JP2007311816A - ディスク状対象物を処理するための装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ディスク状対象物の少なくとも下面の処理を行うための装置において、ディスク状対象物の汚染が回避できるような装置を提供する。
【解決手段】本発明の装置は、上面(2o)を有しかつディスク状対象物(1)を位置決めするための少なくとも2つの部材(19)が上面から垂直に突出している回転可能保持器(2)と、ディスク状対象物(1)の下面(1u)に処理媒体を供給するために固定的に設けられかつ保持器(2)を貫通するように配置された少なくとも1つの配管(24,26)と、保持器(2)の下面(2u)の少なくとも一部から離隔して固定配置され環状間隙(16)を形成しているカバー(4)と、を備え、前記少なくとも1つの配管(24,26)は、隙間のない状態でカバー(4)を貫通していることを特徴とする。
【選択図】図2
【解決手段】本発明の装置は、上面(2o)を有しかつディスク状対象物(1)を位置決めするための少なくとも2つの部材(19)が上面から垂直に突出している回転可能保持器(2)と、ディスク状対象物(1)の下面(1u)に処理媒体を供給するために固定的に設けられかつ保持器(2)を貫通するように配置された少なくとも1つの配管(24,26)と、保持器(2)の下面(2u)の少なくとも一部から離隔して固定配置され環状間隙(16)を形成しているカバー(4)と、を備え、前記少なくとも1つの配管(24,26)は、隙間のない状態でカバー(4)を貫通していることを特徴とする。
【選択図】図2
Description
本発明は、ディスク状対象物の少なくとも底面を処理するための装置に関するものである。
ディスク状対象物には、シリコンウェーハ、ガリウム砒素ウェーハのような半導体基板だけでなく、ガラス製ディスク、水晶製ディスク、金属製ディスク、フラットパネルディスプレイ、いわゆるハードディスク、及びコンパクトディスク(CD)が含まれる。
ディスク状対象物の表面処理としては、例えば、エッチング、洗浄、層形成(例えば電気めっき)、または感光性レジストの形成がある。
このような処理の際には、ディスク状対象物の片面または両面に(同一の、または異なる)液体が付与される。両面に同一の液体が付与される場合、前記液体を回収して戻すことが可能である。例えば、一側の面(表面)にエッチング処理を行い、そのとき他側の面(裏面)をエッチングから保護する必要がある場合には、2種類の液体が要求される。
特許文献1は、液体を用いながらディスク状対象物の両面を同時に処理する装置について記載している。この装置は、ディスク状対象物を保持するための回転可能な保持器と、対象物の両面に液体を供給する手段とを備えている。保持器は、回転可能な中空シャフトを介して駆動される。回転可能な中空シャフトの内部には、固定中空シャフトが配置されている。処理液は、固定中空シャフトを通じて供給される。回転中空シャフトは、いわゆる中空シャフトモーターのシャフトを構成している。
米国特許第5,375,291号明細書
特開平9−314023号公報
特開平10−340947号公報
上記の装置は、液体と、例えばベアリング摩耗で生じる固体粒子とが、固定中空シャフトと回転中空シャフトとの間の間隙を通じて侵入する可能性があるという欠点を有している。この欠点は、ディスク状対象物が汚染されるという危険性に通じるものである。
特許文献2によれば、この問題は、間隙の上方にカバーを設けることで解決されている。加えて、保持器の回転部分とカバーとの間にはラビリンスシールが設けられている。しかしながら、このような構成でも満足できる結果は得られていない。もし、事前に数枚のウェーハ処理が行われていると、ディスク状対象物の保持器に面する面が汚染される。調査によれば、液体の液滴もカバー上に溜まることが判っている。
従って、本発明の目的は、上記に述べたタイプの装置において、ディスク状対象物の汚染が低減または回避できるような装置を提供することである。ここで言う汚染とは、機械装置に起因する粒子による汚染、及び液体の液滴の蓄積による汚染の双方を意味する。
本発明は、次のような着想に基づいている。もし、固定装置(カバー)を、処理されるべきディスク状対象物(以下、ウェーハと称する)の直下の、例えば処理用媒体供給配管周りに配置すると、ウェーハ下方の空間に乱流が発生する。この乱流が上記に述べた問題の原因となる。従って、本発明は異なる手法を用いる。本発明によれば、ウェーハを収容する回転可能保持器とウェーハ自体との間には、さらなる部材を配置しない。本発明は、処理用媒体供給(固定)配管と回転保持器との間に間隙を設け、液体の液滴または塵粒子が前記間隙を通じて排出され得ることに着目する。本発明によれば、以下では"カバー"と称する装置における固定部材を保持器の下に設けることで、前記液滴または塵粒子を排除する。配管と回転保持器との間の間隙に連通する形態で、保持器の下面と固定カバーの上面との間にさらなる間隙を設ける。この間隙を通じて、前記液滴及び固体粒子を排出することができる。固定カバーに対する保持器の回転運動によって、この間隙領域においては、異物に対して乱流と遠心力とが作用し、こうして異物が安全に外部へと(処理媒体の供給配管から見て半径方向に)排出される。
本発明が提供する、ディスク状対象物の少なくとも下面の処理を行うための装置、の最も一般的な実施形態は、−上面を有しかつディスク状対象物を位置決めするための少なくとも2つの部材が上面から垂直に突出している回転可能保持器と、−ディスク状対象物の下面に処理媒体を供給するために固定的に設けられかつ保持器を貫通するように配置された少なくとも1つの配管と、−保持器の下面の少なくとも一部から離隔して固定配置され環状間隙を形成しているカバーと、を備え、前記少なくとも1つの配管は、隙間のない状態でカバーを貫通していることを特徴としている。
本装置の第1の特徴は、回転保持器が、ウェーハを位置決めするための少なくとも2つの部材を備えていることである。通常、このような部材は少なくとも3つ、例えば、互いに120°の角度間隔で設けられる。ピンとしても知られるこのような部材は、ウェーハをガイド/把持するために半径方向に調整可能であるように構成することができる。図面を用いた以下の説明でさらに詳細を記述する。
本装置の第2の特徴は、少なくとも1本の処理用配管が、該装置の中心軸線に沿って、または中心軸線に平行して、すなわち、ウェーハに対して垂直な方向に、該装置を貫通していることである。この配管(これらの配管)を通じて、ウェーハを処理するための液体またはガスを供給することができる。さらに、1本の配管は、例えばウェーハの下面で反射された光を検出するために使用される光導波管であってもよい。この導波管によって、処理が完了したことを知ることができる。導波管はまた、ウェーハが所定位置にあるかどうかを検出するために使用することもできる。
本装置の第3の特徴は、保持器の下方に、該保持器から離隔して固定カバーが設けられていることである。この固定カバーは、遊びなく(結合部なしに)1または複数の固定配管に接続されている。このようにして、保持器の上面から、1または複数の配管のそばを通り、カバーと保持器との間の間隙にまで延在する連続的な通路(間隙)が形成されている。以下に説明するように、カバーと保持器との間の間隙は、半径方向に延在して外部へと通じている。
間隙の目的及び機能については、上記に既に説明した。
一実施形態によれば、カバーは、少なくとも1つの配管に近接配置されかつ保持器の上面と平行に延在する内側部分と、縁部に向かい保持器の上面に対して下方に傾斜した外側部分と、を備えている。このようにして、異物または液体粒子を半径方向に排出することが容易になっている。
間隙の高さを一定にするために、保持器の下面は、カバーの形状に対応するように形成されている。さらなる実施形態では、保持器が、配管から見て半径方向に、カバーを越えて延在している。この実施形態も図示しており、追って図面と共に説明する。
カバーは、前記少なくとも1つの配管を収容している筒体上に固定的に着座させることができる。筒体は、保持器の上面から離れて固定基底板に向かうように、該装置内で延在させることができる。
さらなる実施形態によれば、保持器の下面に沿って縁部に向けて環状ディスクが延在し、この環状ディスクは、1または複数の配管を離隔しながら取り囲み、さらに該環状ディスクは、その外周部で保持器に接続可能とされかつカバーから所定距離だけ離隔しながらさらに延在している。
保持器と環状ディスクとの間には、環状間隙の延長部分として、配管から見て半径方向に延在する少なくとも1つの間隙が設けられている。この少なくとも1つの間隙は、保持器と配管との間の間隙、または保持器とカバーとの間の間隙の延長部分として外部へ通じており、カバーに対する保持器または環状ディスクの回転運動に起因する遠心力の作用を受けながら、液滴または固体粒子が前記間隙を通じて外部へと排出される。
保持器の外縁部と環状ディスクの外縁部との間には、複数の間隙(通路)を設けることが好ましい。この場合、各間隙(通路)は、外周周りに互いに等角度間隔で配置すると好ましい。
保持器と共に回転するように構成されている環状ディスクは、その内側部分で、カバーを保持している前記筒体に支持された回転ベアリングによってガイドすることができる。
さらに、環状ディスクは、その内側部分に筒状延伸部を備え、該筒状延伸部は、前記少なくとも1つの配管と平行かつ保持器の下面から離れる方向に延在している。すなわち、前記筒体に対し平行に離隔配置されている。筒状延伸部と筒体との間の空間は重要な意味を有する。なぜなら、回転部材(筒状延伸部)を固定部材(筒体)に対して位置決めしなければならないからである。環状ディスクの筒状延伸部は、回転駆動装置に連結可能である。回転駆動装置は、例えばモーターであり、該モーターのロータは筒状延伸部に接続され、該モーターのステータは、少なくとも1つの回転ベアリングを介して筒状延伸部を支持している。
上述したようなウェーハ下面の処理とは別に、ウェーハ上面を処理するために、ウェーハの上方から処理媒体を供給するさらなる装置を本装置に付加してもよい。いずれの場合も、各配管は、回転部材に干渉することなく固定配置される。それでも、回転部材を固定部材に対してシール状態とすることに関する支障は生じない。
本発明のさらなる特徴は、従属請求項及び他の出願書類に記載されている。
以下、添付図面に示す種々の実施形態に基づいて本発明をより詳細に説明する。
図面においては、同一の部材、または同一の作用を奏する部材には同一の符号を付している。
図1,2に示す装置は、外側リング9と内側中間体17とを有する回転可能保持器2を備えている。内側中間体17は、中央に(装置の中心軸線Mと同心状態の)開口部15を有している。リング9から、すなわち保持器2の上面2oからは、6本の把持部材19(ピンと称される)が上方に向けて延在している。ガイド部材19は、ウェーハ1を輪郭の位置で把持し、保持器2の面2oに平行な状態に保持するために用いられる。
中間体17の下方にはカバー4が離隔配置されている。カバー4は、中心軸線Mと同心状に延在し、筒体8の上に着座している。筒体8は、図2に示すように、装置の基底板6の位置まで下方に延在している。
カバー4は、保持器2の上面2oに平行な内側部分4iと、下方に向けて傾斜する外側部分4aとを備えている。
カバー4の下方の所定距離16uだけ離れた位置には、環状ディスク7が配置されている。環状ディスク7の(上端部)内側には回転ベアリングD1を介して筒体8が取付けられ、また、環状ディスク7は(その下端部に)筒状延伸部5を備えている。筒状延伸部5は、筒体8の周囲に所定間隔を置きながら筒体8と平行に、基底板6に向けて下方に延在している。
中間体17が有する開口部15は、カバー4と保持器2(中間体17)との間の環状間隙16につながり、さらに、環状ディスク7とリング9との間に形成された複数の筒状通路の形態で半径方向外方に延在している。
本装置の組立てに際しては、まずディスク7を配置し、次いでカバー4を所定位置に載せ、最後にリング9を含むアッセンブリと中間体17とを配置する。
環状ディスク7の下方の所定距離だけ離れた位置には、外側ステータ部材3sと内側ロータ部材3rとを備えたモーター3が配置されている。内側ロータ部材3rは筒状延伸部5を支持している。ステータ部材3sは、その上端部及び下端部において、回転ベアリングD2,D3を介して筒状延伸部5を支持している。モーター(ステータ部材3s)は、基底板6上に支持されている。基底板6は、その中央に孔を有しており、筒状延伸部5はこの孔を貫通し、基底板6から所定距離の位置で終端している。
固定筒体8の内部には4本の配管20,22,24,26が延在している。配管22,24は処理液を供給するためのものであり、配管26はガスを供給するために用いられ、配管20は導波管である。図2に示すように、全ての配管は基底板6の下方領域から保持器2の開口部15の領域にまで延在し、保持器2の上面2oから突出している。
配管20,22,24,26は、カバー4に設けられた各開口部を隙間なく貫通して(結合部なしに)ガイドされている。
ウェーハを載せ、モーター3のスイッチをオンにすると、ロータ3r、環状ディスク7、リング9、中間体17、把持部材19、及びウェーハ1が回転する。
一方、カバー4、筒体8、基底板6、及びモーターのステータ部材3sは静止したままである。
配管22,24を通じてウェーハ1の下面1uに供給される液体は、ウェーハ1の回転運動によって外側へと流れる。このようにして、ウェーハの下面1uは、例えばエッチングされる。落下する全ての液体粒子は、開口部15を通じて間隙16へ、さらには延在間隙16sを通じて外部へと除去可能である。この除去も、固定カバー4に対する保持器2の回転運動に起因する遠心力の作用で行われる。
モーター3が、内部ロータを有する中空シャフトモーターである図2の実施形態に対して、図3の実施形態における駆動装置は、いわゆる外部ロータ式の中空シャフトモーターである。この構成では、回転運動は、外部ロータ3rから環状ディスク7及び上方の保持器2へと直接伝達される。同時に、環状ディスク7は固定筒体8から離隔して配置され、すなわちこれら2部材間には間隙11が設けられており、この間隙はカバー4によって覆われている。
図4の実施形態は図2の実施形態に類似している。加えて、環状ディスク7の輪郭部には、下方に向けて突出する円筒状カバー40が接続されている。このカバー40は、環状ディスク7と駆動ユニット3(モーター)との間の間隙を、外部処理ボウル30から遮蔽している。
基底板6の輪郭部は拡張されている(部分42)。部分42からは、2つの油圧昇降シリンダを備えた昇降機構44が上方に向けて延在している。処理ボウル30は、蛇腹38によって部分42に接続されている。蛇腹38は、中心軸線Mと同心状に配置され、その直径は処理ボウル30の直径とほぼ同じである。このようにして内部領域36が形成されている。
処理ボウル30は、2つの環状チャンバ33,35を備えている。これらのチャンバは、一方が他方の上に配置され、内側に開口する形態で構成されている。昇降機構44によって、処理ボウル30を上下に移動させることができる。回転するウェーハ1から飛散する処理液は、チャンバ33または35に収集することもできる。処理液は、開口部Eを通じてチャンバ33から除去することができる。チャンバ35からの排出は、底部に設けられた開口部Fを通じて行うことができる。
ウェーハ1の上方には配管28が配置されており、この配管28を通じて液体がウェーハの表面1oに供給される。
ウェーハ1の上面及び下面に同一の液体が供給される場合には、この液体を相応のシステム(図示せず)によって処理(リサイクル)して、ウェーハに供給することができる。
ウェーハ1において保持器2に対面する面に供給された液体の一部(極くわずかの量)は、図2に示す中間体17の開口部15内へと流れる。次いで液滴は非回転カバー4に到達する。保持器2の回転中、カバー4と保持器2(中間体17)との間の間隙16内にはガス渦流が生成される。カバー4上の液滴は、ガス渦流によって半径方向外方に運ばれ、間隙16,16sを通じて装置から排出される。ベアリングの摩耗によって発生し、環状ディスク7とカバー4との間の間隙に存在する粒子も、同様に排出される。
ウェーハ1に対面する保持器2の面2o上に存在する液滴は、ウェーハ1に到達した液体と同様に、保持器2の回転によって半径方向外方に運ばれて飛散する。
処理ボウル30内部の領域36は、基底板の部分42に設けられた開口部Bを通じて排出処理を行うことができる。以上述べたように、下方に向かう定常ガス流が実現され、駆動ユニットで発生する粒子がウェーハ1に到達することが防止される。
1 ウェーハ(ディスク状対象物)
1u ウェーハ(ディスク状対象物)の下面
2 保持器
2o 保持器の上面
2u 保持器の下面
3 モーター(回転駆動装置)
3r ロータ
3s ステータ
4 カバー
4a カバーの外側部分
4i カバーの内側部分
5 筒状延伸部
7 環状ディスク
8 筒体
16 環状間隙
16s 間隙(通路)
16u 所定距離
19 ウェーハ把持部材
20,22,24,26 配管
D1,D2,D3 回転ベアリング
1u ウェーハ(ディスク状対象物)の下面
2 保持器
2o 保持器の上面
2u 保持器の下面
3 モーター(回転駆動装置)
3r ロータ
3s ステータ
4 カバー
4a カバーの外側部分
4i カバーの内側部分
5 筒状延伸部
7 環状ディスク
8 筒体
16 環状間隙
16s 間隙(通路)
16u 所定距離
19 ウェーハ把持部材
20,22,24,26 配管
D1,D2,D3 回転ベアリング
Claims (2)
- ディスク状対象物(1)の少なくとも下面(1u)の処理を行うための装置であって、
1.1 上面(2o)を有しかつ前記ディスク状対象物(1)を位置決めするための少なくとも2つの部材(19)が前記上面から垂直に突出している回転可能保持器(2)と、
1.2 前記ディスク状対象物(1)の下面(1u)に処理媒体を供給するために固定的に設けられかつ前記保持器(2)を貫通するように配置された少なくとも1つの配管(20)(22)(24)(26)と、
1.3 前記保持器(2)の下面(2u)の少なくとも一部から離隔して固定配置され環状間隙(16)を形成しているカバー(4)と、を備え、
前記少なくとも1つの配管(20)(22)(24)(26)は、隙間のない状態で前記カバー(4)を貫通しており、
前記保持器(2)の下面(2u)は、前記カバー(4)の形状に対応するように形成されていることを特徴とする装置。 - ディスク状対象物(1)の少なくとも下面(1u)の処理を行うための装置であって、
1.1 上面(2o)を有しかつ前記ディスク状対象物(1)を位置決めするための少なくとも2つの部材(19)が前記上面から垂直に突出している回転可能保持器(2)と、
1.2 前記ディスク状対象物(1)の下面(1u)に処理媒体を供給するために固定的に設けられかつ前記保持器(2)を貫通するように配置された少なくとも1つの配管(20)(22)(24)(26)と、
1.3 前記保持器(2)の下面(2u)の少なくとも一部から離隔して固定配置され環状間隙(16)を形成しているカバー(4)と、を備え、
前記少なくとも1つの配管(20)(22)(24)(26)は、隙間のない状態で前記カバー(4)を貫通しており、
前記保持器(2)の下面(2u)は、前記カバー(4)の形状に対応するように形成されており、該下面(2u)に対して環状ディスク(7)が近接配置され、該環状ディスク(7)は、前記少なくとも1つの配管(20)(22)(24)(26)を離隔しながら取り囲み、該環状ディスク(7)は、その外周部で前記保持器(2)に接続されかつ前記カバー(4)から所定距離(16u)だけ離隔しながらさらに延在しており、
前記保持器(2)と前記環状ディスク(7)との間には、前記環状間隙(16)の延長部分として、前記配管(20)(22)(24)(26)から見て半径方向に延在する少なくとも1つの間隙(16s)が設けられていることを特徴とする装置。
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