JP2007506686A5

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Info

Publication number: JP2007506686A5
Application number: JP2006527260A
Authority: JP
Filing date: 2004-09-24
Publication date: 2011-06-30
Anticipated expiration: 2024-09-24

Description

本発明の方法に従って、フェノール、ビスフェノールおよびアセトンを主に含む該脱水留分の循環流速の、該脱水留分が入る反応器への供給流の流速に対する重量比は、供給流の流速は循環流速を除いて、５：１から１５：１の範囲内である。該循環脱水留分は、反応器内で発生した反応熱を取り除くために主に作用するので、もし循環流速が小さすぎれば、反応熱を効果的に取り除くことができず、反応器内の温度上昇が起こり、その結果、触媒活性に影響を与えるであろう。フェノール、ビスフェノールＡおよびアセトンを主に含む該脱水留分は、液体としてとり出すのが好ましい。

Claims

ビスフェノールＡの製造方法であって、以下の段階：
縮合触媒を充填した反応ゾーン内にフェノールおよびアセトンを移し、反応後、ビスフェノールＡを含む流れを得；
得られたビスフェノールＡを含む流れを精留ゾーンに移し、ビスフェノールＡおよびフェノールを主に含む生成物留分を得；そして、
ビスフェノールＡおよびフェノールを主に含む生成物留分を結晶化ゾーンに移してビスフェノールＡ生成物を得る：段階を含み、
フェノール、ビスフェノールＡおよびアセトンを主に含み、水分量が２重量％より大きくないレベルに抑制されている、液体の脱水留分を精留ゾーンから得、該脱水留分を冷却して、循環流として反応ゾーンに戻すことを特徴とする：
該ビスフェノールＡ製造方法。
該反応ゾーンが１つの断熱固定床式反応器または連続配置された２以上の断熱固定床式反応器を含む断熱固定床式反応器であることを特徴とする、請求項１記載の方法。
該反応ゾーンが連続配置された２以上の断熱固定床式反応器を含む場合、フェノール、ビスフェノールＡおよびアセトンを主に含む脱水留分を、任意の一つの反応器または個々の反応器に分けて戻すことを特徴とする、請求項２記載の方法。
該反応ゾーンが連続配置された２以上の断熱固定床式反応器を含む場合、フェノール、ビスフェノールＡおよびアセトンを主に含む脱水留分を最後の反応器のみに戻すことを特徴とする、請求項３記載の方法。
フェノール、ビスフェノールＡおよびアセトンを主に含む該脱水留分の循環流速の、該脱水留分が入る反応器への供給流の流速に対する重量比が５：１から１５：１の範囲内であることを特徴とする、請求項２から４のいずれか一項に記載の方法。
該精留ゾーンが精留塔であり、フェノール、ビスフェノールＡおよびアセトンを主に含む脱水留分は該精留塔のサイドドローであり、さらに、ビスフェノールＡおよびフェノールを主に含む生成物留分を該精留塔の底部から取り出すことを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
該精留塔の操作圧が５０−８００ｍｍＨｇ（絶対圧）の範囲内であることを特徴とする、請求項６記載の方法。
該精留ゾーンがフラッシュドラムおよび精留塔からなり、反応ゾーンからのビスフェノールＡ含有流をフラッシュドラム内に移し、フェノール、ビスフェノールＡおよびアセトンを主に含む脱水留分をフラッシュドラムの底部から取り出し、該脱水留分の一部を反応ゾーンに戻して循環させ、残部を精留塔内に移し、さらに、ビスフェノールＡおよびフェノールを主に含む生成物留分を該精留塔の底部から取り出すことを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
精留ゾーン内の該フラッシュドラムの操作圧が５０−８００ｍｍＨｇ（絶対圧）の範囲内であることを特徴とする、請求項８記載の方法。
該反応ゾーン内のフェノールのアセトンに対するモル比が３：１から３０：１の範囲内であり、該反応ゾーン内の縮合温度が５０−１３０℃の範囲内であり、さらに、縮合圧が大気圧から６ｋｇ／ｃｍ²（ゲージ圧）であることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
結晶化ゾーン内での結晶化が一度のみ行われることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。