JP2007268353A - パターン修正装置およびその塗布ユニット - Google Patents

Abstract

【課題】簡単な構成で欠陥部を迅速に修正することが可能なパターン修正装置を提供する。
【解決手段】このパターン修正装置１の塗布ユニット２０は、その底に第１の孔２１ａが開口され、修正液２２が注入された容器２１と、第１の孔２１ａと略同じ径を有する塗布針２４と、容器２１および塗布針２４を上下動させるとともに、容器２１および塗布針２４を相対的に上下動させ、第１の孔２１ａから塗布針先端部２４ａを突出させて先端部２４ａに修正液２２を付着させるシリンダ３４とを備える。したがって、容器と欠陥部の間で塗布針を往復動させる必要があった従来に比べ、簡単な構成で欠陥部を迅速に修正することができる。
【選択図】図２

Description

この発明はパターン修正装置およびその塗布ユニットに関し、特に、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置およびその塗布ユニットに関する。より特定的には、この発明は、フラットパネルディスプレイの製造工程において発生する電極のオープン欠陥、プラズマディスプレイのリブ（隔壁）欠損、液晶カラーフィルタの白抜け欠陥、マスクの欠陥などを修正するパターン修正装置と、それに用いられる塗布ユニットに関する。

近年、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの大型化、高精細化に伴って、ディスプレイの製造工程において、基板上の電極やリブなどに欠陥が発生したり、液晶カラーフィルタの着色層に欠陥が発生したりする確率が高くなっている。このため、歩留まりの向上を図り、各種欠陥を修正するパターン修正装置が提案されている。

たとえば、液晶カラーフィルタの着色層の一部が色抜けした白欠陥を修正する装置として、塗布針の先端部に付着させた修正用インクを白欠陥に塗布して修正するものがある（たとえば、特許文献１参照）。また、プラズマディスプレイの背面ガラス基板上に形成されたリブの一部が欠けたリブ欠け欠陥を修正する装置として、塗布針の先端部に付着させた修正用ペーストをリブ欠け欠陥に塗布して修正するものがある（たとえば、特許文献２参照）。

これらのパターン修正装置では、容器に注入された修正液（修正用インク、修正用ペースト）の液面の上で塗布針を上下動させて塗布針の先端部に修正液を付着させた後、その塗布針を欠陥部（白欠陥、リブ欠け欠陥）の上で上下動させて塗布針先端部の修正液を欠陥部に塗布していた。
特開平９−６１２９６号公報 特開２０００−２９９０５９号公報

しかし、従来のパターン修正装置では、欠陥部が大きい場合は修正液を欠陥部に複数回塗布する必要があり、塗布する度に塗布針を欠陥部から容器まで戻して、塗布針に修正液を付着し直す必要があった。このため、欠陥部の修正時間が長くなるという問題があった。

それゆえに、この発明の主たる目的は、簡単な構成で欠陥部を迅速に修正することが可能なパターン修正装置およびその塗布ユニットを提供することである。

この発明に係る塗布ユニットは、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、その底に貫通孔が開口され、修正液が注入された容器と、貫通孔と略同じ径を有し、欠陥部に修正液を塗布するための塗布針と、容器および塗布針を上下動可能に支持する第１の直動案内部材と、容器および塗布針を相対的に上下動可能に支持する第２の直動案内部材と、容器および塗布針を上下動させるとともに、容器および塗布針を相対的に上下動させ、貫通孔から塗布針の先端部を突出させて先端部に修正液を付着させる駆動部とを備えたものである。

好ましくは、駆動部の駆動軸は１本のみである。
また好ましくは、駆動部は、容器および塗布針を下降させた後に塗布針のみを下降させて、貫通孔から塗布針の先端部を突出させる。

また好ましくは、さらに、支持台と、その先端部に塗布針が設けられ、その基端部が第１の直動案内部材を介して支持台に結合され、支持台に対して上下動可能に設けられた第１のアームと、その先端部に容器が設けられ、その基端部が第２の直動案内部材を介して第１のアームに結合され、第１のアームに対して相対的に上下動可能に設けられた第２のアームと、第１のアームに対する第２のアームの上下方向の相対移動量を、第１のアームの上下移動量よりも少ない範囲に限定する移動範囲限定機構とを備え、駆動部は、第１のアームの基端部のみを上下動させて、容器および塗布針を上下動させるとともに、容器および塗布針を相対的に上下動させる。

また好ましくは、第１および第２のアームは支持台の一方側に配置され、駆動部は支持台の他方側に配置され、容器は駆動部よりも低い位置に設けられている。

また、この発明に係るパターン修正装置は、上記塗布ユニットを備えたものである。
好ましくは、さらに、塗布ユニットが待機状態にあるとき容器の底の下方に配置され、貫通孔から漏れた修正液を受ける遮蔽板を備える。

また好ましくは、さらに、塗布動作時に塗布ユニットを水平方向に移動させて容器を遮蔽板から離間させる移動手段を備え、駆動部は、遮蔽板から離間された容器の底を遮蔽板よりも低い位置まで下降させる。

また好ましくは、互いに異なる種類の修正液が注入された複数の塗布ユニットを備え、複数の塗布ユニットのうちの欠陥部の種類に応じて選択された塗布ユニットの修正液を欠陥部に塗布する。

また、この発明に係る他のパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、その底に貫通孔が開口され、修正液が注入された容器と、貫通孔と略同じ径を有し、欠陥部に修正液を塗布するための塗布針と、塗布針を上下動可能に支持する直動案内部材と、塗布針を下降させ、貫通孔から塗布針の先端部を突出させて先端部に修正液を付着させる駆動部と、容器の底の下方に設けられ、貫通孔から漏れた修正液を受ける遮蔽板とを備えたものである。

この発明に係る塗布ユニットおよびパターン修正装置では、その底に貫通孔が開口され、修正液が注入された容器と、貫通孔と略同じ径を有し、欠陥部に修正液を塗布するための塗布針と、容器および塗布針を上下動可能に支持する第１の直動案内部材と、容器および塗布針を相対的に上下動可能に支持する第２の直動案内部材と、容器および塗布針を上下動させるとともに、容器および塗布針を相対的に上下動させ、貫通孔から塗布針の先端部を突出させて先端部に修正液を付着させる駆動部とが設けられる。したがって、容器の底の貫通孔から塗布針の先端部を突出させて先端部に修正液を付着させ、その状態で塗布針の先端を欠陥部に接触させれば欠陥部に修正液を塗布できる。よって、容器と欠陥部の間で塗布針を移動させる必要があった従来に比べ、簡単な構成で欠陥部を迅速に修正することができる。

また、この発明に係る他のパターン修正装置では、容器の底の貫通孔から漏れた修正液を受ける遮蔽板が設けられる。したがって、貫通孔から漏れた修正液によって基板が汚染されるのを防止することができる。

図１は、この発明の一実施形態によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。図１において、パターン修正装置１は、基板の表面を観察する観察光学系２と、観察された画像を映し出すモニタ３と、観察光学系２を介して基板にレーザ光を照射し不要部をカットするカット用レーザ部４と、修正液を塗布針先端に付着させて基板の欠陥部に塗布する塗布機構部５と、欠陥部に塗布された修正液を加熱する基板加熱部６と、欠陥部を認識する画像処理部７と、装置全体を制御するホストコンピュータ８と、装置機構部の動作を制御する制御用コンピュータ９とを備える。さらに、その他に欠陥部を有する基板をＸＹ方向（水平方向）に移動させるＸＹステージ１０と、ＸＹステージ１０上で基板を保持するチャック部１１と、観察光学系２や塗布機構部５をＺ方向（垂直方向）に移動させるＺステージ１２などが設けられている。

ＸＹステージ１０は、塗布機構部５によって修正液を欠陥部に塗布する際や、観察光学系２によって基板の表面を観察する際などに、基板を適切な位置に相対移動させるために用いられる。図１に示したＸＹステージ１０は、２つの一軸ステージを直角方向に重ねた構成を有している。ただし、このＸＹステージ１０は、観察光学系２や塗布機構部５に対して基板を相対的に移動させることができるものであればよく、図１に示すＸＹステージ１０の構成に限定されるものではない。近年では、基板サイズの大型化に伴い、Ｘ軸方向とＹ軸方向にそれぞれ独立して移動可能なガントリ型のＸＹステージが多く採用されている。

図２は、図１に示した塗布機構部５に含まれる塗布ユニット２０の構成を示す断面図である。図２において、塗布ユニット２０は、その底に第１の孔２１ａが開口され、修正液２２が注入された容器２１と、第２の孔２３ａが開口され、容器２１を密封する蓋２３と、第１および第２の孔２１ａ，２３ａと略同じ径を有する塗布針２４とを含む。

塗布針２４の先端部２４ａは、第２の孔２３ａを貫通して修正液２２内に浸漬される。第１および第２の孔２１ａ，２３ａの径は、それらに貫通する塗布針２４の径よりも少し大きいが微小であるので、修正液２２の表面張力や容器２３の撥水・撥油性により、第１の孔２１ａからの修正液２２の漏れはほとんど無い。

容器２１に形成され、修正液２２を注入するための穴は、孔２１ａに近づくに従って断面積が小さくなるテーパ形状を有する。したがって、少ない修正液２２でも塗布針２４の先端部２４ａを浸漬することができ、経済的である。修正液２２の量は、たとえば２０μｌ（マイクロリットル）である。修正液２２は日持ちしないものもあり、容器２１は定期的に交換する。あるいは、使用済み容器２１を洗浄後、再利用することも可能である。容器２１の着脱を簡単にするため、手でつかみ易い構造にする方が使い勝手は向上する。

塗布針２４の基端部は塗布針固定板２５に固着され、塗布針固定板２５はアーム２６の先端部２６ａに固定される。塗布針固定板２５は、たとえばネジ止め、磁石の吸引力などの方法でアーム２６に固定される。アーム２６はＬ字形状を成し、その基端部は直動案内部材３０を介して支持台３３に結合される。アーム２６は、直動案内部材３０により、支持台３３に対して上下動可能に支持される。

容器２１は、もう１つのアーム２８の先端部２８ａに固定される。容器２１は、アーム２８の先端部２８ａに設けた突き当て部２８ｂにより位置決めされ、たとえばネジ止め、磁石の吸引力などの方法でアーム２８に固定される。アーム２８はＬ字形状を成し、その基端部は直動案内部材２９を介してアーム２６に結合される。アーム２８は、直動案内部材２９により、アーム２６に対して上下動可能に支持される。

直動案内部材２９，３０の各々は、レール部とスライド部の間に転動体（ボールなど）を介在させた転がり案内の構成を有し、レール部とスライド部とは極軽い力で自在に直線運動することが可能なリニアガイドとなっている。塗布精度を向上するために、軽い予圧を与える場合もある。

アーム２６と２８の上下方向の相対移動量は、アーム２６に固定支持されたピン２７と、アーム２８に設けた切り欠き孔２８ｃにより限定される。すなわち、相対移動範囲は、ピン２７が切り欠き孔２８ｃの中を移動可能な範囲となるため、直動案内部材２９に抜け防止のためのストッパを設けなくてもよい。直動案内部材３０の上下には、支持台３３に固定されたストッパ３１，３２が設けられ、アーム２６の上下動はストッパ３１，３２により拘束される。なお、下側のストッパ３２は、アーム２８の動作範囲を制限するストッパを兼ねている。ストッパ３１，３２、ピン２７および切り欠き孔２８ｃにより、アーム２６に対するアーム２８の上下方向の相対移動量は、アーム２６の上下移動量よりも少ない範囲に限定されている。

支持台３３のアーム２６，２８の反対側には、出力軸３４ａを下向きにしてエアシリンダ３４が設けられている。エアシリンダ３４の出力軸３４ａの先端には、先端にピン３５ａを固着した駆動板３５が水平に固定されており、出力軸３４ａと一体となって上下動する。ピン３５ａは、アーム２６の基端部に設けた切り欠き部２６ｂに下方から接していて、エアシリンダ３４の出力軸３４ａの上下動により、アーム２６を上下に移動させる機能を持つ。

図２では、エアシリンダ３４の出力軸３４ａが上方にあり（この例では出力軸３４ａが引き込まれた状態）、アーム２６は上端に位置し、アーム２８は、ピン２７に吊り下がる状態、すなわち、切り欠き孔２８ｃの上端とピン２７が接する状態にある。このとき、塗布針２４の先端部２４ａは、容器２１内に入れた修正液２２に浸漬された状態にある。このように、塗布ユニット２０の先端部（塗布針２４および容器２１の周りの部分）を上下方向に薄く構成し、かつ先端部をエアシリンダ３４よりも下に配置したので、塗布ユニット２０の先端部を観察光学系２の対物レンズと基板との間に挿入することも可能となる。

図３は、観察光学系２の対物レンズ４０で基板４１の欠陥部４１ａを観察している状態を示している。対物レンズ４０と離れた位置に塗布ユニット２０は配置され、修正指令を待っている。塗布ユニット２０は図示しない副ＸＹＺステージに固定され、紙面左右方向、前後方向、上下方向に移動可能であり、副ＸＹＺステージは、たとえば観察光学系２を固定するＺステージ１２に固定される。なお、場合によって、副Ｙステージを省略してもよい。

ここで塗布指令が与えられると、図４（Ａ）〜（Ｄ）に示す動作を行って塗布が行われる。まず、図４（Ａ）に示すように副Ｘステージと副Ｙステージの動作により塗布ユニット２０の先端部が対物レンズ４０と基板４１との隙間に挿入され、塗布針２４の直下に欠陥部４１ａが位置するように位置決めされる。

対物レンズ４０の作動距離（対物レンズ４０から焦点位置までの距離）が短くて、塗布ユニット２０が挿入できない場合は、図示しないレボルバを回転させて作動距離の長い対物レンズ４０に変更する。一般的に低倍率のレンズの方が作動距離は長くなる。たとえば、１０倍の対物レンズ４０の作動距離は約３０ｍｍあり、塗布ユニット２０の塗布部の高さを低く設計すれば容易に挿入可能である。

その後、エアシリンダ３４の出力軸３４ａを下方に突出させて駆動板３５を下降させる。図４（Ｂ）は、出力軸３４ａが下降する途中過程を示したものであり、図４（Ｃ）は出力軸３４ａが最下端に到達した状態を示している。

エアシリンダ３４の出力軸３４ａが下方に突出すると、出力軸３４ａに固定された駆動板３５、および、駆動板３５の先端に固着したピン３５ａも一緒に下方に移動するので、ピン３５ａによって支えられたアーム２６もそれに合わせて下方に移動する。また、アーム２６に固着したピン２７に吊り下げられた状態でアーム２８もそれに合わせて下方に移動するが、始めの間は、２つのアーム２６，２８の上下方向の相対位置は変化しない。

図４（Ｂ）に示すように、アーム２８の基端部の下端がストッパ３２に当接すると、アーム２８の下降が停止され、その後は、アーム２６のみが下降する。アーム２６のみが下降すると、アーム２６に固定された塗布針２４の先端２４ａは、容器２１の底面に設けた第１の孔２１ａから突出を開始し、その突出は、図４（Ｃ）に示すように、アーム２６の基端部の下端がストッパ３２に当接することで停止する。この状態では、塗布針２４の先端部２４ａに修正液２２が付着しており、塗布の準備が完了する。その後、図４（Ｄ）に示すように、図示しない副Ｚステージを用いて塗布ユニット２０全体を下降させ、塗布針２４の先端を基板４１の欠陥部４１ａに接触させる。これにより、塗布針２４の先端部２４ａに付着していた修正液２２が欠陥部４１ａに塗布される。

塗布針２４の先端が基板４１の欠陥部４１ａに接触してから、さらに、副Ｚステージを用いて、塗布ユニット２０を０．５ｍｍから１ｍｍ程度下方に移動させるが、この際、塗布針２４は、直動案内部材３０によりアーム２６とともに上方に退避するので、塗布針２４に過大な力は働かない。

塗布後、エアシリンダ３４の出力軸３４ａを上方に引き込んで元の状態（図４（Ａ））に戻り、１回の塗布が完了する。欠陥部４１ａに修正液２２をさらに塗布する必要がある場合は、この塗布動作を繰り返して行なえばよい。また、欠陥部４１ａが大きいほど必要な塗布動作の回数は多くなるが、塗布針２４を上下に移動させるだけで塗布針先端部２４ａに修正液２２を付着し直すことができる。

したがって、この実施の形態では、従来のように塗布針を欠陥部と容器（インクタンクまたはペーストタンク）との間を往復動させる工程が省略されるため、欠陥修正に要する時間が短縮される。

また、修正液２２は孔２１ａ，２３ａを除いて密閉された容器２１内に入っており、塗布針２４は容器２１の蓋２３の孔２３ａに微小な隙間を持って常に挿入された状態にあるため、修正液２２が大気に直接触れる面積は少ない。したがって、修正液２２の希釈液（溶媒）の蒸発を防止することができ、修正液２２の使用可能な日数（交換周期）を長くすることが可能となり、パターン修正装置１の保守が軽減化される。

また、塗布動作の待機状態において塗布針先端部２４ａを修正液２２の中に浸けているため、塗布針先端部２４ａに付着した修正液２２の乾燥を防ぐことができ、塗布針先端部２４ａの洗浄工程も省略可能となる。

また、従来は塗布針先端部２４ａに修正液２２を付着させたとき、塗布針先端部２４ａの修正液溜まりの下部が自重で膨らんだ状態になっているので、修正液溜まりが上方に移動して塗布針先端面に修正液２２の薄い層ができるまで待機していた。しかし、この実施の形態では、塗布針先端部２４ａが第１の孔２１ａから突出したときに塗布針先端部２４ａの修正液溜まりが上方に移動して塗布針先端面に修正液２２の薄い層ができた状態になっているので、待機時間を設ける必要がなくなる、あるいは待機時間を短縮することが可能となる。

また、従来は先端部分の径が異なる複数の塗布針を用意しておき、欠陥部の大きさに応じて塗布針を選択して使用していた。しかし、この実施の形態では１回の塗布動作に要する時間が短いため、先端部分の径が最も小さい塗布針２４を１本だけ用いて、塗布動作の回数を調整すればよい。その分、装置の構成が簡略化される。

また、従来は塗布ユニットと観察光学系とが水平方向に離れた位置に固定されていたため、観察光学系で欠陥部を観察している位置から塗布ユニットの直下に欠陥部が来るように基板をオフセット移動させることが必要であり、修正液塗布後の状態を観察するには再び基板をオフセット移動する必要があり、タクトタイムの長時間化を招いていた。しかし、この実施の形態では、観察光学系２の対物レンズ４０と基板４１の間に容器２１および塗布針２４を挿入できるので、基板４１のオフセット移動が不要となり、タクトタイムの短縮化を図ることができる。

また、アーム２６，２８の上下動、言い換えると、塗布針２４と容器２１の上下動を１つの駆動部（ここで示した例ではエアシリンダ３４）で行なうので、機構を簡略化できる。また、駆動部を１つだけ制御すれば良く、制御も簡単である。

なお、この実施の形態では、駆動部としてエアシリンダ３４を用いたが、たとえば、単動式の押出しタイプを用いれば、エアシリンダ３４を駆動するエアが遮断されたり、エアシリンダ３４の制御信号が途切れても、塗布針２４の先端部２４ａが修正液２２中に浸漬した状態を保持可能であり、塗布針２４が突出することはなく、安全側に機能する。

また、この実施の形態では、修正液２２を入れた容器２１を上下動させる機構を設けたため、待機位置では、容器２１を上方に保持できるようになり、塗布ユニット２０全体を基板４１に近接させても、容器２１と基板４１との距離を十分開けることができる。このため、待機時に容器２１から修正液２２の漏れが仮にあっても漏れ落ちた修正液２２によって基板４１が汚染されないように、図５（Ａ）に示すように、基板４０と容器４１との間に遮蔽板３６を設けることも可能となる。

遮蔽板３６は、図示しない副ＸＹＺステージの副Ｚステージに固定されており、塗布ユニット２０と同じように、副Ｚステージにより上下動される。塗布時には、まず図５（Ｂ）に示すように、塗布ユニット２０の塗布針２４を、副ＸＹステージにより対物レンズ４０の直下にある欠陥部４１ａの上方に移動させる。このとき、遮蔽板３６はＸ軸方向には移動しなので、容器２１の下方に遮蔽板３６は無く、塗布が可能となる。

次に図５（Ｃ）に示すように、エアシリンダ３４の出力軸３４ａを下降させて容器２１を下方に移動させ、さらに塗布針２４の先端２４ａを容器２１から突出した状態にしてから、副Ｚ軸ステージにより塗布ユニット２０を下降させて、欠陥部４１ａに修正液２２を塗布する。このとき、容器２１は、エアシリンダ３４の出力軸３４ａが下方に突出するのに伴って、遮蔽板３６よりも下方に移動するので、塗布時には基板４１と遮蔽板３６とが干渉することはない。

なお、基板４１がカラーフィルタ基板の場合、修正する色、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、ＢＭ（ブラックマトリックスの黒）、場合によってはＯＣ（オーバーコート）ごとに塗布ユニット２０を設けて複数の塗布ユニット２０を配置し、修正する色に合わせて、塗布ユニット２０を選択して修正を行なうことも可能である。この場合、修正する色に合わせて修正が行われるため、塗布針２４の洗浄は不要である。

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

この発明の一実施の形態によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。 図１に示した塗布機構部に含まれる塗布ユニットの構成を示す断面図である。 図２に示した塗布ユニットの待機状態を示す断面図である。 図２に示した塗布ユニットの塗布動作を示す断面図である。 実施の形態の変更例を示す図である。

符号の説明

１ パターン修正装置、２ 観察光学系、３ モニタ、４ カット用レーザ部、５ 塗布機構部、６ 基板加熱部、７ 画像処理部、８ ホストコンピュータ、９ 制御用コンピュータ、１０ ＸＹステージ、１１ チャック部、１２ Ｚステージ、２０ 塗布ユニット、２１ 容器、２１ａ 第１の孔、２２ 修正液、２３ 蓋、２３ａ 第２の孔、２４ 塗布針、２４ａ 先端部、２５ 塗布針固定板、２６ アーム、２６ａ 先端部、２６ｂ 切り欠き部、２７ ピン、２８ アーム、２８ａ 先端部、２８ｂ 突き当て部、２８ｃ 切り欠き孔、２９，３０ 直動案内部材、３１，３２ ストッパ、３３ 支持台、３４ エアシリンダ、３４ａ 出力軸、３５ 駆動板、３５ａ ピン、３６ 遮蔽板、４０ 対物レンズ、４１ 基板、４１ａ 欠陥部。

Claims (10)

1. 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置の塗布ユニットであって、
   その底に貫通孔が開口され、修正液が注入された容器と、
   前記貫通孔と略同じ径を有し、前記欠陥部に前記修正液を塗布するための塗布針と、
   前記容器および前記塗布針を上下動可能に支持する第１の直動案内部材と、
   前記容器および前記塗布針を相対的に上下動可能に支持する第２の直動案内部材と、
   前記容器および前記塗布針を上下動させるとともに、前記容器および前記塗布針を相対的に上下動させ、前記貫通孔から前記塗布針の先端部を突出させて前記先端部に前記修正液を付着させる駆動部とを備える、塗布ユニット。
2. 前記駆動部の駆動軸は１本のみである、請求項１に記載の塗布ユニット。
3. 前記駆動部は、前記容器および前記塗布針を下降させた後に前記塗布針のみを下降させて、前記貫通孔から前記塗布針の先端部を突出させる、請求項１または請求項２に記載の塗布ユニット。
4. さらに、支持台と、
   その先端部に前記塗布針が設けられ、その基端部が前記第１の直動案内部材を介して前記支持台に結合され、前記支持台に対して上下動可能に設けられた第１のアームと、
   その先端部に前記容器が設けられ、その基端部が前記第２の直動案内部材を介して前記第１のアームに結合され、前記第１のアームに対して相対的に上下動可能に設けられた第２のアームと、
   前記第１のアームに対する前記第２のアームの上下方向の相対移動量を、前記第１のアームの上下移動量よりも少ない範囲に限定する移動範囲限定機構とを備え、
   前記駆動部は、前記第１のアームの基端部のみを上下動させて、前記容器および前記塗布針を上下動させるとともに、前記容器および前記塗布針を相対的に上下動させる、請求項１から請求項３までのいずれかに記載の塗布ユニット。
5. 前記第１および第２のアームは前記支持台の一方側に配置され、
   前記駆動部は前記支持台の他方側に配置され、
   前記容器は前記駆動部よりも低い位置に設けられている、請求項４に記載の塗布ユニット。
6. 請求項１から請求項５までのいずれかに記載の塗布ユニットを備える、パターン修正装置。
7. さらに、前記塗布ユニットが待機状態にあるとき前記容器の底の下方に配置され、前記貫通孔から漏れた前記修正液を受ける遮蔽板を備える、請求項６に記載のパターン修正装置。
8. さらに、塗布動作時に前記塗布ユニットを水平方向に移動させて前記容器を前記遮蔽板から離間させる移動手段を備え、
   前記駆動部は、前記遮蔽板から離間された前記容器の底を前記遮蔽板よりも低い位置まで下降させる、請求項７に記載のパターン修正装置。
9. 互いに異なる種類の修正液が注入された複数の塗布ユニットを備え、
   前記複数の塗布ユニットのうちの前記欠陥部の種類に応じて選択された塗布ユニットの修正液を前記欠陥部に塗布する、請求項６から請求項８までのいずれかに記載のパターン修正装置。
10. 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
    その底に貫通孔が開口され、修正液が注入された容器と、
    前記貫通孔と略同じ径を有し、前記欠陥部に前記修正液を塗布するための塗布針と、
    前記塗布針を上下動可能に支持する直動案内部材と、
    前記塗布針を下降させ、前記貫通孔から前記塗布針の先端部を突出させて前記先端部に前記修正液を付着させる駆動部と、
    前記容器の底の下方に設けられ、前記貫通孔から漏れた修正液を受ける遮蔽板とを備える、パターン修正装置。

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