JP2007332314A - 熱硬化性樹脂組成物および光半導体用接着剤 - Google Patents

熱硬化性樹脂組成物および光半導体用接着剤 Download PDF

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Abstract

【課題】ポッティング成型が可能でありしかも無色透明でUV耐久性、耐熱性に優れた光半導体封止材を形成しうる熱硬化性樹脂組成物、およびそれにより封止された光半導体素子を提供すること。
【解決手段】(A)エポキシ当量が1,600g/モル以下のポリオルガノシロキサンおよび(B)金属キレート化合物を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物およびそれにより封止された光半導体素子。
【選択図】なし

Description

本発明は、特定の熱硬化性樹脂組成物を用いてなる光半導体用接着剤に関する。さらに詳しくは耐熱性、紫外線に対する耐久性が改良された光半導体チップの接着剤として好適な光半導体用接着剤に関する。
従来、光半導体の接着剤(図1参照、109が接着剤)には脂環式エポキシ樹脂が用いられてきたが青色もしくは紫外光を発光する光半導体の封止を行うには、紫外線に対する耐久性(以下、UV耐久性ともいう)が不十分であった。このため長期間の使用により接着剤の黄変が起こり、十分な出力光を安定的に得ることができなかった。
UV耐久性に優れた樹脂としてシリコーン樹脂を接着剤として用いることが試みられているが十分な接着力が得られないことや、樹脂が柔らかいため、振動で金のワイヤーが切れやすいなどの不具合があった。
一方、我々はエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを簡便に得る方法を開発し、カルボン酸無水物硬化剤を用いて硬化することで十分な透明性、UV耐久性、硬度を有する光半導体組成物を得ることに既に成功している(特許文献1参照)。
しかし、この組成物はエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン(A液)とカルボン酸無水物硬化剤(B液)を混ぜ合わせると硬化が始まる2液タイプのため、A、B液の混合後の保存安定性が十分でなく、そのため成型加工の都度A液とB液を混合しなければならなかった。このため硬化剤あるいは硬化触媒を混ぜておいても(1液タイプ)安定して保管できる、保存安定性の優れた熱硬化性樹脂組成物の開発が望まれていた。
従来、1液タイプにする手法としては、熱潜在触媒を用いる方法が一般的であり(特許文献2参照)、このような熱潜在触媒としてアンチモンやリンを含む化合物が用いられていた。しかし、アンチモンを含む化合物は環境への悪影響の懸念があったり、リンを含む化合物では硬化が不十分という問題があった。
一方、エポキシをカチオン重合させる触媒としてアルミニウムキレート化合物を用いる方法が提案されている(特許文献3参照)。しかし、エポキシ樹脂を用いているため、青色もしくは紫外光を発光する光半導体の封止材としてUV耐久性の点で満足のいくものではなかった。
WO2005/100445号公報 特開2003−73452号公報 特開昭56−2319号公報
本発明は上記実情に鑑みなされたもので、その目的は、UV耐久性、耐熱性、および接着性に優れた熱硬化性樹脂組成物および光半導体用接着剤を提供することにある。
本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第1に、
(A)エポキシ当量が1,600g/モル以下のポリオルガノシロキサンおよび(B)金属キレート化合物を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物によって達成される。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第2に、
本発明の上記熱硬化性樹脂組成物からなる光半導体用接着剤によって達成される。
本発明によれば、UV耐久性、耐熱性および接着性に優れた光半導体用接着剤を得ることができる。例えば500nm以下の領域に発光ピーク波長を有する青色LEDや白色LED等の接着に極めて好適に使用することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
ポリオルガノシロキサン(α)およびその製造方法
本発明で用いられるポリオルガノシロキサン(α)は、エポキシ当量が1,600g/モル以下であり、例えば下記式(1)で表されるシラン化合物(以下、「シラン化合物(1)」という。)および/またはその部分縮合物(以下、シラン化合物(1)とその部分縮合物をまとめて「シラン化合物(1)等」ともいう。)と下記式(2)で表されるシラン化合物(以下、「シラン化合物(2)」という。)および/またはその部分縮合物(以下、シラン化合物(2)とその部分縮合物をまとめて「シラン化合物(2)等」ともいう。)とを、有機溶媒、有機塩基および水の存在下に加熱して、加水分解および縮合させて得られる。
Figure 2007332314
〔式(1)において、Xはエポキシ基を1個以上有する1価の有機基を示し、Yは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基を示し、Rは水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換アルキル基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基を示し、nは0〜2の整数である。〕
Figure 2007332314
〔式(2)において、Yは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基を示し、Rは水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換アルキル基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基を示し、mは0〜3の整数である。〕
式(1)において、Xのエポキシ基を1個以上有する1価の有機基としては、特に限定されるものではなく、例えば、γ−グリシドキシプロピル基、3,4−エポキシシクロペンチル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、(3,4−エポキシシクロペンチル)メチル基、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル基、2−(3,4−エポキシシクロペンチル)エチル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、2−(3,4−エポキシシクロペンチル)プロピル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基、3−(3,4−エポキシシクロペンチル)プロピル基、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基等の炭素数5〜20の基を挙げることができる。
これらのエポキシ基を1個以上有する1価の有機基のうち、γ−グリシドキシプロピル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基等が好ましく、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基が特に好ましい。
式(1)において、Yは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基を示す。これらの基は、有機塩基および水の存在下における加水分解と縮合反応の過程でシラノール基を生成し、該シラノール基同志で縮合反応を生起し、あるいは該シラノール基と塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子ないし該アルコキシル基を有するケイ素原子との間で縮合反応を生起することにより、シロキサン結合を形成する基である。
式(1)において、Yの炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。
式(1)におけるYとしては、塩素原子、メトキシ基、エトキシ基等が好ましい。
式(1)において、Rの炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
また、Rの炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換アルキル基としては、フルオロアルキル基、クロロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、(メタ)アクリロキシアルキル基およびメルカプトアルキル基を挙げることができる。これらの具体例としては、例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、(トリフルオロメチル)メチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロ−n−プロピル基、2−(トリフルオロメチル)エチル基、(ペンタフルオロエチル)メチル基、ヘプタフルオロ−n−プロピル基、4−フルオロ−n−ブチル基、3−(トリフルオロメチル)−n−プロピル基、2−(ペンタフルオロエチル)エチル基、(ヘプタフルオロ−n−プロピル)メチル基、ノナフルオロ−n−ブチル基、5−フルオロ−n−ペンチル基、4−(トリフルオロメチル)−n−ブチル基、3−(ペンタフルオロエチル)−n−プロピル基、2−(ヘプタフルオロ−n−プロピル)エチル基、(ノナフルオロ−n−ブチル)メチル基、パーフルオロ−n−ペンチル基、6−フルオロ−n−ヘキシル基、5−(トリフルオロメチル)−n−ペンチル基、4−(ペンタフルオロエチル)−n−ブチル基、3−(ヘプタフルオロ−n−プロピル)−n−プロピル基、2−(ノナフルオロ−n−ブチル)エチル基、(パーフルオロ−n−ペンチル)メチル基、パーフルオロ−n−ヘキシル基、7−(トリフルオロメチル)−n−ヘプチル基、6−(ペンタフルオロエチル)−n−ヘキシル基、5−(ヘプタフルオロ−n−プロピル)−n−ペンチル基、4−(ノナフルオロ−n−ブチル)−n−ブチル基、3−(パーフルオロ−n−ペンチル)−n−プロピル基、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチル基、(パーフルオロ−n−ヘプチル)メチル基、パーフルオロ−n−オクチル基、9−(トリフルオロメチル)−n−ノニル基、8−(ペンタフルオロエチル)−n−オクチル基、7−(ヘプタフルオロ−n−プロピル)−n−ヘプチル基、6−(ノナフルオロ−n−ブチル)−n−ヘキシル基、5−(パーフルオロ−n−ペンチル)−n−ペンチル基、4−(パーフルオロ−n−ヘキシル)−n−ブチル基、3−(パーフルオロ−n−ヘプチル)−n−プロピル基、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル基、(パーフルオロ−n−ノニル)メチル基、パーフルオロ−n−デシル基、4−フルオロシクロペンチル基、4−フルオロシクロヘキシル基等のフルオロアルキル基;ならびに
クロロメチル基、2−クロロエチル基、3−クロロ−n−プロピル基、4−クロロ−n−ブチル基、3−クロロシクロペンチル基、4−クロロシクロヘキシル基、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシシクロペンチル基、4−ヒドロキシシクロヘキシル基、3−(メタ)アクリロキシプロピル基、3−メルカプトプロピル基等を挙げることができる。
また、Rの炭素数2〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−メチルビニル基、1−プロペニル基、アリル基(2−プロペニル基)、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、3−シクロペンテニル基、3−シクロヘキセニル基等を挙げることができる。
また、Rの炭素数6〜20のアリール基としては、例えば、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、1−ナフチル基等を挙げることができる。
また、Rの炭素数7〜20のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等を挙げることができる。
式(1)におけるRとしては、メチル基、エチル基等が好ましい。
シラン化合物(1)の具体例としては、
n=0の化合物として、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等;
n=1の化合物として、(γ−グリシドキシプロピル)(メチル)ジメトキシシラン、(γ−グリシドキシプロピル)(エチル)ジメトキシシラン、(γ−グリシドキシプロピル)(メチル)ジエトキシシラン、(γ−グリシドキシプロピル)(エチル)ジエトキシシラン、〔2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル〕(メチル)ジメトキシシラン、〔2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル〕(エチル)ジメトキシシラン、〔2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル〕(メチル)ジエトキシシラン、〔2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル〕(エチル)ジエトキシシラン等;
n=2の化合物として、(γ−グリシドキシプロピル)(メトキシ)ジメチルシラン、(γ−グリシドキシプロピル)(メトキシ)ジエチルシラン、(γ−グリシドキシプロピル)(エトキシ)ジメチルシラン、(γ−グリシドキシプロピル)(エトキシ)ジエチルシラン、〔2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル〕(メトキシ)ジメチルシラン、〔2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル〕(メトキシ)ジエチルシラン、〔2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル〕(エトキシ)ジメチルシラン、〔2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル〕(エトキシ)ジエチルシラン等
をそれぞれ挙げることができる。
また、シラン化合物(1)の部分縮合物としては、商品名で、例えば、ES1001N、ES1002T、ES1023(以上、信越シリコーン(株)製);メチルシリケートMSEP2(三菱化学(株)製)等を挙げることができる。
本発明において、シラン化合物(1)およびその部分縮合物は、それぞれ単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
式(2)において、Yは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基を示す。これらの基は、有機塩基および水の存在下における加水分解と縮合反応の過程でシラノール基を生成し、該シラノール基同志で縮合反応を生起し、あるいは該シラノール基と塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子ないし該アルコキシル基を有するケイ素原子との間で縮合反応を生起することにより、シロキサン結合を形成する基である。
式(2)において、Yの炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基としては、例えば、前記式(1)におけるYの対応する基について例示したものと同様の基等を挙げることができる。
式(2)におけるYとしては、塩素原子、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基等が好ましい。
式(2)において、Rの炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換アルキル基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基および炭素数7〜20のアラルキル基としては、例えば、前記式(1)におけるRのそれぞれ対応する基について例示したものと同様の基等を挙げることができる。
式(2)におけるRとしては、フッ素原子、メチル基、エチル基、2−(トリフルオロメチル)エチル基、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチル基、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル基、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−(メタ)アクリロキシプロピル基、3−メルカプトプロピル基、ビニル基、アリル基、フェニル基等が好ましい。
シラン化合物(2)の具体例としては、
m=0の化合物として、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン等;
m=1の化合物として、トリクロロシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−n−プロポキシシラン、トリ−i−プロポキシシラン、トリ−n−ブトキシシラン、トリ−sec−ブトキシシラン、
フルオロトリクロロシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ−n−プロポキシシラン、フルオロトリ−i−プロポキシシラン、フルオロトリ−n−ブトキシシラン、フルオロトリ−sec−ブトキシシラン、
メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−n−プロポキシシラン、メチルトリ−i−プロポキシシラン、メチルトリ−n−ブトキシシラン、メチルトリ−sec−ブトキシシラン、
2−(トリフルオロメチル)エチルトリクロロシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリメトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリエトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−n−プロポキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−i−プロポキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−n−ブトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−sec−ブトキシシラン、
2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリクロロシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−n−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−i−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−n−ブトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−sec−ブトキシシラン、
2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリクロロシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリメトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリエトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−n−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−i−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−n−ブトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−sec−ブトキシシラン、
ヒドロキシメチルトリクロロシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−n−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−i−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−n−ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−sec−ブトキシシラン、
3−(メタ)アクリロキシプロピルトリクロロシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−n−プロポキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−i−プロポキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−n−ブトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−sec−ブトキシシラン、
3−メルカプトプロピルトリクロロシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−n−プロポキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−i−プロポキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−n−ブトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−sec−ブトキシシラン、
ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−n−プロポキシシラン、ビニルトリ−i−プロポキシシラン、ビニルトリ−n−ブトキシシラン、ビニルトリ−sec−ブトキシシラン、
アリルトリクロロシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリ−n−プロポキシシラン、アリルトリ−i−プロポキシシラン、アリルトリ−n−ブトキシシラン、アリルトリ−sec−ブトキシシラン、
フェニルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−n−プロポキシシラン、フェニルトリ−i−プロポキシシラン、フェニルトリ−n−ブトキシシラン、フェニルトリ−sec−ブトキシシラン等:
m=2の化合物として、メチルジクロロシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジ−n−プロポキシシラン、メチルジ−i−プロポキシシラン、メチルジ−n−ブトキシシラン、メチルジ−sec−ブトキシシラン、
ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−n−プロポキシシラン、ジメチルジ−i−プロポキシシラン、ジメチルジ−n−ブトキシシラン、ジメチルジ−sec−ブトキシシラン、
(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジクロロシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジメトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジエメトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジ−n−プロポキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジ−i−プロポキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジ−n−ブトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジ−sec−ブトキシシラン、
(メチル)(γ−グリシドキシプロピル)ジクロロシラン、(メチル)(γ−グリシドキシプロピル)ジメトキシシラン、(メチル)(γ−グリシドキシプロピル)ジエトキシシラン、(メチル)(γ−グリシドキシプロピル)ジ−n−プロポキシシラン、(メチル)(γ−グリシドキシプロピル)ジ−i−プロポキシシラン、(メチル)(γ−グリシドキシプロピル)ジ−n−ブトキシシラン、(メチル)(γ−グリシドキシプロピル)ジ−sec−ブトキシシラン、
(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジクロロシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジメトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジエトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−n−プロポキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−i−プロポキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−n−ブトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−sec−ブトキシシラン、
(メチル)(ビニル)ジクロロシラン、(メチル)(ビニル)ジメトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジエトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−n−プロポキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−i−プロポキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−n−ブトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−sec−ブトキシシラン、
ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジビニルジ−n−プロポキシシラン、ジビニルジ−i−プロポキシシラン、ジビニルジ−n−ブトキシシラン、ジビニルジ−sec−ブトキシシラン、
ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジ−n−プロポキシシラン、ジフェニルジ−i−プロポキシシラン、ジフェニルジ−n−ブトキシシラン、ジフェニルジ−sec−ブトキシシラン等;
m=3の化合物として、クロロジメチルシラン、メトキシジメチルシラン、エトキシジメチルシラン、
クロロトリメチルシラン、ブロモトリメチルシシラン、ヨードトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、n−プロポキシトリメチルシラン、i−プロポキシトリメチルシラン、n−ブトキシトリメチルシラン、sec−ブトキシトリメチルシラン、t−ブトキシトリメチルシラン、
(クロロ)(ビニル)ジメチルシラン、(メトキシ)(ビニル)ジメチルシラン、(エトキシ)(ビニル)ジメチルシラン、
(クロロ)(メチル)ジフェニルシラン、(メトキシ)(メチル)ジフェニルシラン、(エトキシ)(メチル)ジフェニルシラン等
をそれぞれ挙げることができる。
これらのシラン化合物(2)のうち、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等が好ましい。
また、シラン化合物(2)の部分縮合物としては、商品名で、例えば、KC−89、KC−89S、X−21−3153、X−21−5841、X−21−5842、X−21−5843、X−21−5844、X−21−5845、X−21−5846、X−21−5847、X−21−5848、X−22−160AS、X−22−170B、X−22−170BX、X−22−170D、X−22−170DX、X−22−176B、X−22−176D、X−22−176DX、X−22−176F、X−40−2308、X−40−2651、X−40−2655A、X−40−2671、X−40−2672、X−40−9220、X−40−9225、X−40−9227、X−40−9246、X−40−9247、X−40−9250、X−40−9323、X−41−1053、X−41−1056、X−41−1805、X−41−1810、KF6001、KF6002、KF6003、KR212、KR−213、KR−217、KR220L、KR242A、KR271、KR282、KR300、KR311、KR401N、KR500、KR510、KR5206、KR5230、KR5235、KR9218、KR9706(以上、信越シリコーン(株)製);グラスレジン(昭和電工(株)製);SH804、SH805、SH806A、SH840、SR2400、SR2402、SR2405、SR2406、SR2410、SR2411、SR2416、SR2420(以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製);FZ3711、FZ3722(以上、日本ユニカー(株)製);DMS−S12、DMS−S15、DMS−S21、DMS−S27、DMS−S31、DMS−S32、DMS−S33、DMS−S35、DMS−S38、DMS−S42、DMS−S45、DMS−S51、DMS−227、PDS−0332、PDS−1615、PDS−9931、XMS−5025(以上、チッソ(株)製);メチルシリケートMS51、メチルシリケートMS56(以上、三菱化学(株)製);エチルシリケート28、エチルシリケート40、エチルシリケート48(以上、コルコート(株)製);GR100、GR650、GR908、GR950(以上、昭和電工(株)製)等を挙げることができる。
本発明において、シラン化合物(2)およびその部分縮合物は、それぞれ単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
ポリオルガノシロキサン(α)は、シラン化合物(1)等とシラン化合物(2)等とを、有機溶媒、有機塩基および水の存在下に加熱して、加水分解および縮合させることにより製造することが好ましい。
前記有機溶媒としては、例えば、炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコール等を使用することができる。水と均一に混合しない溶媒が好ましい。
前記炭化水素としては、例えば、トルエン、キシレン等;前記ケトンとしては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn−アミルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等;前記エステルとしては、例えば、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、乳酸エチル等;前記エーテルとしては、例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等;前記アルコールとしては、例えば、1−ヘキサノール、4−メチル−2−ペンタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル等をそれぞれ挙げることができる。
これらの有機溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
有機溶媒の使用量は、全シラン化合物100重量部に対して、好ましくは10〜10,000重量部、より好ましくは50〜5,000重量部である。
前記有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン等の1〜2級の有機アミン;トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の4級の有機アミン等を挙げることができる。
これらの有機塩基のうち、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の4級の有機アミンが好ましい。
ポリオルガノシロキサン(α)を製造する際に、有機塩基を触媒として用いることにより、エポキシ基の開環などの副反応を生じることなく、高い加水分解・縮合速度で目的とするポリオルガノシロキサン(α)を得ることができるため、生産安定性がよく、また良好な硬化性を示す組成物を得ることができる。
有機アミンの使用量は、有機アミンの種類、温度などの反応条件等により異なり、特に限定されないが、全シラン化合物に対して、好ましくは0.01〜3倍モル程度、より好ましくは0.05〜1倍モル程度である。なお、有機アミン類以外の有機塩基を用いる場合の使用量も、ほぼ有機アミンに準じる量で十分である。
ポリオルガノシロキサン(α)を製造する際の水の使用量は、全シラン化合物に対して、好ましくは0.5〜100倍モル程度、より好ましくは1〜30倍モル程度である。
ポリオルガノシロキサン(α)を製造する際の加水分解および縮合反応は、シラン化合物(1)等とシラン化合物(2)等とを有機溶媒に溶解し、この溶液を有機塩基および水と混合し、次いで例えば油浴などにより加熱することにより実施することができる。
加水分解と縮合反応時には、加熱温度を、好ましくは130℃以下、より好ましくは40〜120℃とし、好ましくは0.5〜12時間程度、より好ましくは1〜8時間程度加熱するのが望ましい。なお、加熱操作中は、混合液を撹拌してもよいし、還流下に放置してもよい。
反応終了後、反応液から有機溶媒層を分取して、好ましくは水で洗浄する。この洗浄に際しては、少量の塩を含む水、例えば0.2重量%程度の硝酸アンモニウム水溶液などで洗浄することにより、洗浄操作が容易になる。洗浄は洗浄後の水が中性になるまで行い、その後有機溶媒層を、必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシーブス等の乾燥剤で乾燥したのち、濃縮することにより、目的とするポリオルガノシロキサン(α)を得ることができる。
このようにして得られるポリオルガノシロキサン(α)は、残存する加水分解性基例えば、アルコキシル基等やシラノール基が少ないため、溶剤で希釈しなくても室温で1ヶ月以上ゲル化することなく保存できる。また所望により、反応終了後に、残存するシラノール基をヘキサメチルジシラザン等によりトリメチルシリル化することによって、さらにシラノール基を減らすことができる。
また、有機塩基および水の存在下における加水分解と縮合反応には、シラン化合物(1)等中のエポキシ基の開環反応や重合反応などの副反応を生起することがなく、しかも含金属触媒を用いる場合に比べて、ポリオルガノシロキサン(α)中のナトリウム、カリウム、白金、ルテニウム等の金属不純物が少なくなるという利点がある。
ポリオルガノシロキサン(α)のポリスチレン換算重量平均分子量(以下、「Mw」という。)は、好ましくは500〜1,000,000、より好ましくは1,000〜100,000であり、
ポリオルガノシロキサン(α)は、エポキシ当量が1,600g/モル以下であり、好ましくは160〜900g/モル、さらに好ましくは180〜500g/モルである。エポキシ当量が1,600g/モルを超えると、得られるポリオルガノシロキサンに耐熱性の低下や着色などの不具合を生じるようになる。
また、ポリオルガノシロキサン(α)は、シラン化合物(1)に由来する構造単位の含有率が、全構造単位の、5モル%以上であるのが好ましい。該構造単位の含有率が全構造単位の5モル%未満であると、得られるポリオルガノシロキサンに耐熱性の低下や着色などの不具合を生じるおそれがある。
さらに、ポリオルガノシロキサン(α)は、3つ以上の酸素原子に結合しているケイ素原子の全ケイ素原子に対する割合が、好ましくは10%以上であることが望ましい。3つ以上の酸素原子に結合しているケイ素原子の全ケイ素原子に対する割合が10%未満であると、後述する各光半導体封止用組成物から得られる硬化物の硬度や基板との密着性に不具合を生じるおそれがある。
ポリオルガノシロキサン(α)は、後述する各光半導体封止用組成物における主体成分として極めて好適に使用することができるほか、単独でまたは一般のポリオルガノシロキサンと混合して、例えば、成型品、フィルム、ラミネート材、塗料等としても有用である。
ポリオルガノシロキサン(α)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
−(B)金属キレート化合物−
本発明で使用される(B)金属キレート化合物は、好ましくは下記式(3)で表すことができる。
Figure 2007332314
〔式(3)において、MはAl、Ti,Zr、Fe、V、Mo、Sn、Cr,Rh、Co、Ni、CuおよびZnより選ばれ、Zは炭素数1〜20のアルキル基またはハロゲン原子であり、Lは2座の配位子であり、NはMの配位座数でありpは1〜N/2の整数である。〕
式(3)において、MはAl、Ti、Zrが好ましく、Alが特に好ましい。
Lとしてはβジケトンまたは下記式(4)で表される化合物が好ましい。
Figure 2007332314
〔式(4)において、R19、R20はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子、フッ素原子を含んでいてもよい炭素数1〜20のアルキル基およびフッ素原子を含んでいてもよい炭素数6〜30のアリール基より選ばれ、xは1〜4の整数であり、lは0または1である。〕
化合物Lとしては、より具体的には(A)〜(H)のそれぞれで表わされる化合物を挙げることができる。
Figure 2007332314
ここで、R〜R18は、互に独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を含んでいてもよい炭素数1〜20のアルキル基およびフッ素原子を含んでいてもよい炭素数6〜30のアリール基より選ばれる。
〜Qは、互に独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を含んでいてもよい炭素数1〜20のアルキル基およびフッ素原子を含んでいてもよい炭素数6〜30のアリール基より選ばれる。Q〜Qとしては、水素原子、メチル基またはエチル基が好ましい。
xは1〜4の整数である。
また、上記式(4)において、pはN/2が好ましい。
式(B)で表わされる金属キレート化合物としては、以下の構造を有するものが特に好ましい。
Figure 2007332314
金属キレート化合物(B)は(A)成分100重量部に対して、好ましくは0.0001〜20重量部、より好ましくは0.001〜1重量部、さらに好ましくは0.001〜0.1重量部で用いられる。0.1重量部以下でも硬化が十分に進行し、十分な接着力を有することは驚くべきことであった。本発明の熱硬化性樹脂組成物は金属キレート化合物の添加量が少ないため十分なUV耐久性、耐熱性および保存安定性を有することができる。
−他の添加剤−
本発明の熱硬化性樹脂組成物には硬化をさらに効率的に行う目的で(C)成分として酸を添加することもできる。酸は熱や加水分解により発生するものでもよい。
このような酸としては、例えばシラノールやその誘導体、フェノールやその誘導体および縮合物、スクアリン酸やその誘導体を好ましく用いることができる。
シラノールやその誘導体としては、例えば下記式(5)で表される化合物を挙げることができる。
Figure 2007332314
ここで、Aは、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基またはビニル基であり、Bは水酸基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアセトキシ基でありそしてqは1〜3の整数である。
上記式(5)で表わされるシラノールとしては、例えばジフェニルシランジオール、トリフェニルシラノール、ジフェニルメチルシラノール、フェニルビニルシランジオール、トリ(パラメトキシフェニル)シラノール、トリアセチルシラノール、ジフェニルエチルシラノール、ジフェニルプロピルシラノール、トリ(パラニトロフェニル)シラノール、フェニルジビニルシラノール、ビニルジフェニルシラノール、2−ブテニルジフェニルシラノール、ジ(2−ペンテニル)フェニルシラノール、フェニルジプロピルシラノール、パラメチルベンジルジメチルシラノール、トリエチルシラノール、トリメチルシラノール、トリイソブチルシラノールなどを挙げることができる。
また、シラノール誘導体としては、例えばジフェニルジメトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、ジフェニルメチルメトキシシラン、フェニルビニルジメトキシシラン、トリ(パラメトキシフェニル)メトキシシラン、トリアセチルメトキシシラン、ジフェニルエチルメトキシシラン、ジフェニルプロピルメトキシシラン、トリ(パラニトロフェニル)メトキシシラン、フェニルジビニルメトキシシラン、ビニルジフェニルメトキシシラン、2−ブテニルジフェニルメトキシシラン、ジ(2−ペンテニル)フェニルメトキシシラン、フェニルジプロピルメトキシシラン、パラメチルベンジルジメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリイソブチルメトキシシランなどのメトキシシラン;ジフェニルジエトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、ジフェニルメチルエトキシシラン、フェニルビニルジエトキシシラン、トリ(パラメトキシフェニル)エトキシシラン、トリアセチルエトキシシラン、ジフェニルエチルエトキシシラン、ジフェニルプロピルエトキシシラン、トリ(パラニトロフェニル)エトキシシラン、フェニルジビニルエトキシシラン、ビニルジフェニルエトキシシラン、2−ブテニルジフェニルエトキシシラン、ジ(2−ペンテニル)フェニルエトキシシラン、フェニルジプロピルエトキシシラン、パラメチルベンジルジメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリイソブチルエトキシシランなどのエトキシシランを挙げることができる。
本発明の熱硬化性樹脂組成物はさらにエポキシ樹脂を含んでいてもよい。
かかるエポキシ樹脂としては、例えば下記式(13)〜(25)のそれぞれで表わされる化合物を挙げることができる。
Figure 2007332314
上記のエポキシ化合物は縮合された縮合体として用いることもできる。上記式(13)〜(25)のそれぞれで表わされる化合物は下記市販品として入手することができる。すなわち、(13)はHBE100(新日本理化(株)製)、YX8000(ジャパンエポキシレジン(株)製)、(14)はYL7040,(15)はYL6753,(16)はYED216D(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、(17)はCE2021(ダイセル化学工業(株)製)、(18)はLS7970(信越化学工業(株)製)、(19)〜(23)はそれぞれCE2080,CE3000,エポリードGT300,エポリードGT400,EHPE3150(以上、ダイセル化学工業(株)製)、(24)はSR−HHPA(阪本薬品工業(株)製)、(25)はテピック(日産化学工業(株)製)として入手することができる。YL7170,YL8034(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、W−100(新日本理化(株)製)なども用いることができる。これらの他に以下の芳香族エポキシ化合物を水素化して得られる脂環族エポキシ化合物を用いてもよい。ビスフェノールAD,ビスフェノールS,テトラメチルビスフェノールA,テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールAD,テトラメチルビスフェノールS,テトラブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノールA,テトラフルオロビスフェノールAなどのビスフェノールをグリシジル化したビスフェノール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等の2価のフェノールをグリシジル化したエポキシ樹脂、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4-(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノール等のトリスフェノールをグリシジル化したエポキシ樹脂、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等のテトラキスフェノールをグリシジル化したエポキシ樹脂、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック、臭素化ビスフェノールAノボラック等のノボラックをグリシジル化したノボラック型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
上記脂肪族あるいは脂環族エポキシ化合物は(A)のポリオルガノシロキサン100重量部に対して0.1〜1,000重量部で加えることができる。
また、必要に応じて上記の如き芳香族エポキシ化合物を含んでいてもよい。
また、本発明の熱硬化性樹脂組成物には、リードフレームとの密着性を上げる目的で密着助剤をさらに添加することもできる。密着助剤としては、例えばβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ドデカンジチオール、式(26)、(27)の化合物。
Figure 2007332314
また、式(28)、(29)のようなチタネート系密着助剤を使用することもできる。
Figure 2007332314
これらの中でもβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ドデカンジチオール、式(26)、(27)の化合物が好ましい。
密着助剤の添加量は好ましくは(A)成分100重量部に対し、好ましくは0.01〜30重量部、より好ましくは0.1〜20重量部である。
さらに、クラックやリードフレームとの剥離を防ぐ目的で応力緩和剤を添加することもできる。応力緩和剤としては、例えばエポキシ変性シリコーン、カルボキシル基変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、両末端カルボキシ変性水添ポリブタジエンおよび両末端ヒドロキシ変性ポリブタジエンを挙げることができる。
エポキシ変性シリコーンとして例えばKF−105,X−22−163A,X−22−163B,X−22−163C、KF−1001、KF−101、X−22−2000、X−22−169AS、X−22−169B、KF−102(以上信越化学工業(株)製)、SF8421(東レダウ(株)製)、カルボキシル基変性シリコーンとしてX−22−162C、X−22−3701E、X−22−3710(以上信越化学工業(株)製)、メルカプト変性シリコーンとしては、例えばX−22−167B、KF−2001、KF−2004(以上信越化学工業(株)製)、両末端カルボキシ変性水添ポリブタジエンとしてCI1000(日本曹達(株)製)、両末端ヒドロキシ変性ポリブタジエンとしてGI2000、GI3000(以上、日本曹達(株)製)を挙げることができる。
また、樹脂の表面張力を調節する目的で界面活性剤を添加することもできる。
具体的にはF−474、F−479(以上、大日本インキ工業(株)製)、FC−4430、FC−4432(以上、住友スリーエム(株)製)、KP323、KP341(以上、信越化学工業(株)製)、PAINTAD32、PAINTAD54、DK8−8011(東レダウ(株)製)、エマルゲン104P、エマルゲン109P、エマルゲン123、レオドール8P(以上、花王(株)製)を挙げることができる。
本発明の熱硬化性樹脂組成物には、UV耐久性をさらに向上させ、また粘度の調整等の目的で、必要に応じて、無機酸化物粒子を配合することもできる。
前記無機酸化物粒子としては、特に限定されるものではないが、例えば、Si、Al、Zr、Ti、Zn、Ge、In、Sn、SbおよびCeの群から選ばれる少なくとも1種の元素を含有する酸化物からなる粒子を挙げることができる。より具体的には、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウム−スズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、アンチモン−スズ酸化物(ATO)、酸化セリウム等の粒子を挙げることができる。
これらの無機酸化物粒子のうち、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化アンチモン等の微粒子が好ましい。
また、前記無機酸化物粒子は、アルキル化、ポリシロキシル化、(メタ)アクリロキシアルキル化、グリコキシアルキル化、アミノアルキル化等の表面処理を適宜施して使用することもできる。
前記無機酸化物粒子は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
無機酸化物粒子の一次平均粒径は、好ましくは100nm以下、より好ましくは1〜80nmである。この場合、無機酸化物粒子の一次平均粒径が100nmを超えると、得られる硬化物の透明性が損なわれるおそれがある。
無機酸化物粒子の使用量は、(A)ポリオルガノシロキサン100重量部に対して、好ましくは90重量部以下、さらに好ましくは80重量部以下である。無機酸化物粒子の使用量が90重量部を超えると、組成物が増粘して、加工が困難になるおそれがある。
前記無機酸化物粒子は、場合により、適当な溶媒に分散した分散液として使用することもできる。
前記溶媒としては、熱硬化性樹脂組成物を構成する各成分および硬化反応に対して不活性で、適度の揮発性を有する限り特に限定されるものではない。例えば、メタノール、エタノール、i−プロパノール、n−ブタノール、n−オクタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピルグリコールモノメチルエーテル、プロピルグリコールモノエチルエーテル等のアルコール;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン;
酢酸エチル、酢酸n−ブチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン等のエステルまたはラクトン;
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミドまたはラクタム
等を挙げることができる。
これらの溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
無機酸化物粒子の分散液の固形分濃度は、好ましくは1〜60重量%、より好ましくは5〜50重量%である。
さらに必要に応じて、無機酸化物粒子と共に、例えば、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、高分子分散剤等の分散剤を1種以上併用することができる。
無機酸化物粒子やその分散液は市販されており、これらの市販品を使用することもできる。
無機酸化物粒子やその分散液の市販品(商品名)としては、例えば、シリカ粒子の分散液として、メタノールシリカゾル、IPA−ST、MEK−ST、NBA−ST、XBA−ST、DMAC−ST、ST−UP、ST−OUP、ST−C、ST−N、ST−O、ST−OL、ST−20、ST−40、ST−50(以上、日産化学工業(株)製);オルガノゾルPL−2PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル分散液、扶桑化学工業(株)製)等を、シリカ粒子として、アエロジル130、アエロジル300、アエロジル380、アエロジルTT600、アエロジルOX50(以上、日本アエロジル(株)製);シルデックスH31、シルデックスH32、シルデックスH51、シルデックスH52、シルデックスH121、シルデックスH122(以上、旭硝子(株)製);E220A、E220(以上、日本シリカ工業(株)製);SYLYSIA470(富士シリシア(株)製)、SGフレーク(日本板硝子(株)製)等を、アルミナ粒子の分散液として、アルミナゾル−100、アルミナゾル−200、アルミナゾル−520(以上、いずれも水分散液、日産化学工業(株)製);AS−1501(i−プロパノール分散液、住友大阪セメント(株)製);AS−150T(トルエン分散液、住友大阪セメント(株)製)等を、ジルコニア粒子の分散液として、HXU−110JC(トルエン分散液、住友大阪セメント(株)製)等を、アンチモン酸亜鉛粒子の分散液として、セルナックス(水分散液、日産化学工業(株)製)等を、酸化セリウム粒子の分散液として、ニードラール(水分散液、多木化学(株)製)等を、それぞれ挙げることができる。
また、熱硬化性樹脂組成物には、硬化物の着色を抑えるために、必要に応じて、酸化防止剤、光安定剤や紫外線吸収剤を配合することもできる。
前記酸化防止剤としては、商品名で、例えば、SumilizerBHT、SumilizerGM、SumilizerGS、SumilizerMDP−S、SumilizerBBM−S、SumilizerWX−R、SumilizerGA−80、SumilizerTPL−R、SumilizerTPM、SumilizerTPS、SumilizerTP−D(以上、住友化学工業(株)製);Irganox1076、Irganox565、Irganox1520、Irganox245、Irganox1010、Irganox1098、Irganox1330、Irganox1425、Irganox3114、IrganoxMD−1024(以上、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製);Cyanox1790(Cytec社製);TNP(四日市合成(株)製);Weston618(Vorg Warner社製);Irgafos168(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製);AdekastabPEP−36、AdekastabHP−10(以上、旭電化工業(株)製)や、SandstabP−EPQ、Ultranox626等を挙げることができる。
前記光安定剤としては、商品名で、例えば、Viosorb04(共同薬品(株)製);Tinuvin622、Tinuvin765(以上、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製);CyasorbUV−3346(Cytec社製);AdekastabLA−57(旭電化工業(株)製)や、Chimassorb119、Chimassorb944等を挙げることができる。
前記紫外線吸収剤としては、商品名で、例えば、Viosorb80、Viosorb110、Viosorb130、Viosorb520、Viosorb583、Viosorb590(以上、共同薬品(株)製);TinuvinP、Tinuvin213、Tinuvin234、Tinuvin320、Tinuvin326、Tinuvin328(以上、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製);AdekastabLA−31(旭電化工業(株)製)等を挙げることができる。
さらに、熱硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、本発明の所期の効果を損なわない範囲で、エチレングリコールやプロピレングリコール等の脂肪族ポリオール、脂肪族または芳香族のカルボン酸、フェノール化合物等の炭酸ガス発生防止剤;ポリアルキレングリコール、ポリジメチルシロキサン誘導体等の応力緩和剤;各種のゴムや有機ポリマービーズ等の耐衝撃性改良剤のほか、可塑剤、滑剤、他のシランカップリング剤、難燃剤、帯電防止剤、レベリング剤、イオントラップ剤、摺動性改良剤、遥変性付与剤、表面張力低下剤、消泡剤、沈降防止剤、抗酸化剤、離型剤、蛍光剤、着色剤、導電性充填剤等の前記以外の添加剤を配合してもよい。
熱硬化性樹脂組成物の調製方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の方法により各成分を混合して調製することができる。光半導体封止用組成物〔I〕の好ましい調製方法としては、シラン化合物(1)等とシラン化合物(2)等とを、前記した要領で加水分解と縮合させることにより得られた(A)ポリオルガノシロキサンを、(B)金属キレート化合物と混合する方法を挙げることができる。
この熱硬化性樹脂組成物は、(A)成分を主成分とするポリオルガノシロキサン液と(B)成分を主成分とする硬化剤液とを別々に調製しておき、使用時にこれらを混合して調製してもよい。
光半導体用接着剤
本発明の熱硬化性樹脂組成物は光半導体用接着剤として用いることができる。
リードフレームに本発明の光半導体封止用接着剤をスタンピングなどの方法で塗布し、LEDチップをのせて50〜250℃のオーブンで30分〜4時間加熱して接着させることができる。
光半導体封止材
本発明の熱硬化性樹脂組成物は光半導体用封止材として用いることもできる。
光半導体封止材を形成する際には、光半導体層を有する基板の所定箇所に、本発明の熱硬化性樹脂組成物を、例えば、塗布、ポッティング、含浸等により施工したのち、加熱して硬化させる。
組成物のより具体的な施工方法としては、例えば、ディスペンサーによる塗布またはポッティング、真空下または常圧下におけるスクリーン印刷による塗布、反応射出成型等の公知の方法を採用することができる。
また、施工後の各光半導体封止用組成物を硬化させる方法としては、例えば、密閉式硬化炉、連続硬化が可能なトンネル炉等の従来公知の硬化装置を用いることができる。
硬化させるための加熱方法としては、例えば、熱風循環式加熱、赤外線加熱、高周波加熱等の従来公知の方法を採用することができる。
硬化条件は、例えば、80〜250℃で30秒〜15時間程度が好ましい。硬化に際して、硬化物の内部応力を低減させることを目的とする場合は、例えば80〜120℃で0.5〜5時間程度の条件で予備硬化させたのち、例えば120〜180℃で0.1〜15時間程度の条件で後硬化させることが好ましく、また短時間硬化を目的とする場合は、例えば150〜250℃で30秒〜30分程度の条件で硬化させることが好ましい。
以下に実施例を示して、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
各合成例で得た(A)ポリオルガノシロキサンの粘度、Mwおよびエポキシ当量の測定方法は、下記のとおりである。
Mwの測定方法:カラム:東ソー製TSKgelGRCXLH、溶剤:テトラヒドロフラン、温度:40℃、圧力:68kgf/cm
エポキシ当量の測定方法:
JIS C 2105の塩酸−メチルエチルケトン法に準じた。
合成例1
撹拌機、温度計、滴下漏斗、還流冷却管を備えた反応容器に、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(ECETS)60.0g、ジメチルジメトキシシラン(DMDS)40.0g、メチルイソブチルケトン(MIBK)500g、トリエチルアミン10.0gを加え、室温で混合した。次いで、脱イオン水100gを滴下漏斗より30分かけて滴下したのち、還流下で混合しつつ、80℃で6時間反応させた。反応終了後、有機層を取り出し、0.2重量%硝酸アンモニウム水溶液で、洗浄後の水が中性になるまで洗浄したのち、減圧下で溶媒および水を留去して、(A)ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
この(A)ポリオルガノシロキサンについて、H−NMR分析を行なったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。
この(A)ポリオルガノシロキサンのMwおよびエポキシ当量を表1に示す。
合成例2〜4
仕込み原料を表1に示すとおりとした以外は、合成例1と同様にして、各(A)ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
各(A)ポリオルガノシロキサンのMwおよびエポキシ当量を表1に示す。
Figure 2007332314
上記表中、MTMSはメチルトリメトキシシランを表す。
光半導体封止用組成物の成型治具と硬化条件、並びに硬化物の外観、UV耐久性および硬度の評価要領は、下記のとおりである。
成型治具:
ポリエチレンテレフタレートフィルムを表面に貼り付けたガラス板2枚を対向させ、ガラス板の端部に直径2mmのシリコンゴムロッドをU字状にして挟み込んで、成型治具とした。
硬化条件:
前記成型治具に光半導体封止用組成物を注入し、70℃のオーブンで30分150℃のオーブンで1時間加熱して硬化させて硬化物を得た。
UV耐久性の評価要領:
硬化物に対して、紫外線ロングライフフェードメーター(スガ試験機(株)製)を用い、紫外線(UV)を63℃で2週間連続照射して、照射前後における波長470nmでの透過率を分光光度計にて測定した。

○・・・(照射後の透過率)/(初期透過率)≧0.9
×・・・(照射後の透過率)/(初期透過率)<0.9
耐熱性:
硬化物の初期および150℃のオーブンに120時間放置した後の470nmでの透過率を測定した。

○・・・(照射後の透過率)/(初期透過率)≧0.9
×・・・(照射後の透過率)/(初期透過率)<0.9
接着性:
リードフレームに光半導体封止用接着剤を塗布し、サファイアのチップを乗せて150℃のオーブンで1時間加熱し接着試験サンプルとし20個作成した。次に接着試験サンプルを150℃のホットプレート上に置き、ピンセットでつついたときの剥がれを生じた接着試験サンプルの数を数えた。

○・・・剥がれた接着試験サンプル≦2個
×・・・剥がれた接着試験サンプル≧3個
保存安定性
熱硬化性組成物を調整後TV型粘度計にて25℃での粘度を測定し、初期粘度とした。この熱硬化性組成物を−15℃で2ヶ月保存した後の粘度を同様の方法で測定し、保存後粘度とした。

○・・・(保存後粘度)/(初期粘度)<1.2
×・・・(保存後粘度)/(初期粘度)≧1.2
実施例1
(A)成分として、合成例1で得た(A)ポリオルガノシロキサン10g、(B)成分としてアルミニウムアセチルアセトナート(以下、Alacacと略)1mgを加えて、均一に混合し、脱泡したのち、上述の方法で硬化物および接着試験サンプルを作成してUV耐久性、耐熱性、接着性の評価を行った。結果を表3に示す。
実施例2〜6
表2に示す各成分を用いた以外は実施例1と同様にして、硬化物を得た。各硬化物の評価結果を表3に示す。
比較例1,2
表2に示す各成分を用いた以外は実施例1と同様にして、硬化物を得た。各硬化物の評価結果を表3に示す。
表2における前記以外の成分の内容は、下記のとおりである。
Figure 2007332314
実施例、比較例に示すように本発明のポリオルガノシロキサンにアルミニウムアセチルアセトナートを少量添加することでUV耐久性、耐熱性、接着性および保存安定性を満足する光半導体用接着剤を得ることができる。
Figure 2007332314
Figure 2007332314
光半導体装置の構成を模式的に示す断面図である。
符号の説明
101 ハウジング
102 実装基板
103 LEDチップ
104 蛍光物質
105 導電性ワイヤ
106 実装基板の電極
107 導体配線
108 封止樹脂
109 光半導体接着剤

Claims (6)

  1. (A)エポキシ当量が1,600g/モル以下のポリオルガノシロキサンおよび(B)金属キレート化合物を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
  2. (A)成分が下記式(1)で表されるシラン化合物および/またはその部分縮合物と下記式(2)で表されるシラン化合物および/またはその部分縮合物とを、有機溶媒、有機塩基および水の存在下に加熱して、加水分解および縮合させて得られる、ポリスチレン換算重量平均分子量500〜1,000,000のポリオルガノシロキサンである請求項1の熱硬化性樹脂組成物。
    Figure 2007332314
    〔式(1)において、Xはエポキシ基を1個以上有する1価の有機基、Yは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基を示し、Rは水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換アルキル基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基を示し、nは0〜2の整数である。〕
    Figure 2007332314
    〔式(2)において、Yは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子または炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基を示し、Rは水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換アルキル基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基を示し、mは0〜3の整数である。〕
  3. (B)の金属キレート化合物が下記式(3)で表される請求項1〜2のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
    Figure 2007332314
    〔式(3)において、MはAl、Ti,Zr、Fe、V、Mo、Sn、Cr,Rh、Co、Ni、CuおよびZnより選ばれ、Zは炭素数1〜20のアルキル基またはハロゲン原子であり、Lは2座の配位子であり、NはMの配位座数であり、pは1〜N/2の整数である。〕
  4. 上記式(3)中のLがβジケトンまたは下記式(4)で表される化合物である請求項3に記載の熱硬化性樹脂組成物。
    Figure 2007332314
    〔式(4)において、R19、R20はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を含んでいてもよい炭素数1〜20のアルキル基およびフッ素原子を含んでいてもよい炭素数6〜30のアリール基より選ばれ、xは1〜4の整数でありlは0または1である。〕
  5. (A)成分100重量部に対して(B)成分が0.001〜0.1重量部からなる請求項1〜4のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
  6. 請求項1〜4のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物からなる光半導体用接着剤。
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