JP2007524243A - オプトエレクトロニクスによるマイクロ光学機器 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の分野はオプトエレクトロニクスデバイスである。これはより具体的には集積オプトエレクトロニクスデバイスを製造する方法、このような方法を用いて製造されたオプトエレクトロニクスデバイス、および半仕上げの製品、すなわち光学部品をウエハーレベルに備えるオプトエレクトロニクスウエハーに関する。
モノリシックのオプトエレクトロニクスシステムのための、光学素子の能動オプトエレクトロニクスデバイス(発光および光検出)との組み合わせは、ますます重要になってきている。オプトエレクトロニクスデバイスはますます小型化されているので、このようなオプトエレクトロニクスシステムを小型化するためには、光学部品およびマイクロシステムは同じ小型化をされる必要がある。しかし、現在最先端の技術によると、(受動)光学部品およびシステムは完全に分離した部分で、オプトエレクトロニクスデバイスの製造チェーンに組み込まれることができない。
本発明の目的は、小型化に適した新規の集積オプトエレクトロニクスシステム、およびその製造方法を提供することである。製造方法は、製造コストの削減をもたらすべきである。
この明細書において、以下の定義が用いられる。
「オプトエレクトロニクスウエハー」:能動光学部品/領域を有する能動光学デバイスのアレイを含む半導体ウエハー。
したがって「ウエハー」の用語は、本明細書の文脈においては、オプトエレクトロニクス部品に関して、古典的な、教科書的な感覚で用いられる、すなわちこれは、明確に規定された結晶構造および集積回路構造を有する半導体物質のディスクである。対照的に「光学ウエハー」の語は、半導体ウエハーのサイズにほぼ対応するサイズを有する、透明なディスク状もしくはプレート状の基板を説明するのに用いられ、基板にはマイクロ光学構造が備えられる。光学ウエハーは基板上にしばしば、光学(マイクロ)構造を含むポリマー物質の薄膜を含む。
)構造(もしくはマイクロ光学構造)が備えられる。光学構造は、能動光学部品に割り当てられる、すなわちそれらは、能動光学部品に影響を与え、および/もしくは、所望の方法でそこから生じる光に、影響するよう構成される。この目的のために、それらは光学部品に整列されるか、その他の方法でこの目的を果たすよう調整される。結合された能動光学部品/光学構造は、たとえば、光学構造を有する半導体ウエハーを、少なくとも1つの能動部品および少なくとも1つの光学構造を含む部分にダイシングすることによって、分離される。
第2の層の表面は、ひっかきからさらに保護されるであろう。
好適な実施形態の説明
図1に示される実施形態は、たとえばレーザー、光検出器、発光デバイスなどの複数の光学能動部品2を有する、オプトエレクトロニクスウエハー1を含む。これはさらに、複製構造を有する光学ウエハー11を含む。複製構造は、屈折構造13と同様に回折光学構造12を含み、たとえば両方の表面に、すなわち光学ウエハーの両側に、配置されるであろう。光学ウエハーは、紫外線硬化エポキシなどのエンボス加工可能な物質の層を両側に備えたガラスディスクであり、その物質に構造が複製される。光学ウエハーは、(マイクロ)レンズ、回折光学素子、もしくは格子などの光学構造に加えて、柱、支柱、壁などのディスタンスホルダー14を含む。ディスタンスホルダーは複製構造であり、光学構造12もそれを用いて複製されたところの複製ツールを用いて、エンボス加工可能な物質に複製された。別の方法として、ディスタンスホルダーは、分離複製もしくは印刷プロセスによって複製された。
a) マイクロ光学形状およびマイクロ機械形状を含む複製ツールが提供される(このような複製ツールを製造する多様な方法がある;その中には、欧州特許出願03 405
888.3に説明されたプロセスがあり、そこに説明され、図2から図6に示される、格子状構造とマイクロ光学構造とを組み合わせるプロセスは、参照することにより本明細書の一部を構成する)。マイクロ機械形状は、それらがオプトエレクトロニウスウエハー上の機械逆構造もしくはこのウエハー上の何らかのフリー領域上のどちらかに適合するように設計される。
示された実施例において、エンボス加工可能な物質の層は、デバイス全体にわたって連続的である。しかし、原則として、これはまた、マイクロ光学構造の間で遮断されることもあるだろう。
域を覆う複数のばらばらの部分、もしくは、接触領域の保護を確保する任意のその他の形状を含むであろう。このことは、保護層が、非伝導物質から離される必要のある全ての領域を覆うことを、必ずしも包含するわけではない。たとえば、これが格子の形状を有する場合−能動光学部品を含む溝を形成する−これは必ずしも接触領域を覆う必要はない。これは複製物質が個々の溝に施される場合である(以下参照)。
厚さをもたらすプロセスによって作成される。光学システム設計により必要とされる値からのいかなるずれも、くぼみ71もしくは空洞を複製ツール33の中に形成することにより補償されることができる。この文脈においての「くぼみ」は、複製ツール上の範囲であり、複製される構造は複製ツール33の表面73に対して、一定の明確に規定された距離だけずれる。このようにして、犠牲層の厚さと比較して強化された高さhは、図13に示されるように、当接突起72を構成する犠牲層51によって実現されるであろう。これらの当接突起は、溝の周囲に配置されると、上記で「溢れ」と説明された影響もまた防止する。ツールの作成における技術は、マイクロ機械加工および高精度構造と同様である、すなわち、くぼみの深さの大変良好な制御が保証されることができる。
薄いもしくは柔軟性のある基板の上での厚い層の曲がりを防止するために、2つの選択肢がある。
PDMSはこのような物質の実施例である。PDMSはまた、高い光学透明性、環境試験条件に対する高い抵抗などの、さらなる要件を果たす(低いEモジュールとは別に)。
学表面との間の全ての物質が複製物質である必要はないという事実により、解決されることができる。そうではなく2層システムのうち1番上の層のみが複製プロセスと互換性のある特性を有する必要がある。
Claims (28)
- 能動光学部品(2)を有するウエハー(1)を提供する段階で、各能動光学部品は光学能動表面を有する段階と、光学能動表面によって放射される電磁放射、および/もしくは、前記光学能動表面に影響を与える電磁放射に影響を与えるよう機能する能動光学部品に割り当てられた光学構造(12,13,123)を提供する段階と、光学構造を有する半導体ウエハーを少なくとも1つの能動光学部品および少なくとも1つの光学構造を含む部分に分離する段階と、から構成される、集積光学システムを製造する方法。
- 透明な物質が、能動光学部品の少なくともいくつかに塗布され、構造は、前記透明な物質の表面に、整列した方法で複製されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 透明な物質の前記能動光学部品への塗布に続いて、構造が複製されることを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 透明な物質は、透明な物質の少なくとも2つの層を含み、前記能動光学部品を覆う前記2つの層の第1の層(109)は、前記少なくとも2つの層の最も外側の層(110)よりも厚いことを特徴とする、請求項2または3に記載の方法。
- 前記第1の層が前記能動光学部品の上に成型され、前記最も外側の層が第1の層の上もしくは潜在的な中間層の上に配置され、光学構造が最も外側の層にエンボス加工されることを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 前記第2の層(110)が複数の不連続のスポットから構成され、ウエハー(1)がそれに沿って分離される線が第2の層の物質から離されていることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 最も外側の層がその上に成型されるところの第1の層もしくは潜在的な中間層に、最も外側の層にエンボス加工された光学構造が備えられる場所に、空洞が備えられることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 少なくとも透明の物質の部分が、放射線をあてることにより硬化可能であり、能動光学部品に塗布された後、たとえばマスクを介した照射によって選択的に位置を照射することにより、選択的な位置が硬化されることを特徴とする、請求項2から7のいずれかに記載の方法。
- 構造(32)は、複製ツール(33)を用いて整列された複製により適用され、前記複製ツールは、複製ツールがフラットな表面に置かれたときに空洞(41)を形成する溝状の形状を含み、複製ツール内の構造は溝状の形状であることを特徴とする、請求項2から7のいずれかに記載の方法。
- 透明な物質が、液体もしくは塑性変形可能な状態で、光学構造があるべき場所に局所的に配置され、溝状の形状が、複製プロセスの間、限定された領域の外に透明な物質が溢れることを防ぐことを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 複製ツールが、空洞(41)に接続されたチャネル(43)をさらに含むことを特徴とする、請求項10に記載の方法。
- 透明な物質が、液体もしくは塑性変形可能な状態で、複製ツールの上の溝状の形状に配置され、これが硬化の前と後とにウエハーに取り付けられることを特徴とする、請求項9
に記載の方法。 - ウエハーに、その表面を部分的に覆う保護層(51)が備えられ、表面の覆われた部分は接触領域を含み、透明な物質が、液体もしくは塑性変形可能な状態で、保護層のくぼみにより形成された溝に配置され、もしくは保護層を含むウエハー上に広域にわたり配置され、続いて光学構造が透明物質に複製され、そこで透明物質が硬化され、その後、保護層(51)が除去されることを特徴とする、請求項2から12のいずれかに記載の方法。
- ダイシング段階が、硬化段階の後に、保護層の除去前に行われ、ダイシング段階は、透明な物質の溝を、保護層に接する場所でカットすることを含むことを特徴とする、請求項13に記載の方法。
- 複製ツール(33)はくぼみ(71)を含み、複製される構造は、複製ツールの最も外側の表面(73)に対してずれることを特徴とする、請求項13または14に記載の方法。
- 保護層(51)は、少なくともその縁の部分から突出する当接突起(72)を含むことを特徴とする、請求項13から15のいずれかに記載の方法。
- 光学構造が分離された光学ウエハー(11)に複製され、ウエハーはさらに、その表面から明確に規定された距離だけ突出する、複製ディスタンスホルダー(14)を含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 光学ウエハーは、その両側に光学構造を含むことを特徴とする、請求項17に記載の方法。
- 光学構造は分離された光学ウエハー(11)に複製され、硬化可能な物質のスペーサ素子(151)がたとえば印刷によって、半導体ウエハー(1)もしくは光学ウエハーのどちらかに提供され、半導体ウエハーおよび光学ウエハーは、スペーサ素子が半導体ウエハーと光学ウエハーとの間にあり両方のウエハーに当接するように整列された方法で位置づけられ、そこでスペーサ素子は硬化されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- オプトエレクトロニクス部品およびそれに割り当てられた受動光学部品から構成される集積オプトエレクトロニクスデバイスで、デバイスは請求項1から19のいずれかに記載の方法によって製造される。
- 複数のオプトエレクトロニクスデバイスにさらに加工される半仕上げの製品で、半仕上げの製品は、光学能動表面を含み、能動光学部品に割り当てられた透明な物質に提供された光学構造をさらに含む、複数の同一の能動光学部品を有する半導体ウエハーから構成され、光学能動表面から放射される電磁放射および/もしくは光学能動表面に影響を与える電磁放射に影響を与えるよう機能する。
- インターポーザー上に能動光学部品を提供する段階で、能動光学部品はインターポーザーに結合を用いて接触される段階と、透明な物質の第1の層を表面上に成型する段階で、透明な物質の第1の層は能動光学部品と結合とを封入する段階と、透明な物質の第2の層を第1の層の上に提供する段階で、第2の層の物質は第1の層の物質と異なる段階とから構成される、集積光学デバイスを製造する方法。
- 第2の層は第1の層よりも厚く、および/もしくは、第1の層は最終的に硬化した状態では、第1の層よりも硬いことを特徴とする、請求項22に記載の方法。
- 第1の層は10Mpaを下回る弾力性のモジュールを有することを特徴とする、請求項22もしくは23に記載の方法。
- 第1の層はPDMS層であり、第2の層は硬化可能な樹脂の層であることを特徴とする、請求項24に記載の方法。
- インターポーザー上の能動光学部品から構成される集積光学デバイスで、能動光学部品は、結合を用いてインターポーザーに接触され、能動光学部品および結合は透明な物質の第1の層によって封入され、第1の層の物質と異なる透明な物質の第2の層は、第1の層の上である。
- 光学能動部品を有する基板を提供する段階と、透明な物質を基板に塗布する段階で、透明な物質は少なくとも部分的に光学能動部品を覆う段階と、透明な物質を有する基板ウエハーを、前記透明な物質により封入された光学能動部品を含む部分に分離する段階とから構成される、集積光学システムを製造する方法。
- 透明物質がマイクロ光学構造を備えられ、もしくは透明な物質が異なる透明な物質のさらなる層のシステムを備えられ、そのシステムの最も外側の層は光学構造を備えられることを特徴とする、請求項27に記載の方法。
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