JP2887115B2 - スピン処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＬＣＤなどの基板を
スピン洗浄・リンス・乾燥などの処理を行うスピン処理
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばＬＣＤなどの矩形状のガラス製の
基板に半導体デバイスを形成する製造過程においては、
上記基板の洗浄が繰り返し行われる。洗浄された基板を
リンス・乾燥させるためには、一般にスピン処理装置が
用いられる。スピン処理装置には、基板を保持するスピ
ンテーブルを基板の移載位置まで上昇させて基板を保持
した後に下降させ、このスピンテーブルを回転駆動させ
て基板の洗浄・リンス・乾燥等の処理を行うものであ
る。

【０００３】図３に従来のスピン処理装置の構成を示
す。スピン処理装置１は、カップ体２を有しており、こ
のカップ体２は、中心部分に挿通孔３が形成された有底
状の下カップ４と、この下カップ４の上部に、例えばね
じにより一体的に結合されたリング状の上カップ５とか
らなる。

【０００４】上記挿通孔３には、駆動軸６が挿通され
る。この駆動軸６の上記カップ体２の外底部に突出した
下端は、駆動源であるスピンモータ７に接続されてい
る。駆動軸の上端は、基板８を載置するスピンテーブル
９の下面に接続されている。

【０００５】上記スピンモータ７の下方には、上記駆動
軸６を上下方向に駆動させるための、図示しない上下駆
動機構が設けられている。すなわち上記駆動軸６は、上
記挿通孔３に挿通されて、上下方向への移動が自在な構
成となっている。

【０００６】上記下カップ４には整流板１０が形成さ
れ、またこの整流板１０の下方側の下カップ４の底面に
は排気流路１１が形成されている。整流板１０は上記ス
ピンテーブル９の回転駆動により生じる気流、あるいは
この気流によって飛散された処理液を上記排気流路１１
へとガイドするものである。

【０００７】このような構成のスピン処理装置１では、
上記スピンテーブル９を上昇させてスピンテーブル９に
基板８を搬送手段１２によって搬入載置する。上記スピ
ンテーブル９上に基板８を載置したならば、上記上下駆
動機構を駆動してスピンテーブル９を所定位置まで下降
させる。ついで、スピンモータ７を作動させて上記スピ
ンテーブル９を高速回転させることにより、上記基板８
の洗浄・リンス・乾燥等の処理を行う。処理が終了した
基板は再び上下駆動機構で上昇させ、所定位置で搬送さ
せる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な構成のスピン処理装置１では、基板８を搬送手段１２
によりスピンテーブル９に搬入載置するとき、この基板
８に付着している処理液が下部に滴下する。基板８から
滴下した処理液は、上記挿通孔３を通ってスピンモータ
７に侵入したり、上記駆動軸６に付着し、この駆動軸６
を伝わってスピンモータ７に侵入する場合がある。

【０００９】このように処理液がスピンモータ７へ侵入
すると、電気系統がショートしたり、スピンモータ７の
絶縁が劣化する等の不具合があり、この場合には上記ス
ピンモータ７などが焼損する虞がある。

【００１０】また上記下カップ４では、気流の乱れが生
じて上記処理液の排出が良好に行われないという問題が
生じている。すなわち、上記下カップ４には整流板１０
が設けられ、この整流板１０にガイドされて下カップ４
の各部に設けられた排気流路１１へ気流がガイドされる
ようになっているが、駆動軸６のみの回転によっては処
理液の排出に良好な気流の流れを生じさせることが難し
く、また駆動軸６が挿通される挿通孔３が形成されてい
るため、この挿通孔３付近でも気流が乱れる。

【００１１】本発明は上記の事情にもとづきなされたも
ので、その目的とするところは、処理液が挿通孔からカ
ップ体の外部に流出するのを防止でき、かつ処理液の排
出を良好に行うことが可能なスピン処理装置を提供しよ
うとするものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の発明は、基板を回転させて処理する
スピン処理装置において、中心部分に挿通孔が形成され
ているカップ体と、上記挿通孔に挿通され、回転駆動お
よび上下駆動される駆動軸と、上記駆動軸の上端に設け
られ、この駆動軸の上下動によって、上記基板の着脱時
には上記カップ体から突出する位置まで上昇し、上記基
板の処理時には上記カップ体内の所定位置まで下降する
スピンテーブルと、上記挿通孔を覆う状態で上記スピン
テーブルの下部に配置されたカバー体と、を具備したこ
とを特徴としている。

【００１３】請求項２記載の発明は、上記カバー体は径
方向中心部に比べて径方向周辺部が低く形成された円錐
状をなしていることを特徴とする請求項１記載のスピン
処理装置である。

【００１４】請求項３記載の発明は、上記カップ体の内
方周辺部には上記スピンテーブルから飛散する処理液が
導入される排出室が区画形成され、上記カバー体の外周
端の高さが上記排出室の上面とほぼ同じ高さに設定され
ていることを特徴とする請求項２記載のスピン処理装置
である。

【００１５】請求項１の発明によると、上記カバー体は
上記挿通孔を覆う状態で上記スピンテーブルの下部に配
置されているため、このカバー体により基板から滴下す
る処理液が挿通孔から流出するのが防止される。

【００１６】請求項２の発明によると、上記カバー体は
径方向中心部に比べて径方向周辺部が低く形成された円
錐状をなしているため、このカバー体に向かい処理液が
飛散しても、この処理液を中心部分から周辺部分へ向か
って良好にガイドして排出することが可能となる。

【００１７】請求項３の発明によると、上記カップ体の
内方周辺部には上記スピンテーブルから飛散する処理液
が導入される排出室が区画形成され、上記カバー体の外
周端の高さが上記排出室の上面とほぼ同じ高さに設定さ
れているため、上記カバー体に飛散された処理液をこの
排出室の上面に向かい良好にガイドし、そして排出室内
部に導入して確実に排出することが可能となる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、図１ないし図２に基づいて説明する。スピン処理
装置２０は、カップ体２１を有しており、このカップ体
２１は上カップ２２と下カップ２３とからなっており、
下カップ２３の垂直に立設した外周壁の上端にゴム等の
緩衝材を介して上カップ２２が載置された構成となって
いる。上カップ２２は、断面が台形状に形成されてその
上面が開放されて設けられており、この下部にはＬ字形
のガイド板取付部２２ａが形成されている。

【００１９】なお、本実施の形態では、上記上カップ２
２と下カップ２３との間に中心方向へ向かってお椀状に
湾曲しているガイド体２４が上記Ｌ字形のガイド板取付
部２２ａ上に載置されている。

【００２０】上記下カップ２３は、内底面から中心部へ
向かい斜め上方に傾斜して形成されている受け部２５を
有している。また上記下カップ２３は、この受け部２５
よりも径方向中心側に挿通孔２６が形成されている。

【００２１】上記下カップ２３の内底周辺部には、下面
が開放したリング体２７が設けられている。このリング
体２７の内部には、図２に示すように、周方向に所定間
隔で、かつ周方向に沿って所定の角度で傾斜した４つの
仕切り板２８が設けられている。これら仕切り板２８に
よって上記リング体２７の内部空間は、４つの排出室２
９に区画されている。

【００２２】各排出室２９の上面２９ａには複数の導入
孔３０が形成されている。各導入孔３０は所定の角度で
傾斜した整流板３１によって覆われている。それによっ
て、スピンテーブル３２を回転させたときに発生する処
理液を含む気流を上記導入孔３０から排出室２９へ導入
するようになっている。

【００２３】上記下カップ２３には各排出室２９と連通
する排出路３３が設けられ、この排出路３３によって排
出室２９に導入された上記処理液を含む気流を排出する
ようになっている。なお、リング体２７の内周壁の下端
には、排出室２９の内部と外部を連通する貫通孔３４が
形成されている。

【００２４】上記挿通孔２６には、駆動軸３５が挿通さ
れる。この駆動軸３５の下端は、カップ体２１の下方に
配置された駆動源としてのスピンモータ３６に連結され
ている。このスピンモータ３６は、ベース３７を介して
上下駆動機構３８に取り付けられており、このスピンモ
ータ３６とともに上記駆動軸３５を上下動させることが
可能となっている。

【００２５】また上記駆動軸３５の上端には、スピンテ
ーブル３２が連結されている。スピンテーブル３２は例
えば放射状の複数のアーム３２ａから形成されていて、
この上面には基板３９の周辺部下面を支持する受けピン
４０および基板３９の外周面に係合してその水平摺動を
制限するガイドピン４１が複数本ずつ設けられている。

【００２６】このスピンテーブル３２の上記駆動軸３５
への取り付け部分よりわずかに下方には、上記スピンテ
ーブル３２に近接するようにカバー体４２が配設されて
いる。このカバー体４２は、上記ベース３７に立設され
た複数の支持体４３の上端に取り付けられている。この
カバー体４２は中心部分が上記駆動軸３５と非接触とな
る開口４４を有しており、また中心側端部が上方に折り
曲げられたフランジ４２ｂに形成されている。さらにこ
のカバー体４２の上面には、上記フランジ４２ｂと対向
するリング状の覆い体４５がねじなどによって固定され
ており、上記開口からの処理液の侵入をさらに防止する
ようになっている。

【００２７】このカバー体４２は、中心部分から径方向
外方へゆくにつれて、下方へなだらかに傾斜する円錐状
に形成されており、またこの外周端部は、下方に向かっ
て折れ曲がるスカート状部４２ａを有している。

【００２８】このカバー体４２は、上記挿通孔２６の内
径寸法に比べて十分大きな外形寸法に形成されている。
それによって、カバー体４２は上記挿通孔２６を覆い隠
している。なお、カバー体４２は、常にスカート状部４
２ａの下端が下カップ２３内底面の受け部２５の部分に
接近しているとともに、外周端部の高さが上記リング体
２７の上面２９ａとほぼ同じになるようにされている。

【００２９】以上のような構成を有するスピン処理装置
２０の作用について、以下に説明する。基板搬送手段に
より、上記基板３９をスピンテーブル３２上に載置する
ために、図示されない上記上下駆動機構により、上記ス
ピンテーブル３２を上昇させてカップ体２１から上方に
突出させる。そして基板３９を載置した後に、上記上下
駆動機構を作動させて上記スピンテーブル３２を所定位
置に下降させる。

【００３０】そして、この位置で上記スピンモータ３６
を回転駆動させ、上記スピンテーブル３２上に載置され
ている基板３９の洗浄・リンス・乾燥処理などを行う。
この洗浄・リンス・乾燥処理を行う場合、上記基板３９
に付着している処理液が、上記カバー体４２に付着して
も、カバー体４２に付着した処理液は上記カバー体４２
のスカート状部４２ａに沿って下方へ滴下される。この
場合、このカバー体４２の下方に受け部２５が設けられ
ているため、上記処理液はこの受け部２５によりガイド
され、リング体２７の円周壁に形成された貫通孔３４を
通過して上記排出室２９へと流出される。そして排出路
３３を通過して外部へと排出されるようになる。

【００３１】このような構成のスピン処理装置２０によ
ると、基板搬送手段により基板３９をスピンテーブル３
２上に搬入載置する際に、上記スピンテーブル３２が上
昇した位置にある場合、上記基板３９から上記挿通孔２
６や上記駆動軸３５へ向かって処理液が滴下しても、処
理液は上記カバー体４２によって遮蔽される。したがっ
て、処理液が上記挿通孔２６を通過して下カップ２３の
下方に配置されたスピンモータ３６へ侵入するのが防止
される。

【００３２】また、スピンテーブル３２を回転させて上
記基板３９を洗浄・リンス・乾燥等の処理をする場合に
は、上記カバー体４２のスカート状部４２ａは上記受け
部２５と近接している。そのため、スカート状部４２ａ
と受け部２５との間を処理液が挿通孔２６へ侵入するの
が防止される。しかも、受け部２５が傾斜していること
によってもその侵入が確実に防止されることになる。

【００３３】さらに上記カバー体４２は、中心部から外
周端部へ向かい、低く傾斜しているので、処理液がカバ
ー体４２の上面に付着しても、径方向外方に向かい良好
に排出される。

【００３４】そして、上記カバー体４２とリング体２７
の上面２９ａとがほぼ同じ高さとなるように設定されて
いるため、上記カバー体４２の上面に飛散された処理液
は、上記排出室２９の上面２９ａへガイドされ、この上
面２９ａに形成された導入孔３０から排出室２９へ円滑
にガイドされて排出される。

【００３５】以上、本発明の一実施の形態について説明
したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となってい
る。以下それについて述べる。上記実施の形態では、上
記下カップ２３に上記上カップ２２が載置する構成とな
っているが、カップ体２１の構成はこれに限らずに、例
えば上カップ２２と下カップ２３が一体成形されたもの
であっても構わない。

【００３６】また、上記排出室２９の個数および導入孔
３０、整流板３１の個数などもこれに限定されるもので
はない。さらに上記カバー体４２は上記駆動軸３５に一
体的に取り付けるようにしてもよい。

【００３７】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によると、上記スピンテーブルの下部には上記挿通孔
を覆う状態のカバー体が上下駆動機構に設けられている
ため、基板の搬送時に処理液がこの挿通孔に向かって飛
散されても、このカバー体により処理液を良好に外方へ
排出することができる。

【００３８】また、上記スピンテーブルが回転駆動され
ている場合にも、上記挿通孔をこのカバー体が覆って閉
塞するようになっているため、処理液が上記挿通孔を通
過してスピンモータ側へ侵入してくるのをより一層防止
することが可能となる。

【００３９】請求項２記載の発明によると、上記カバー
体は中心部に比べて径方向周辺部が低く形成された円錐
状をなしているため、このカバー体に向かい処理液が飛
散されても、この処理液を中心部分から周辺部分へ向か
って良好にガイドして排出することができる。

【００４０】請求項３記載の発明によると、上記下カッ
プの内方周辺部には上記スピンテーブル等から飛散する
処理液が導入される排出室が区画形成され、上記カバー
体の外周端の高さが上記排出室の上面とほぼ同じ高さに
設定されているため、上記カバー体に飛散された処理液
をこの排出室の上面に向かい良好にガイドし、そして排
出室内部に導入されてこの処理液を確実に排出すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係わるスピン処理装置
の構成を示す側断面図。

【図２】同実施の形態に係わる下カップのリング体を示
す斜視図。

【図３】従来のスピン処理装置の構成を示す側断面図。

【符号の説明】

２０…スピン処理装置 ２１…カップ体 ２６…挿通孔 ２９…排出室 ３２…スピンテーブル ３３…排出路 ３５…駆動軸 ３６…スピンモータ ３９…基板 ４２…カバー体

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を回転させて処理するスピン処理装
   置において、 中心部分に挿通孔が形成されているカップ体と、 上記挿通孔に挿通され、回転駆動および上下駆動される
   駆動軸と、 上記駆動軸の上端に設けられ、この駆動軸の上下動によ
   って、上記基板の着脱時には上記カップ体から突出する
   位置まで上昇し、上記基板の処理時には上記カップ体内
   の所定位置まで下降するスピンテーブルと、 上記挿通孔を覆う状態で上記スピンテーブルの下部に配
   置されたカバー体と、 を具備したことを特徴とするスピン処理装置。
2. 【請求項２】 上記カバー体は径方向中心部に比べて径
   方向周辺部が低く形成された円錐状をなしていることを
   特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
3. 【請求項３】 上記カップ体の内方周辺部には上記スピ
   ンテーブルから飛散する処理液が導入される排出室が区
   画形成され、上記カバー体の外周端の高さが上記排出室
   の上面とほぼ同じ高さに設定されていることを特徴とす
   る請求項２記載のスピン処理装置。