JP2008103702A - ヘテロ構造を有する細長い単結晶ナノ構造に基づくトンネル効果トランジスタ - Google Patents
ヘテロ構造を有する細長い単結晶ナノ構造に基づくトンネル効果トランジスタ Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】TFETのソース(又は代わりにドレイン)領域として機能する、異なった半導体材料からなる細長い単結晶ナノ構造を導入する。ヘテロ部分の導入は、シリコンとゲルマニウムの間の格子不整合が高い欠陥界面とならないように行われる。従来のMOSFETに匹敵する、静的電力の低減と同様に動的電力の低減が行われる。細長い単結晶ナノ構造のSi/GeTFETによる超高密度オンチップトランジスタを用いた、多層の論理が期待される。
【選択図】図2
Description
平面に横たわる基板を準備する工程と、
基板の上に触媒を選択的に提供する工程と、
例えばナノワイヤ構造のような、細長い単結晶ナノ構造を成長させる工程であって、細長い単結晶ナノ構造は、第1半導体材料からなる集積されたドレイン(代わりにソース)領域およびチャネル領域と、第1半導体材料とは異なった格子定数を有する第2半導体材料からなるヘテロ部分とを有し、ヘテロ部分はソース(代わりにドレイン)領域として機能する細長い単結晶ナノ構造を成長させる工程と、
ドレイン(代わりにソース)領域、チャネル領域、およびヘテロ部分を、所望のドーピングレベルとドーパントタイプに、選択的にドーピングする工程と、を含む。
かかる方法の幾つかの具体例の更なる工程は、以下の工程の1又はそれ以上を含む。即ち、
細長い単結晶ナノ構造のドレイン領域に、(集積された)ドレインコンタクトを形成する工程と、
細長い単結晶ナノ構造のサイドウォール上に、例えばゲート酸化物のようなゲート誘電体を堆積する工程と、
ゲート誘電体の上に、ゲートコンタクトを堆積する工程と、
細長い単結晶ナノ構造のヘテロ部分の上に、ソース(代わりにドレイン)コンタクトを形成する工程と、である。
Claims (29)
- 少なくとも1つの細長い単結晶ナノ構造(NW−TFET)を含み、細長い単結晶ナノ構造は、第1半導体材料からなる第1部分と、第1半導体材料とは異なった格子定数を有する第2半導体材料からなる第2部分とを有するトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置であって、
NW−TFETのソース及びドレイン領域(3)の少なくとも1つが第1部分に配置され、第1導電型に高ドープされ、
NW−TFETのソース及びドレイン領域の少なくとも1つが第2部分(ヘテロ部分(9)とよばれる)に配置され、第2導電型に高ドープされ、
第1半導体材料のチャネル領域(4)が、第1導電型または第2導電型に低ドープされて、ソースとドレイン領域の間に配置され、
細長い単結晶ナノ構造のチャネル領域上にゲート構造が配置され、ゲート構造は、ゲート誘電体(8)と、そのゲート誘電体の上に配置されたゲートコンタクト(7)を含む、トンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。 - ゲート構造が、細長い単結晶ナノ構造のチャネル領域を完全に覆う請求項1に記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 更に、ソース領域とドレイン領域のそれぞれの上に電気的コンタクト(2、6)を含む請求項1または2に記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 第1半導体材料は、IV族材料およびその2元系化合物、III/V族材料およびその2元系、3元系、および4元系化合物、またはII/VI族材料およびその2元系、3元系、および4元系化合物、の少なくとも1つから選択される請求項1〜3のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 第1半導体材料が、シリコンを含む請求項1〜4のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ヘテロ部分が、細長い単結晶ナノ構造の第1半導体材料とは格子定数が異なる第2半導体材料からなる請求項1〜5のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 第2半導体材料は、IV族材料およびその2元系化合物、III/V族材料およびその2元系、3元系、および4元系化合物、またはII/VI族材料およびその2元系、3元系、および4元系化合物、の少なくとも1つから選択される請求項1〜6いずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 第2半導体材料は、ゲルマニウムまたはSi1−xGex(x>0.5)を含む請求項1〜7のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 第2半導体材料は、第1半導体材料より小さなバンドギャップを有する請求項1〜8のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 第2半導体材料は、第1半導体材料とは異なった電子親和力を有する請求項1〜9のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 第2半導体材料は、その導電型がp型の場合に、第1半導体材料より小さな電子親和力を有し、第2半導体材料は、その導電型がn型の場合に、第1半導体材料より大きな電子親和力を有する請求項1〜10のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ヘテロ部分は、金属(Al、W、Ta、Ti、Ru、Pd、Rh、Re、Pt、およびそれらの合金)、シリサイド、ゲルマナイド、金属ナイトライド、導電性酸化物、シリサイド金属、金属ゲルマナイド、およびそれらの合金また混合物の少なくとも1つから選択される請求項1〜5のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 少なくとも1つの細長いナノ構造の直径は、10nmと500nmの間である請求項1〜12のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 少なくとも1つの細長いナノ構造の長さは、5nmと2μmの間、好適には10nmと1μmの間である請求項1〜13のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ゲート誘電体は、シリコンベース酸化物、アルミニウム酸化物、high−k酸化物、遷移金属のシリケイトおよびナイトライドシリケイトの少なくとも1つから選択される請求項1〜14のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ゲート誘電体は、ハフニウム酸化物である請求項15に記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ゲートコンタクトは導電性材料からなり、多結晶シリコン、多結晶ゲルマニウム、金属または金属合金、金属ナイトライド、金属シリコンナイトライド、導電性酸化物、フリーシリサイド材料、フリーゲルマナイド、仕事関数調整金属、特定のゲート仕事関数を得るための設計材料の少なくとも1つから選択される請求項1〜16のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ゲートコンタクトは、特に第1および第2半導体材料、ゲート誘電体、およびゲート誘電体膜厚のために仕事関数が設計された金属からなる請求項1〜17のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ヘテロ部分およびソース領域(ドレイン領域)のそれぞれの上の電気的コンタクトは、シリケイト含有構造、ゲルマナイド含有構造、金属含有構造、多結晶シリコン、またはそれらの組み合わせの少なくとも1つから選択される導電性材料である請求項1〜18のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ヘテロ部分およびソース領域(ドレイン領域)のそれぞれの上の電気的コンタクトは、金属とシリサイドの組み合わせである請求項1〜19のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- チャネル領域の長さは、1nmから1000nmの範囲、好適には1nmから100nmの範囲である請求項1〜20のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ゲート誘電体の膜厚は、0.5nmから20nmの範囲である請求項1〜21のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ヘテロ部分およびソース領域(ドレイン領域)のドーピングレベルは、1018/ccから1021/ccの範囲、好適には1019/ccから5×1020/ccの範囲である請求項1〜22のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- ヘテロ部分およびソース領域(ドレイン領域)のドーピングレベルは、1018/ccから1021/ccの範囲、好適には1019/ccから5×1020/ccの範囲である請求項1〜23のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- チャネル領域のドーピングレベルは、1016/ccドーピングまでのノンドープの範囲、好適には1014/ccドーピングまでのノンドープの範囲である請求項1〜24のいずれかに記載のトンネル電界効果トランジスタ(TFET)半導体装置。
- 細長い単結晶ナノ構造トンネル電界効果トランジスタ(NW−TFET)の製造方法であって、
平面に横たわる基板を準備する工程と、
基板の上に触媒を選択的に提供する工程と、
例えばナノワイヤ構造のような、細長い単結晶ナノ構造を成長させる工程であって、細長い単結晶ナノ構造は、第1半導体材料からなる集積されたドレイン(代わりにソース)領域およびチャネル領域と、第1半導体材料とは異なった格子定数を有する第2半導体材料からなるヘテロ部分とを有し、ヘテロ部分はソース(代わりにドレイン)領域として機能する細長い単結晶ナノ構造を成長させる工程と、
ドレイン(代わりにソース)領域、チャネル領域、およびヘテロ部分を、所望のドーピングレベルとドーパントタイプに、選択的にドーピングする工程と、
細長い単結晶ナノ構造のドレイン領域に、(集積された)ドレインコンタクトを形成する工程と、
細長い単結晶ナノ構造のサイドウォール上に、例えばゲート酸化物のようなゲート誘電体を堆積する工程と、
ゲート誘電体の上に、ゲートコンタクトを堆積する工程と、
細長い単結晶ナノ構造のヘテロ部分の上に、ソース(代わりにドレイン)コンタクトを形成する工程と、を含む製造方法。 - 基板は、Siウエハである請求項26に記載の製造方法。
- 基板(1)の上にソースコンタクト(2)を形成した後に、触媒を堆積する請求項26または27に記載の製造方法。
- 請求項1〜23のいずれかに記載の細長い単結晶ナノ構造のトンネル電界効果トランジスタ(NW−TFET)半導体装置を作製するための、請求項26〜28に記載の製造方法の使用。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011040012A1 (ja) | 2009-09-30 | 2011-04-07 | 国立大学法人北海道大学 | トンネル電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
JP2012514345A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | インテル コーポレイション | トンネル電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
JP2013153151A (ja) * | 2011-12-21 | 2013-08-08 | Imec | トンネル電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
CN105390531A (zh) * | 2015-10-27 | 2016-03-09 | 北京大学 | 一种隧穿场效应晶体管的制备方法 |
KR20160033566A (ko) * | 2014-09-18 | 2016-03-28 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 반도체 장치 및 방법 |
US9614042B2 (en) | 2015-03-06 | 2017-04-04 | International Business Machines Corporation | Heterojunction tunnel field effect transistor fabrication using limited lithography steps |
TWI604604B (zh) * | 2015-10-15 | 2017-11-01 | 上海新昇半導體科技有限公司 | 互補金氧半場效電晶體及其製備方法 |
Families Citing this family (51)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1900681B1 (en) | 2006-09-15 | 2017-03-15 | Imec | Tunnel Field-Effect Transistors based on silicon nanowires |
US7893476B2 (en) * | 2006-09-15 | 2011-02-22 | Imec | Tunnel effect transistors based on silicon nanowires |
US7812370B2 (en) * | 2007-07-25 | 2010-10-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Tunnel field-effect transistor with narrow band-gap channel and strong gate coupling |
US7834345B2 (en) * | 2008-09-05 | 2010-11-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Tunnel field-effect transistors with superlattice channels |
US8587075B2 (en) * | 2008-11-18 | 2013-11-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Tunnel field-effect transistor with metal source |
US8674451B2 (en) * | 2008-12-10 | 2014-03-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | N/P metal crystal orientation for high-K metal gate Vt modulation |
EP2309544B1 (en) * | 2009-10-06 | 2019-06-12 | IMEC vzw | Tunnel field effect transistor with improved subthreshold swing |
US8143113B2 (en) * | 2009-12-04 | 2012-03-27 | International Business Machines Corporation | Omega shaped nanowire tunnel field effect transistors fabrication |
US8384065B2 (en) * | 2009-12-04 | 2013-02-26 | International Business Machines Corporation | Gate-all-around nanowire field effect transistors |
US8455334B2 (en) | 2009-12-04 | 2013-06-04 | International Business Machines Corporation | Planar and nanowire field effect transistors |
US8173993B2 (en) * | 2009-12-04 | 2012-05-08 | International Business Machines Corporation | Gate-all-around nanowire tunnel field effect transistors |
US8129247B2 (en) * | 2009-12-04 | 2012-03-06 | International Business Machines Corporation | Omega shaped nanowire field effect transistors |
US8097515B2 (en) * | 2009-12-04 | 2012-01-17 | International Business Machines Corporation | Self-aligned contacts for nanowire field effect transistors |
US8263477B2 (en) | 2010-01-08 | 2012-09-11 | International Business Machines Corporation | Structure for use in fabrication of PiN heterojunction TFET |
US8722492B2 (en) | 2010-01-08 | 2014-05-13 | International Business Machines Corporation | Nanowire pin tunnel field effect devices |
US8324940B2 (en) | 2010-04-13 | 2012-12-04 | International Business Machines Corporation | Nanowire circuits in matched devices |
EP2378557B1 (en) | 2010-04-19 | 2015-12-23 | Imec | Method of manufacturing a vertical TFET |
US8361907B2 (en) | 2010-05-10 | 2013-01-29 | International Business Machines Corporation | Directionally etched nanowire field effect transistors |
US8324030B2 (en) | 2010-05-12 | 2012-12-04 | International Business Machines Corporation | Nanowire tunnel field effect transistors |
FR2962850B1 (fr) * | 2010-07-19 | 2012-08-17 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif et procede pour former sur un nanofil en semi-conducteur un alliage de ce semi-conducteur avec un metal ou un metalloide. |
US8835231B2 (en) | 2010-08-16 | 2014-09-16 | International Business Machines Corporation | Methods of forming contacts for nanowire field effect transistors |
US8536563B2 (en) | 2010-09-17 | 2013-09-17 | International Business Machines Corporation | Nanowire field effect transistors |
US8890118B2 (en) * | 2010-12-17 | 2014-11-18 | Intel Corporation | Tunnel field effect transistor |
WO2012152762A1 (en) | 2011-05-06 | 2012-11-15 | Imec | Tunnel field effect transistor device |
EP2528099B1 (en) * | 2011-05-23 | 2015-03-04 | Imec | Line- tunneling Tunnel Field-Effect Transistor (TFET) and manufacturing method |
US9142400B1 (en) | 2012-07-17 | 2015-09-22 | Stc.Unm | Method of making a heteroepitaxial layer on a seed area |
US8890120B2 (en) | 2012-11-16 | 2014-11-18 | Intel Corporation | Tunneling field effect transistors (TFETs) for CMOS approaches to fabricating N-type and P-type TFETs |
US8890119B2 (en) | 2012-12-18 | 2014-11-18 | Intel Corporation | Vertical nanowire transistor with axially engineered semiconductor and gate metallization |
US8896101B2 (en) | 2012-12-21 | 2014-11-25 | Intel Corporation | Nonplanar III-N transistors with compositionally graded semiconductor channels |
JP6083704B2 (ja) * | 2013-03-25 | 2017-02-22 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | トンネルfetのデバイスシミュレーション方法及びシステム並びにトンネルfetのコンパクトモデル設計方法及びコンパクトモデル |
WO2014209332A1 (en) * | 2013-06-27 | 2014-12-31 | Intel Corporation | Tunneling field effect transistors (tfets) with undoped drain underlap wrap-around regions |
US8975123B2 (en) | 2013-07-09 | 2015-03-10 | International Business Machines Corporation | Tunnel field-effect transistors with a gate-swing broken-gap heterostructure |
EP2858117A1 (en) * | 2013-10-02 | 2015-04-08 | Nxp B.V. | Semiconductor device and method of manufacturing |
EP3087611A4 (en) * | 2013-12-26 | 2017-05-17 | Intel Corporation | Complementary tunneling fet devices and method for forming the same |
CN104752501B (zh) * | 2013-12-27 | 2018-05-04 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种半导体器件及其制造方法 |
EP3127163A4 (en) | 2014-03-28 | 2017-11-29 | Intel Corporation | Aspect ratio trapping (art) for fabricating vertical semiconductor devices |
EP3123513A4 (en) * | 2014-03-28 | 2018-06-06 | Intel Corporation | Tunneling field effect transistors with a variable bandgap channel |
WO2016031014A1 (ja) | 2014-08-28 | 2016-03-03 | ユニサンティス エレクトロニクス シンガポール プライベート リミテッド | 半導体装置、及び、半導体装置の製造方法 |
EP2993696B1 (en) | 2014-09-02 | 2020-08-05 | IMEC vzw | Heterosection tunnel field-effect transistor (TFET) |
EP3010044B1 (en) * | 2014-10-13 | 2019-02-13 | IMEC vzw | Layered structure of a p-TFET |
CN105633147A (zh) * | 2014-10-27 | 2016-06-01 | 中国科学院微电子研究所 | 隧穿场效应晶体管及其制造方法 |
CN104465737B (zh) * | 2014-12-08 | 2017-07-21 | 沈阳工业大学 | 体硅双栅绝缘隧穿基极双极晶体管及其制造方法 |
CN104576723B (zh) * | 2015-01-22 | 2017-09-12 | 湘潭大学 | 一种具有高开态电流的n型隧穿场效应晶体管 |
US10504721B2 (en) | 2015-04-30 | 2019-12-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Staggered-type tunneling field effect transistor |
WO2017086921A1 (en) * | 2015-11-16 | 2017-05-26 | Intel Corporation | HETEROJUNCTION TFETs EMPLOYING AN OXIDE SEMICONDUCTOR |
US9735267B1 (en) | 2016-01-28 | 2017-08-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Structure and formation method of semiconductor device structure |
CN106298778A (zh) | 2016-09-30 | 2017-01-04 | 中国科学院微电子研究所 | 半导体器件及其制造方法及包括该器件的电子设备 |
US10833193B2 (en) | 2016-09-30 | 2020-11-10 | Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences | Semiconductor device, method of manufacturing the same and electronic device including the device |
KR20210065186A (ko) * | 2018-10-09 | 2021-06-03 | 마이크론 테크놀로지, 인크 | 이종 채널을 포함하는 트랜지스터 및 관련 디바이스, 전자 시스템 및 방법 |
US11133226B2 (en) | 2018-10-22 | 2021-09-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | FUSI gated device formation |
US11107817B2 (en) * | 2019-03-11 | 2021-08-31 | Micron Technology, Inc. | Integrated assemblies comprising hydrogen diffused within two or more different semiconductor materials, and methods of forming integrated assemblies |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08186272A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-07-16 | Nec Corp | トンネルトランジスタ |
JPH09260690A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Toshiba Corp | 半導体装置及び半導体集積回路 |
JP2001015757A (ja) * | 1999-06-29 | 2001-01-19 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2001284598A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2002110989A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-12 | Japan Science & Technology Corp | 半導体集積回路装置およびその製造方法 |
JP2004193203A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
JP2004532133A (ja) * | 2001-03-30 | 2004-10-21 | ザ・リージェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・カリフォルニア | ナノ構造及びナノワイヤーの組立方法並びにそれらから組立てられた装置 |
JP2004356314A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Fujio Masuoka | 半導体装置 |
JP2005310921A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Okayama Prefecture | Mos型半導体装置及びその製造方法 |
JP2006147861A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Toshiba Corp | 半導体素子と半導体装置 |
WO2006070670A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 半導体ナノワイヤ、および当該ナノワイヤを備えた半導体装置 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3149030B2 (ja) * | 1991-06-13 | 2001-03-26 | 富士通株式会社 | 半導体量子箱装置及びその製造方法 |
US5471075A (en) * | 1994-05-26 | 1995-11-28 | North Carolina State University | Dual-channel emitter switched thyristor with trench gate |
JP4208281B2 (ja) * | 1998-02-26 | 2009-01-14 | キヤノン株式会社 | 積層型光起電力素子 |
DE10118405A1 (de) * | 2001-04-12 | 2002-10-24 | Infineon Technologies Ag | Heterostruktur-Bauelement |
US7084507B2 (en) * | 2001-05-02 | 2006-08-01 | Fujitsu Limited | Integrated circuit device and method of producing the same |
US7385262B2 (en) * | 2001-11-27 | 2008-06-10 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Band-structure modulation of nano-structures in an electric field |
EP1341184B1 (en) * | 2002-02-09 | 2005-09-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory device utilizing carbon nanotubes and method of fabricating the memory device |
US7335908B2 (en) * | 2002-07-08 | 2008-02-26 | Qunano Ab | Nanostructures and methods for manufacturing the same |
US7355216B2 (en) * | 2002-12-09 | 2008-04-08 | The Regents Of The University Of California | Fluidic nanotubes and devices |
WO2004107452A1 (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 半導体装置およびその製造方法 |
US7180107B2 (en) | 2004-05-25 | 2007-02-20 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating a tunneling nanotube field effect transistor |
KR100615233B1 (ko) * | 2004-07-21 | 2006-08-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 트랜지스터, 및 이를 구비한 평판 표시장치 |
KR100696766B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2007-03-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | 차지 트랩 인슐레이터 메모리 장치 |
JP4488947B2 (ja) * | 2005-04-08 | 2010-06-23 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置の製造方法 |
US7465976B2 (en) * | 2005-05-13 | 2008-12-16 | Intel Corporation | Tunneling field effect transistor using angled implants for forming asymmetric source/drain regions |
US7190050B2 (en) * | 2005-07-01 | 2007-03-13 | Synopsys, Inc. | Integrated circuit on corrugated substrate |
US7446372B2 (en) * | 2005-09-01 | 2008-11-04 | Micron Technology, Inc. | DRAM tunneling access transistor |
US8441000B2 (en) * | 2006-02-01 | 2013-05-14 | International Business Machines Corporation | Heterojunction tunneling field effect transistors, and methods for fabricating the same |
US7692973B2 (en) * | 2006-03-31 | 2010-04-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | Semiconductor device |
US7425491B2 (en) * | 2006-04-04 | 2008-09-16 | Micron Technology, Inc. | Nanowire transistor with surrounding gate |
US7491995B2 (en) * | 2006-04-04 | 2009-02-17 | Micron Technology, Inc. | DRAM with nanofin transistors |
US7714386B2 (en) * | 2006-06-09 | 2010-05-11 | Northrop Grumman Systems Corporation | Carbon nanotube field effect transistor |
EP1900681B1 (en) | 2006-09-15 | 2017-03-15 | Imec | Tunnel Field-Effect Transistors based on silicon nanowires |
US7893476B2 (en) * | 2006-09-15 | 2011-02-22 | Imec | Tunnel effect transistors based on silicon nanowires |
JP5400280B2 (ja) * | 2007-06-07 | 2014-01-29 | パナソニック株式会社 | 固体撮像装置 |
-
2006
- 2006-11-27 EP EP06024507.3A patent/EP1900681B1/en not_active Not-in-force
-
2007
- 2007-09-14 US US11/855,930 patent/US8072012B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-18 JP JP2007241505A patent/JP2008103702A/ja active Pending
-
2011
- 2011-11-01 US US13/286,936 patent/US8148220B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-07-10 JP JP2014142336A patent/JP5695255B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08186272A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-07-16 | Nec Corp | トンネルトランジスタ |
JPH09260690A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Toshiba Corp | 半導体装置及び半導体集積回路 |
JP2001015757A (ja) * | 1999-06-29 | 2001-01-19 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2001284598A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2002110989A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-12 | Japan Science & Technology Corp | 半導体集積回路装置およびその製造方法 |
JP2004532133A (ja) * | 2001-03-30 | 2004-10-21 | ザ・リージェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・カリフォルニア | ナノ構造及びナノワイヤーの組立方法並びにそれらから組立てられた装置 |
JP2004193203A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
JP2004356314A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Fujio Masuoka | 半導体装置 |
JP2005310921A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Okayama Prefecture | Mos型半導体装置及びその製造方法 |
JP2006147861A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Toshiba Corp | 半導体素子と半導体装置 |
WO2006070670A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 半導体ナノワイヤ、および当該ナノワイヤを備えた半導体装置 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6012047670; K.Bhuwalka et al.: 'Vertical Tunnel Field-Effect Transistor' IEEE Transactions on Electron Devices vol.51, no.2, 200402, pp.279-282 * |
JPN6013027330; K.Bhuwalka et al.: 'Performance enhancement of vertical tunnel field-effect transistor with SiGe in the deltap+ layer' Japanese Journal of Applied Physics vol.43, no.7A, 20040707, pp.4073-4078 * |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012514345A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | インテル コーポレイション | トンネル電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
US8686402B2 (en) | 2008-12-30 | 2014-04-01 | Niti Goel | Tunnel field effect transistor and method of manufacturing same |
KR20120081100A (ko) | 2009-09-30 | 2012-07-18 | 국립대학법인 홋가이도 다이가쿠 | 터널 전계 효과 트랜지스터 및 그 제조 방법 |
US8698254B2 (en) | 2009-09-30 | 2014-04-15 | National University Corporation Hokkaido University | Tunnel field effect transistor and method for manufacturing same |
WO2011040012A1 (ja) | 2009-09-30 | 2011-04-07 | 国立大学法人北海道大学 | トンネル電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
JP2013153151A (ja) * | 2011-12-21 | 2013-08-08 | Imec | トンネル電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
US9871111B2 (en) | 2014-09-18 | 2018-01-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device and method |
US10510856B2 (en) | 2014-09-18 | 2019-12-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Semiconductor device and method |
KR20160033566A (ko) * | 2014-09-18 | 2016-03-28 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 반도체 장치 및 방법 |
KR101658712B1 (ko) | 2014-09-18 | 2016-09-21 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 반도체 장치 및 방법 |
US9614042B2 (en) | 2015-03-06 | 2017-04-04 | International Business Machines Corporation | Heterojunction tunnel field effect transistor fabrication using limited lithography steps |
US10276685B2 (en) | 2015-03-06 | 2019-04-30 | International Business Machines Corporation | Heterojunction tunnel field effect transistor fabrication using limited lithography steps |
TWI604604B (zh) * | 2015-10-15 | 2017-11-01 | 上海新昇半導體科技有限公司 | 互補金氧半場效電晶體及其製備方法 |
CN105390531B (zh) * | 2015-10-27 | 2018-02-13 | 北京大学 | 一种隧穿场效应晶体管的制备方法 |
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