずに、揺動ミラー１５４ａの揺動動作による光ビームの主走査範囲が偏る場合であった。

これ以外に、揺動ミラー１５４ａの揺動動作による光ビームの主走査範囲の中心と像担持体の中心とが一致しているものの、揺動動作によって主走査範囲の広さが変化する場合がある。
例えば、図１７の光ビームの軌跡（実線）と光ビームの軌跡（破線）とでは、隣接する光ビームの軌跡との間隔の広／狭の状況が変化する。この図１７の例では、光ビームの軌跡が破線の状態であると、光ビームの軌跡が実線の状態よりも、間隔差が大きくなり、濃度差も大きくなる。そこで、この状態を、センサ１５８ａとセンサ１５８ｂで検知される２つの第１水平同期信号と２つの第２水平同期信号の間隔により判別する。

この際に、記憶部１０３に記憶させる補正値としては、いずれの範囲の広さにも対応できるように、通常の場合よりも広範囲な補正値を予め作成して格納しておく。そして、制御部１０１は、判別された状態に応じて、補正値の適用範囲を適宜選択する。
例えば、図１７の実線の光ビームの軌跡の場合には、破線の光ビームの軌跡よりも間隔差が小さくなるため、制御部１０１は、図１８（ａ）中の画像領域適用範囲（１）の補正値を適用する。また、図１７の破線の光ビームの軌跡の場合には、実線の光ビームの軌跡よりも間隔差が大きくなるため、制御部１０１は、図１８（ａ）中の画像領域適用範囲（２）の補正値を適用する。

なお、図１８（ａ）では補正値の適用範囲を変更するようにしたが、図１８（ｂ）の実線と破線のように予め別の特性を補正テーブル中に設けておいても良い。
これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）がサインカーブに近い形状になり、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じ、かつ、光ビームの軌跡の範囲が主走査方向に変化し、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

〔実施形態の動作（６）〕
以上の動作（４）の説明のように揺動ミラー１５４ａの揺動動作による光ビームの主走査範囲の中心と像担持体の中心とが一致せずに揺動ミラー１５４ａの揺動動作による光ビームの主走査範囲が偏る場合と、以上の動作（５）の説明のように揺動ミラー１５４ａの揺動動作による光ビームの主走査範囲の中心と像担持体の中心とは一致するものの揺動ミラー１５４ａの揺動動作による光ビームの主走査範囲の範囲が主走査方向に広がったり狭まったりする場合とが、重なった状態になることもある。このような場合でも、制御部１０１は、センサ１５８ａとセンサ１５８ｂの検知結果を参照して状態を判別し、適切な補正値を記憶部１０３から読み出すことが可能である。

これにより、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成において、揺動ミラーにより走査される光ビームの軌跡（主走査ライン）がサインカーブに近い形状になり、隣接する主走査ラインの間隔に粗密が生じ、光ビームの軌跡が主走査方向のいずれかに偏った状態になり、更に、光ビームの軌跡の範囲が主走査方向に変化し、同一主走査位置で副走査方向に隣接する複数画素の総面積や副走査方向長が変化する場合であっても、その変化を相殺することができるようになり、揺動ミラーを主走査に用いた画像形成で生じる濃度むらを良好に解消することが可能になる。

〔その他の実施形態〕
以上の実施形態の説明において、各発光部の発光及び当該発光により形成されるドットを円で近似して示しているが、実際の形状は図示された円形状に限定されるものではなく、いずれの形状であっても上述した実施形態を適用して良好な結果が得られる。

以上の実施形態では、光ビームとしてレーザビームを用いた電子写真方式の画像形成装置について説明してきたが、これに限定されるものではない。たとえば、レーザビームを用いて印画紙に露光を行うレーザイメージャなど、各種の画像形成装置に本発明の各実施形態を適用することが可能であり、良好な結果を得ることが可能である。

また、光源としては、半導体レーザ（ＬＤ）以外の他の光源を用いた場合であっても適用することが可能である。

１００ 画像形成装置
１０１ 全体制御部
１０２ 画素クロック生成部
１０３ 記憶部
１０５ 操作表示部
１０７ 画像入力部
１１０ 画像読み取り部
１２０ 画像データ記憶部
１３０ 画像処理部
１４０ 発光駆動部
１５０ 画像形成部
１５４ 揺動走査部
１５４ａ 揺動ミラー
１５４ｂ 揺動ミラー駆動部

Claims (9)

1. 発光部を有する光源からの光ビームを像担持体の主走査方向に走査すると共に前記像担持体を前記主走査方向と直交する副走査方向に駆動することで前記像担持体上に画像を形成する画像形成部を有する画像形成装置であって、
   画像データに応じて前記発光部を所定の発光量で発光させるよう発光駆動する発光駆動部と、
   前記発光部から出射される光ビームを反射面の揺動運動により主走査方向に往復走査させる揺動ミラーと、
   画像データに含まれる着目画素が副走査方向上流側エッジであるか副走査方向下流側エッジであるかを判別する画像処理部と、
   主走査位置に応じて副走査方向に発生する濃度むらを解消するように定められた補正値を記憶する記憶部と、
   前記揺動ミラーの揺動運動と前記像担持体の駆動とを制御し、前記像担持体における前記光ビームの主走査方向の照射位置と当該光ビームの走査方向と画像データのエッジ判別結果とに応じて、前記補正値に基づいて、前記発光部の発光量を補正するように前記発光駆動部を制御する制御部と、
   を備えたことを特徴とする画像形成装置。
2. 前記制御部は、
   着目画素が前記エッジ判別結果が副走査方向上流側エッジであると判別された場合、
   前記着目画素と副走査方向下流側で前記着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より小さい場合には、前記補正値に基づいて前記発光部の発光量を増大させるように補正し、
   前記着目画素と副走査方向下流側で前記着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より大きい場合には、前記補正値に基づいて前記発光部の発光量を減少させるように補正する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
3. 前記制御部は、
   着目画素が前記エッジ判別結果が副走査方向下流側エッジであると判別された場合、
   前記着目画素と副走査方向上流側で前記着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より小さい場合には、前記補正値に基づいて前記発光部の発光量を増大させるように補正し、
   前記着目画素と副走査方向上流側で前記着目画素に隣接する画素との間隔が既定値より大きい場合には、前記補正値に基づいて前記発光部の発光量を減少させるように補正する、
   ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の画像形成装置。
4. 前記制御部は、前記既定値を、主走査方向の中央付近における前記光ビームの副走査方向の間隔、又は、前記光ビームの全体の副走査方向の間隔の平均値により定める、
   ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の画像形成装置。
5. 前記揺動ミラーで主走査される光ビームの光路上であって画像領域外の両端で前記光ビームの検知するセンサを備えて構成され、
   前記制御部は、走査される前記光ビームが前記センサで検知された時間間隔の平均値に応じて、副走査方向上流側エッジと副走査方向下流側エッジで副走査方向に発生する濃度むらが解消されるように前記発光部の発光量を補正するように前記発光駆動部を制御する、
   ことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の画像形成装置。
6. 前記揺動ミラーで主走査される光ビームの光路上であって画像領域外の両端で前記光ビームの検知するセンサを備えて構成され、
   前記制御部は、走査される前記光ビームが前記センサで検知された時間間隔の測定値に応じて、副走査方向下流側エッジで副走査方向に発生する濃度むらが解消されるように前記発光部の発光量を補正するように前記発光駆動部を制御する、
   ことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の画像形成装置。
7. 前記制御部は、副走査方向上流側エッジと副走査方向下流側エッジのいずれにも該当しない画素に対応する発光部では光量を変更しない、
   ことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の画像形成装置。
8. 前記光源は、像担持体における光ビームの隣接する主走査ラインの間隔よりも大きいスポット径の光ビームを前記像担持体上に形成し、
   前記制御部は、発光量の補正により上流側エッジ又は下流側エッジの位置を調整する、
   ことを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の画像形成装置。
9. 発光部を有する光源からの光ビームを像担持体の主走査方向に走査すると共に前記像担持体を前記主走査方向と直交する副走査方向に駆動する画像形成装置を制御する画像形成制御プログラムであって、
   画像データに応じて前記発光部を所定の発光量で発光させるよう発光駆動する発光駆動部、
   前記発光部から出射される光ビームを反射面の揺動運動により主走査方向に往復走査させる揺動ミラー、
   画像データに含まれる着目画素が副走査方向上流側エッジであるか副走査方向下流側エッジであるかを判別する画像処理部、
   主走査位置に応じて副走査方向に発生する濃度むらを解消するように定められた補正値を記憶する記憶部と、
   前記揺動ミラーの揺動運動と前記像担持体の駆動とを制御し、前記像担持体における前記光ビームの主走査方向の照射位置と当該光ビームの走査方向と画像データのエッジ判別結果とに応じて、前記補正値に基づいて、前記発光部の発光量を補正するように前記発光駆動部を制御する制御部、
   として画像形成装置のコンピュータを機能させる画像形成制御プログラム。
   

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