KR20130132421A - 패턴 수정 장치 및 그것에 이용되는 가습 유닛 - Google Patents

Abstract

이 패턴 수정 장치의 가습 유닛(8)은, 잉크젯 노즐(1)의 선단부가 삽입되는 원통형상의 중공 용기(9)와, 중공 용기(9)의 내벽에 마련되고, 가습용의 물의 흡수 및 방출이 가능한 가습 부재(10)를 포함한다. 가습 부재(10)로부터 방출된 물의 증기는, 결함부(7a) 및 그 부근에 공급된다. 따라서 기판(5) 표면이 대전하고 있는 경우에도, 결함부(7a) 및 그 부근의 정전기를 국부적으로 제거할 수 있다.

Description

패턴 수정 장치 및 그것에 이용되는 가습 유닛{PATTERN MODIFICATION DEVICE AND HUMIDIFYING UNIT USED BY SAME}

본 발명은 패턴 수정 장치 및 그것에 이용되는 가습 유닛에 관한 것으로, 특히, 기판의 표면에 형성된 패턴의 결함부를 수정하는 패턴 수정 장치와, 그것에 이용되는 가습 유닛에 관한 것이다.

잉크젯 장치를 이용하여 기판의 표면에 패턴을 묘화하는 방법은, 다른 묘화 방법에 비하여 잉크의 이용 효율이 높고, 작업 공정을 간소화할 수 있기 때문에, 최근에는 다양한 분야에서 이용되고 있다. 또한, 잉크젯 장치에는, 압전형, 가열형, 정전 흡인형 등이 있다. 정전 흡인형의 잉크젯 장치는, 보다 미세한 패턴을 묘화할 수 있기 때문에, 종래로부터 여러 가지의 장치가 제안되어 있다(예를 들면, 일본 특개평2-225052호 공보(특허 문헌 1) 참조).

또한, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이의 분야에서는, 근래에 있어서의 화면의 대형화, 고정밀화에 수반하여, 유리 기판상에 형성된 배선(전극)이나 액정 컬러 필터 등에 결함이 존재할 확률이 높아지고 있고, 수율의 향상을 도모하기 위해 잉크젯 장치를 이용한 패턴 수정 방법이 다수 제안되어 있다.

예를 들면, 액정 디스플레이의 유리 기판의 표면에는 미세한 배선이 형성되어 있다. 그 배선에 단선 개소(오픈 결함부)가 존재하는 경우에는, 잉크젯 노즐로부터 단선 개소에 도전성 잉크(수정액)를 토출하여 단선 개소를 수정한다(예를 들면, 일본 특개평11-233009호 공보(특허 문헌 2), 일본 특개2004-134596호 공보(특허 문헌 3) 참조).

또한, 정전 흡인형의 잉크젯 장치로부터 토출된 잉크는 대전(帶電)하고 있기 때문에, 기판 표면이 정전기를 띠고 있는 경우는, 기판과 잉크가 반발하여 잉크가 발산(비산)하여, 수정부의 주위에 비산물이 많이 발생한다. 이 때문에, 잉크젯 장치 및 기판을 항온조에 수용하고, 항온실 내를 고습도 분위기에 유지하여 기판 표면에 쌓였던 전하를 방전시키는 방법이 있다(예를 들면, 국제공개 제2005/014289호 팜플렛(특허 문헌 4) 참조).

일본 특개평2-225052호 공보 일본 특개평11-233009호 공보 일본 특개2004-134596호 공보 국제공개 제2005/014289호 팜플렛

그러나, 최근의 플랫 패널 디스플레이의 제조 공정에서는, 3m×3m를 초과하는 크기의 기판이 존재하고, 그와 같은 대형의 기판 전체를 항온조 내에 넣는 것은 장치의 대형화를 초래하고, 또한 항온조의 제어도 복잡해지기 때문에 바람직하지가 않다. 또한, 패턴 수정 장치 전체를 항온조 내에 수용하여 고습도 분위기 중에 두면, 패턴 수정 장치에 포함된 위치 결정 스테이지 등의 정밀 기기에 악영향이 발생하는 것도 우려된다.

그러므로, 본 발명의 주된 목적은, 기판 표면이 대전하고 있는 경우에도, 간단한 구성으로 결함부를 정확하게 수정하는 것이 가능한 패턴 수정 장치와, 그것에 이용되는 가습 유닛을 제공하는 것이다.

본 발명에 관한 패턴 수정 장치는, 기판의 표면에 형성된 패턴의 결함부를 수정하는 패턴 수정 장치로서, 결함부 및 그 부근의 습도를 국부적으로 높여, 결함부 및 그 부근의 정전기를 제거하는 가습 유닛과, 가습 유닛에 의해 정전기가 제거된 결함부에 수정액의 액적(液滴)을 토출하는 정전 흡인형의 잉크젯 노즐을 구비한 것이다. 가습 유닛은, 잉크젯 노즐의 선단부가 삽입되는 관통구멍을 갖는 중공부재(中空部材)와, 중공부재 내에 마련되고, 가습용의 물의 흡수 및 방출이 가능한 물흡수부재(水吸收部材)를 포함하고, 물흡수부재로부터 방출된 물의 증기는, 관통구멍을 통하여 결함부 및 그 부근에 공급된다.

바람직하게는, 중공부재는 통부재(筒部材)를 포함하고, 물흡수부재는 통부재의 내벽에 마련되어 있다.

또한 바람직하게는, 잉크젯 노즐의 선단은, 통부재의 단면보다도 미리 정하여진 거리만큼 기판측으로 돌출한다.

또한 바람직하게는, 통부재의 기판측의 단부에는, 통부재의 외측으로부터 결함부를 관찰하기 위한 노치부가 형성되어 있다.

또한 바람직하게는, 또한, 잉크젯 노즐의 기단부를 고정하는 고정부재를 구비하고, 가습 유닛은, 고정부재에 대해 착탈 가능하게 마련되어 있다.

또한 바람직하게는, 또한, 잉크젯 노즐과 통부재와의 사이에서 잉크젯 노즐의 길이 방향으로 이동 가능하게 마련된 통형상의 보호 커버와, 가습 유닛의 착탈시는, 보호 커버를 제1의 위치에 유지하여 보호 커버에 의해 잉크젯 노즐의 선단부를 덮고, 가습 유닛을 사용하는 경우는, 보호 커버를 제2의 위치에 유지하여 잉크젯 노즐의 선단부를 보호 커버로부터 노출시키는 유지부재를 구비한다.

또한 바람직하게는, 중공부재는, 그 저면이 기판의 표면에 대해 미리 정하여진 간극을 벌려서 배치되고, 그 바닥에 제1의 구멍이 형성된 용기와, 제2의 구멍이 형성되고, 용기의 개구부를 닫는 덮개를 포함한다. 관통구멍은 제1 및 제2의 구멍을 포함하고, 물흡수부재는 용기 내에 마련된다.

또한 바람직하게는, 잉크젯 노즐의 선단은, 용기의 저면보다도 미리 정하여진 거리만큼 기판측으로 돌출한다.

또한 바람직하게는, 제1의 구멍의 내경은 제2의 구멍의 내경과 같다.

또한 바람직하게는, 제1의 구멍의 내경은 제2의 구멍의 내경보다도 크다.

또한 바람직하게는, 용기 및 덮개에는, 제1 및 제2의 구멍에 연통하고, 결함부를 관찰하기 위한 노치부가 형성되어 있다.

또한 바람직하게는, 가습 유닛은 교환 가능하게 마련되어 있다.

또한 바람직하게는, 또한, 잉크젯 노즐에 의해 폐기된 토출 잉크를 된 폐기판과, 수정 잉크의 폐기를 행한 폐기 동작시는, 잉크젯 노즐과 기판의 사이에 폐기판을 삽입하고, 폐기 동작의 종료 후는, 잉크젯 노즐과 기판의 사이로부터 폐기판을 퇴피시키는 제1의 구동 수단과, 잉크젯 노즐과 기판의 사이에 폐기판이 삽입됨에 따라 잉크젯 노즐을 상승시키고, 인젝트 노즐과 기판의 사이로부터 폐기판이 퇴피됨에 따라 잉크젯 노즐을 하강시키는 모방 기구를 구비한다.

또한 바람직하게는, 가습 유닛과 기판과의 사이를 차폐하기 위한 차폐판과, 결함부 및 그 부근의 습도를 높이는 경우는, 가습 유닛과 기판의 사이로부터 벗어난 위치에 차폐판을 퇴피시키고, 결함부 및 그 부근의 습도를 높일 필요가 없는 경우는, 가습 유닛과 기판의 사이에 차폐판을 삽입하는 제2의 구동 수단을 구비한다.

또한, 본 발명에 관한 가습 유닛은, 기판의 표면에 형성된 패턴의 결함부에 수정액의 액적을 토출하는 정전 흡인형의 잉크젯 노즐을 구비한 패턴 수정 장치에 있어서, 결함부 및 그 부근의 습도를 국부적으로 높여, 결함부 및 그 부근의 정전기를 제거하는 가습 유닛으로서, 잉크젯 노즐의 선단부가 삽입되는 관통구멍을 갖는 중공부재와, 중공부재 내에 마련되고, 가습용의 물의 흡수 및 방출이 가능한 물흡수부재를 포함하는 것이다. 물흡수부재로부터 방출된 물의 증기는, 관통구멍을 통하여 결함부 및 그 부근에 공급된다.

본 발명에 관한 패턴 수정 장치 및 가습 유닛에서는, 잉크젯 노즐의 선단부가 삽입되는 관통구멍을 갖는 중공부재와, 중공부재 내에 마련되고, 가습용의 물의 흡수 및 방출이 가능한 물흡수부재가 마련되고, 물흡수부재로부터 방출된 물의 증기는, 관통구멍을 통하여 결함부 및 그 부근에 공급된다. 따라서 기판 표면이 대전하고 있는 경우에도, 결함부 및 그 부근의 정전기를 국부적으로 제거할 수 있어서, 간단한 구성으로 결함부를 정확하게 수정할 수 있다.

도 1은 본원 발명의 기초가 되는 패턴 수정 장치의 주요부를 도시하는 단면도.
도 2는 수정 대상의 기판을 예시하는 도면.
도 3은 본 발명의 실시의 형태 1에 의한 패턴 수정 장치의 주요부를 도시하는 단면도.
도 4는 실시의 형태 1의 변경례를 도시하는 도면.
도 5는 실시의 형태 1의 다른 변경례를 도시하는 단면도.
도 6은 도 5에 도시한 보호 커버의 사용 방법을 도시하는 단면도.
도 7은 본 발명의 실시의 형태 2에 의한 패턴 수정 장치의 주요부를 도시하는 단면도.
도 8은 도 7에 도시한 패턴 수정 장치의 동작을 도시하는 단면도.
도 9는 도 7에 도시한 도포 장치의 상세한 구성을 도시하는 도면.
도 10은 도 9의 X-X선 단면도.
도 11은 도 10의 B화살로 본 도면.
도 12는 도 8에 도시한 도포 장치의 상세한 구성을 도시하는 도면.
도 13은 도 12의 XⅢ-XⅢ선 단면도.
도 14는 도 13의 C화살로 본 도면.
도 15는 도 7 내지 도 14에 도시한 도포 장치의 동작을 도시하는 플로 차트.
도 16은 본 발명의 실시의 형태 3에 의한 패턴 수정 장치의 주요부를 도시하는 단면도.
도 17은 도 16에 도시한 패턴 수정 장치의 동작을 도시하는 단면도.
도 18은 도 16에 도시한 가습 유닛의 구성을 도시하는 도면.
도 19는 실시의 형태 3의 변경례를 도시하는 단면도.
도 20은 실시의 형태 3의 다른 변경례를 도시하는 도면.
도 21은 본 발명의 실시의 형태 4에 의한 패턴 수정 장치의 전체 구성을 도시하는 도면.
도 22는 실시의 형태 4의 변경례를 도시하는 도면.
도 23은 실시의 형태 4의 다른 변경례를 도시하는 도면.

도 1은, 본원 발명의 기초가 되는 패턴 수정 장치의 주요부를 도시하는 단면도이다. 도 1에서, 이 패턴 수정 장치는, 정전 흡인형의 잉크젯 노즐(1)을 구비한다. 노즐(1) 내에는 수정 잉크(2)가 주입된다. 또한 노즐(1) 내에는 전극(3)이 마련되고, 노즐(1)의 선단부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 대향 전극(4)이 마련되고, 대향 전극(4)의 노즐(1)측의 표면상에 수정 대상의 기판(5)이 배치된다. 전극(3, 4) 사이에 펄스 전압을 인가하면, 노즐(1)의 선단부터 수정 잉크(2)의 액적(2a)이 토출되고, 대전한 액적(2a)이 기판(5)의 표면에 부착(착탄(着彈))한다.

도 2(a)는, 기판(5)의 구성을 예시하는 도면이다. 도 2(a)에서, 기판(5)은, 유리 기판과 같은 절연 기판(6)을 포함한다. 절연 기판(6)의 표면에는, 복수의 도전성 패턴(배선)(7)이 소정의 간격으로 평행하게 형성되어 있다. 복수의 도전성 패턴(7)중의 1개의 도전성 패턴(7)에는, 오픈 결함부(7a)가 존재하는 것으로 한다.

오픈 결함부(7a)의 일방측(도면에서는 상측) 및 타방측(도면에서는 하측)에는, 정상적인 도전성 패턴(7)이 존재한다. 노즐(1)의 선단을 일방측의 도전성 패턴(7)의 단부(端部)로부터 오픈 결함부(7a)를 통하여 타방측의 도전성 패턴(7)의 단부까지 이동시키면서 수정 잉크(2)의 액적(2a)을 토출하면, 도 2(b)에 도시하는 바와 같이, 오픈 결함부(7a)를 덮도록 띠모양의 수정 잉크층(2A)이 형성된다. 수정 잉크(2)로서는, 예를 들면, 금, 은 등의 금속 나노 입자를 포함하는 도전성 나노 잉크를 사용한다. 수정 잉크층(2A)을 소성(燒成)하면, 수정 잉크층(2A)은 도전성을 나타내고, 오픈 결함부(7a)의 일방측의 도전성 패턴(7)과 타방측의 도전성 패턴(7)이 전기적으로 접속된다. 이와 같이 하여, 오픈 결함부(7a)가 수정된다.

그런데, 이와 같은 패턴 수정 장치는, 클린룸 내에 설치된다. 클린룸 내는, 실온 20℃ 전후, 습도 50% 이하로 관리되기 때문에, 건조하여 정전기를 발생하기 쉬운 환경이 된다. 이와 같은 저습도의 환경하에서, 정전 흡인형의 잉크젯 노즐(1)을 이용하여 표면 저항이 높아서 정전기를 띠기 쉬운 절연성이 높은 재질(예를 들면, 유리나 수지)로 형성된 절연 기판(6)의 표면에 수정 잉크(2)를 토출하는 경우에는, 정전기의 영향으로 양호한 수정 잉크층(2A)을 얻기가 어려워진다.

또한, 절연 기판(6)상에 도전성 패턴(7)이 형성된 기판(5)의 경우에는, 절연 기판(6)의 표면이 노출한 부분과 도전성 패턴(7)의 표면에서는 정전기의 발생 상황이 다르다. 즉, 도전성 패턴(7)이 존재하지 않는 위치나 도전성 패턴(7)이 결손하여 절연 기판(6)이 노출한 부분은 표면 저항이 높고 정전기를 띠기 쉽다. 역으로, 도전성 패턴(7)의 표면은 저항이 낮고, 대전한 정전기를 대기중에 방전하기 쉽게 되기 때문에, 정전기의 영향을 받기 어렵다.

예를 들면, 정전 흡인형의 잉크젯 노즐(1)로부터 오픈 결함부(7a)에 수정 잉크(2)의 액적(2a)을 토출하면, 노출한 절연 기판(6)의 표면에 쌓였던 정전기에 의해 액적(2a)이 튀겨져서 노즐(1)의 바로 아래에는 착탄하지 않고, 주위의 도전성 패턴(7)에 흡인되어, 도전성 패턴(7)의 표면 또는 도전성 패턴(7)과 절연 기판(6)의 경계부(도 2(a)의 영역(A1 내지 A4))에 수정 잉크(2)의 액적(2a)이 부착(착탄)한다. 또는, 액적(2a)이 발산(發散)하고, 안개 상태가 되어 기판(5) 표면에 비산(飛散)하는 현상도 발생한다. 이와 같이, 건조한 환경하에서는, 고저항의 절연 재질을 포함하는 기판(6)에 대해 수정 잉크(2)를 토출하면, 안정된 묘화성을 얻을 수가 없어서, 오픈 결함부(7a)의 수정이 곤란해질 가능성이 높아진다.

특허 문헌 4에서는, 이 문제를 해결하기 위해, 기판(5)과 잉크젯 장치 전체를 항온조 내에 수용하고, 항온실 내를 고습도 분위기에 유지하여 기판(5)의 표면에 쌓였던 전하를 방전시켜서 있다. 그러나, 이 방법에서는, 상술한 바와 같이, 장치의 대형화, 복잡화를 초래하는 등의 문제가 있다. 또한, 그와 같은 대형의 항온조를 클린룸 내에 마련하는 것은 바람직하지가 않다. 또한, 잉크젯 노즐(1) 등을 탑재하여 수정 위치에 이동시키는 위치 결정 스테이지 등의 정밀 기기가 항온조 내에 배치되어, 고습도 분위기하에 놓여지면, 위치 결정 스테이지에 포함된 센서, 모터, 축수부 등의 정밀 기기에의 악영향이 우려된다. 또한, 기판(5)의 종류에 의해서는 패턴에의 악영향의 발생도 생각된다.

또한, 근래에는, 플랫 패널 디스플레이의 대형화, 고정밀화에 수반하여 도전성 패턴(7)의 미세화가 진행되어, 선폭 5㎛ 이하의 도전성 패턴(7)도 있다. 그와 같은 도전성 패턴(7)의 오픈 결함부(7a)를 수정하기 위해서는, 노즐(1)의 분사구의 내경을 작게 하고 액적(2a)을 작게 할 필요가 있다. 노즐(1)의 분사구의 내경을 작게 하면, 압력이나 열을 이용하여 수정 잉크(2)를 압출하는 토출 방법에서는 잉크의 토출이 어려워진다. 따라서 정전 흡인형의 잉크젯 노즐(1)을 사용할 것이 필요하다. 본원 발명은, 이와 같은 패턴 수정 장치의 문제점을 해결하는 것이다.

[실시의 형태 1]

도 3은, 본 발명의 실시의 형태 1에 의한 패턴 수정 장치의 주요부를 도시하는 단면도이다. 도 3에서, 이 패턴 수정 장치는, 잉크젯 노즐(1)과 가습 유닛(8)을 구비한다. 가습 유닛(8)은, 원통형상의 중공 용기(9)의 내측에 물을 흡수한 원통형상의 가습 부재(물흡수부재)(10)를 마련한 것이다. 가습 부재(10)로서는, 가습용의 물의 흡수 및 방출이 가능한 다공실(多孔室) 시트 등을 이용한다.

중공 용기(9)의 상단면(上端面)(9a)은 잉크젯 노즐(1)을 고정하는 고정부재(11)의 하단면(11a)에 대해 착탈 가능한 방법으로 고정된다. 고정 방법으로서는, 도시하지 않은 자석의 흡인력을 이용하는 방법이나, 나사에 의한 고정 방법이라도 좋고, 방법은 묻지 않는다.

잉크젯 노즐(1)의 기단부는, 고정부재(11)의 하단면(11a)의 중앙부에 형성된 구멍에 삽감(揷嵌)되어 있다. 잉크젯 노즐(1)의 선단부는, 중공 용기(9)의 구멍을 관통하고, 그 선단은 중공 용기(9)의 하단면(9b)보다도 기판(5)측에 미리 정하여진 거리(W2-W1)만큼 돌출하고 있다.

잉크젯 노즐(1)로부터 오픈 결함부(7a)에 수정 잉크(2)를 토출할 때에는, 잉크젯 노즐(1)의 선단과 기판(5)이 미소한 간극(W1)을 유지하도록 고정부재(11)를 하강시킨다. 간극(W1)은, 예를 들면 100㎛이다. 이때, 중공 용기(9)의 하단면(9b)과 기판(5)은, 미소한 간극(W2)(예를 들면 200㎛)을 갖고서 대치한다. 이에 의해, 기판(5) 표면중의 오픈 결함부(7a) 및 그 부근과 중공 용기(9)에 의해 둘러싸인 공간은, 거의 밀폐된 상태가 된다. 이 때문에, 가습 부재(10)로부터 방출된 수증기에 의해 공간 내의 습도가 국부적으로 높아지고, 오픈 결함부(7a) 및 그 부근의 정전기가 제거된다. 이 상태에서, 수정 잉크(2)를 토출하면, 수정 잉크(2)의 액적(2a)은 정전기의 영향을 된 일 없이 오픈 결함부(7a)에 정확하게 착탄한다. 따라서 오픈 결함부(7a)를 정확하게 수정할 수 있다.

이 실시의 형태 1에서는, 중공 용기(9) 및 가습 부재(10)로 이루어지는 가습 유닛(8)에 의해 오픈 결함부(7a) 및 그 부근을 국부적으로 가습하기 때문에, 패턴 수정 장치 및 기판(5) 전체를 항온조에 수용하고 있던 종래에 비하여, 간단한 구성으로 오픈 결함부(7a)를 정확하게 수정할 수 있다.

도 4(a)는, 실시의 형태 1의 변경례를 도시하는 단면도로서, 도 3과 대비되는 도면이다. 또한 도 4(b)는, 도 4(a)의 A화살로 본 도면이다. 도 4(a)(b)에서, 이 변경례에서는, 중공 용기(9)의 하단부에 노치부(9c)가 형성되어 있다. 이 노치부(9c)는, 중공 용기(9)의 외측으로부터 오픈 결함부(7a)에 대한 수정 잉크(2)의 토출 상황 및 도포 상황을 관찰하기 위해 형성되어 있다.

잉크젯 노즐(1)로부터 수정 잉크(2)가 토출되는 상태를 항상 관찰하기 위해서는, 마이크로 렌즈를 장착한 카메라와 조명이 필요해지는데, 잉크젯 노즐(1)의 선단을 덮는 가습 유닛(8)이 존재하는 경우에는 가습 유닛(8)이 관찰의 장애가 된다.

그 때문에, 도 4(a)에 도시하는 바와 같이, 중공 용기(9)에 2개의 노치부(9c)를 마련하고, 한쪽의 노치부(9c)를 통하여 오픈 결함부(7a)에 조명광을 조사하고, 다른쪽의 노치부(9c)로부터 오픈 결함부(7a)에 대한 수정 잉크(2)의 토출 상황 및 도포 상황을 관찰한다.

이 변경례에서는, 실시의 형태 1과 같은 효과를 얻을 수 있는 외에, 오픈 결함부(7a)에 대한 수정 잉크(2)의 토출 상황 및 도포 상황을 관찰하면서, 오픈 결함부(7a)를 정확하게 수정할 수 있다.

또한, 카메라측에 낙사조명(落射照明)의 기능이 있고, 낙사조명으로도 충분히 관찰 가능하면, 노치부(9c)는 하나라도 좋다.

도 5는, 실시의 형태 1의 다른 변경례를 도시하는 단면도로서, 도 3과 대비되는 도면이다. 도 5에서, 이 변경례에서는, 가습 유닛(8)은 고정부재(11)에 대해 착탈 가능하게 마련되어 있다. 잉크젯 노즐(1)로서 선단의 끝이 가는 유리 캐피럴리 튜브를 이용하고 있는 경우, 그 선단은 섬세하기 때문에, 가습 유닛(8)을 착탈할 때에 노즐(1)의 선단을 손상시키지 않도록 보호하는 것이 바람직하다. 그래서, 이 변경례에서는, 잉크젯 노즐(1)의 선단을 보호하는 보호 커버(12)를 고정부재(11) 내에 구비한다.

도 5에서는, 보호 커버(12)를 하강시켜서 잉크젯 노즐(1)의 선단을 보호한 상태가 도시되어 있다. 또한 도 6은, 가습 유닛(8)을 장착한 후, 보호 커버(12)를 상승시켜서 노즐(1)의 선단을 오픈 결함부(7a)에 대치시킨 상태를 나타내고, 수정 잉크(2)의 토출이 가능한 상태를 나타낸다.

보호 커버(12)는 통형상으로 형성되어 있고, 보호 커버(12) 내에 노즐(1)이 삽입되어 있다. 보호 커버(12)는, 고정부재(11)의 하단면의 중앙부에 형성된 구멍(11b)에 내삽(內揷)된다. 노즐(1)의 기단부는, 고정부재(11)의 구멍(11b)의 바닥의 중앙부의 구멍에 감삽된다. 고정부재(11)에는 자석(도시 생략)이 고정되고, 그 자석의 자기 흡인력에 의해 고정부재(11)는 착탈 자유롭게 되고, 예를 들면 기판(5)에 대해 수직 방향으로 진퇴 가능한 Z테이블(도시 생략)에 장착된다.

보호 커버(12)의 측면에는 레버(13)가 고정되어 있다. 이 레버(13)는, 고정부재(11)의 구멍(11b)의 측벽에 형성된 긴구멍(11c)에 삽입되어 있다. 레버(13)는, 긴구멍(11c) 내에서 상하 방향으로 이동 가능하게 마련되어 있다. 레버(13)를 손으로 상하 방향으로 이동시키면, 보호 커버(12)는 고정부재(11)에 대해 긴구멍(11c)의 범위 내에서 상하 방향으로 이동한다.

보호 커버(12)의 상단부의 외주에는 환상(環狀)의 홈(12b)이 형성되고, 보호 커버(12)의 하단부의 외주에는 환상의 홈(12c)이 형성된다. 고정부재(11)의 구멍(11b)의 하단부의 측벽에는 플런저(14)가 마련된다. 플런저(14)의 구슬(球)(14a)(또는 실린더)은, 스프링(14b)에 의해 보호 커버(12)의 외주면에 대해 수직 방향으로 가세된다. 구슬(14a)이 홈(12b 또는 12c)에 들어감에 의해, 보호 커버(12)는 상측의 위치 또는 하측의 위치에 고정된다.

홈(12b)에 구슬(14a)이 들어가면, 도 5에 도시하는 바와 같이, 보호 커버(12)는 하측의 위치에서 고정되고, 노즐(1)의 선단은 보호 커버(12)로 덮여 보호된다. 홈(12c)에 구슬(14a)이 들어가면, 도 6에 도시하는 바와 같이, 보호 커버(12)는 상측의 위치에서 고정되고, 노즐(1)의 선단이 노출하여 수정 잉크(2)의 토출이 가능해진다.

잉크젯 노즐(1)에 대해 보호 커버(12)를 상하로 진퇴시킴으로써 노즐(1)의 선단을 보호할 수 있기 때문에, 가습 유닛(8)의 착탈시, 또는, 노즐(1)이 장착된 고정부재(11)를 도시하지 않은 Z축에 착탈할 때에 노즐(1)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.

또한, 노즐(1)의 하측부터 독립된 캡을 씌워서 보호하는 것도 생각되지만, 그 경우에는, 캡을 노즐(1)의 선단에 충돌시키는 경우가 상정된다. 이에 대해, 보호 커버(12)를 상하 방향으로 이동하는 것만으로, 노즐(1)을 보호할 수 있기 때문에, 노즐(1)과 보호 커버(12)의 충돌이 생기는 일도 없고, 조작성은 양호하게 된다.

[실시의 형태 2]

도 7은, 본 발명의 실시의 형태 2에 의한 패턴 수정 장치의 주요부를 도시하는 단면도로서, 도 6과 대비되는 도면이다. 도 7에서, 이 패턴 수정 장치에서는, 고정부재(11)에 가습 유닛(8)을 장착한 상태에서, 노즐(1)과 원판형상의 폐기판(15)이 대치한다. 또한, 폐기판(捨打板)(15)을 소정 각도씩 회전 구동시키는 모터(16)가 구비된다.

도 7에서는, 잉크젯 노즐(1)의 선단과 폐기판(15)의 윗면이 일정한 간극을 갖고서 대치한 상태가 도시되어 있다. 이 상태에서, 노즐(1)의 선단부터 폐기판(15)의 표면에 수정 잉크(2)를 토출함에 의해, 기판(5)이 수정 잉크(2)로 오염되는 것을 방지함과 함께, 노즐(1)의 선단이 막히지 않도록 하여 잉크 도포를 안정화시킨다. 통상, 수정 잉크(2)의 폐기는, 수정 잉크(2)를 기판(5)의 표면에 토출하기 직전에 행하는 것이 바람직하다.

폐기판(15)을 금속으로 형성하고 접지하면, 폐기판(15)에 정전기는 발생하지 않고, 토출된 잉크(2)의 액적(2a)이 발산하는 일은 없기 때문에, 폐기판(15)의 표면을 가습할 필요는 없다. 또한, 폐기판(15)의 표면이 유리와 같은 절연체인 경우에는, 그 표면 저항을 내리기 위해 정전기 방지제를 도포하여 두는 것이 바람직하다. 예를 들면 실록산계의 정전기 방지제를 폐기판(15)의 표면에 도포하면, 유리모양 물질의 박막이 형성된다. 그 박막은 대기중의 수분을 흡착하기 때문에, 폐기판(15)의 표면 저항이 저하되어 대전이 방지된다.

또한, 폐기판(15)의 대전 방지가 불충분한 경우에도, 폐기판(15)과 가습 유닛(8)은 미소한 간극을 갖고서 대치하고 있고, 가습 유닛(8)은 노즐(1)의 하방에 있는 폐기판(15)의 표면을 국부적으로 가습하고 있다. 이 때문에, 폐기하는 수정 잉크(2)는 발산하는 일 없이, 폐기판(15)의 표면에 착탄한다.

또한, 수정을 행하지 않는 대기시에는, 도 7에 도시하는 상태가 유지되어, 가습 유닛(8)의 중공 용기(9)의 하단면(9b)은 폐기판(15)과 미소 간극을 갖고서 대치하는 것으로 되기 때문에, 가습 유닛(8) 내의 가습 부재(10)의 건조가 억제된다.

수정 잉크(2)의 폐기를 행한 후에, 도 8에 도시하는 바와 같이, 폐기판(15)을 횡방향으로 퇴피시킴과 함께 잉크젯 노즐(1)을 하강시켜서, 노즐(1)의 선단과 기판(5)의 표면 사이의 간극을 소정치로 설정한다. 이 상태에서, 노즐(1)의 선단부터 수정 잉크(2)의 액적(2a)을 토출함과 함께, 노즐(1)과 기판(5)을 상대이동하면서 수정 잉크층(2A)을 형성한다.

또한, 노즐(1)을 하강하여 기판(5)과 대치한 상태에서 조금 대기시간을 두고, 결함부(7a)를 포함하는 기판(5)의 표면 습도가 높아지고 나서(안정되고 나서) 토출을 행하도록 하여도 좋다.

다음에, 패턴 수정 장치의 도포 장치를 보다 상세히 설명한다. 도 9로부터 도 11은 패턴 수정 장치의 도포 장치의 상세한 구성을 도시하는 도면이고, 특히, 도 9는 도포 장치의 정면도이고, 도 10은 도 9의 X-X선 단면도이고, 도 11은 도 10의 B화살로 본 도면이다. 도 9로부터 도 11에서는, 수정 잉크(2)를 도포한 잉크젯 노즐(1)의 바로 아래에 폐기판이 간극(W3)을 벌려서 대치하고 있고, 폐기 동작이 가능한 상태가 도시되어 있다. 또한, 간극(W3)은 전술의 간극(W1)과 같은 정도가 된다.

또한, 도 12로부터 도 14에서는, 폐기판(15)이 옆으로 퇴피함과 함께, 잉크젯 노즐(1)이 하강하여, 노즐(1)과 기판(5)이 간극(W1)을 벌려서 대치한 상태가 도시되어 있다. 이 상태에서 기판(5)에 대해 수정 잉크(2)의 도포가 가능해진다. 도 12는 패턴 수정 장치의 도포 장치의 정면도이고, 도 13은 도 12의 XⅢ-XⅢ선 단면도이고, 도 14는 도 13의 C화살로 본 도면이다.

우선, 도 9로부터 도 11을 이용하여 도포 장치의 구성에 관해 설명한다. 도포 장치 전체를 지지한 베이스판(17)은 수직으로 마련되어 있고, 베이스판(17)의 표면에 직동 안내 축받이(18)의 슬라이드부(18a)가 고정되고, 베이스판(17)의 이면에 직동 안내 축받이(19)의 슬라이드부(19a)가 고정되어 있다. 직동 안내 축받이(18)의 슬라이드부(18a)는 수직으로 배치되고, 직동 안내 축받이(19)의 슬라이드부(19a)는 수평으로 배치되어 있다.

직동 안내 축받이(18)의 레일부(18b)에는, 단면 L자형의 Z테이블(20)이 고정된다. 따라서 Z테이블(20)은, 직동 안내 축받이(18)에 의해 베이스판(17)에 대해 상하 방향으로 진퇴 가능하게 지지된다. 또한, Z테이블(20)의 돌출한 단부에는 롤러(21)가 고정되고, 그 일측면에는 복수의 자석(22)이 매설되어 있다. 직동 안내 축받이(19)의 레일부(19b)에는, X테이블(23)이 고정된다. 따라서 X테이블(23)은, 직동 안내 축받이(19)에 의해 베이스판(17)에 대해 수평 방향으로 진퇴 가능하게 지지된다.

잉크젯 노즐(1)의 기단부는, 고정부재(11)에 지지된다. 고정부재(11)의 일단면에는 복수의 자석(24)이 매설되어 있다. 고정부재(11)는, 자석(22)과 자석(24)의 흡인력에 의해 Z테이블(20)에 장착된다. 자석(22)과 자석(24)은 중심을 어긋내여 배치하고 있기 때문에, 고정부재(11)를 Z테이블(20)에 장착할 때에는 고정부재(11)는 하방으로 흡인되고, 그 단면(端面)(11c)이 Z테이블(20)의 윗면(20a)에 꽉 눌려 위치 결정된다.

X테이블(23)의 하단에는 모터(16)가 고정되고, 모터(16)의 회전축은 원판형상의 폐기판(15)의 중앙에 고정된다. 모터(16)에 의해 폐기판(15)을 소정 각도씩 회전시킴에 의해, 잉크(2)의 폐기 위치를 조금씩 바꾸는 것이 가능해진다. 노즐(1)의 바로 아래에 일정한 간극(W3)을 벌려서 폐기판(15)이 대치하고 있고, 폐기할 때에는 폐기판(15)의 표면에 폐기가 행하여진다. 폐기된 잉크(2)가 적층되고 노즐(1)과 접촉하여 노즐(1)의 선단을 손상시키지 않도록, 미리 폐기 전에 폐기판(15)을 소정 각도만큼 회전시켜 둔다.

Z테이블(20)에 고정된 롤러(21)는, X테이블(23)의 상단부에 맞닿아 있다. X테이블(23)의 상단부에는, 수평부(23a)와 경사부(23b)를 갖는 모방면(캠면)이 형성되어 있다. 이 때문에, 노즐(1)의 수직 방향의 높이 위치는, 롤러(21)와 X테이블(23)과의 접합 위치로 결정된다. X테이블(23)을 수평 방향으로 이동시켜서, 롤러(21)와 X테이블(23)과의 접합 위치를 바꿈으로써, 폐기판(15)의 퇴피와 노즐(1)의 하강을 동시에 행하는 것이 가능해진다. X테이블(23)을 이동시키는 구동 장치(25)(예를 들면 에어 실린더나 직동 솔레노이드 액추에이터)는 베이스판(17)에 고정되어 있고, 그 출력축은 X테이블(23)에 연결되어 있다. 구동 장치(25)의 출력축은 수평 방향으로 신축한다.

도 9의 상태에서 노즐(1)이 잉크(2)의 폐기를 행하면, 잉크(2)가 폐기판(15)상에 착탄한다. 폐기 종료 후, 모터(16)의 회전축을 소정 각도만큼 회전시켜서 폐기판(15)을 소정 각도만큼 회전시켜, 다음회의 폐기에 대비한다. 가령 폐기판(15)을 회전시키지 않고 항상 동일한 위치에 폐기를 실행하면, 폐기된 잉크(2)의 액적(2a)이 퇴적하여 노즐(1)의 선단에 접촉하여, 노즐(1)의 손상이 우려된다. 그러나, 폐기판(15)을 회전시키는 기능을 구비함으로써 그 우려가 불식된다. 폐기가 완료되고, 폐기판(15)의 소정 각도의 회전이 종료된 시점에서, 폐기판(15)의 퇴피와 노즐(1)의 하강을 구동 장치(25)의 조작에 의해 실행한다. 또한, 폐기 후에 폐기판(15)을 회전시키는 대신에, 결함부(7a)에의 묘화가 완료된 시점에서 폐기판(15)을 회전시키도록 하여, 폐기로부터 묘화 시작까지의 시간을 단축하도록 하여도 좋다.

다음에 X테이블(23)의 이동에 수반하여 Z테이블(20)이 하강하는 공정에 관해 설명한다. 구동 장치(25)의 조작에 의해 X테이블(23)이 수평 이동하면, 초기는 롤러(21)와 X테이블(23)의 수평부(23a)가 맞닿은 상태에 있기 때문에, Z테이블(20)은 하강하지 않고, X테이블(23)만이 수평 방향으로 이동한다. 이 상태는 노즐(1)의 바로 아래로부터 폐기판(15)이 벗어날 때까지 계속된다. 그 후, 롤러(21)가 X테이블(23)의 경사부(23b)에 맞닿기 시작하면, Z테이블(20)은 직동 안내 축받이(18)에 의해 그 자중으로 하강을 시작하고, Z테이블(20)의 돌출부가 베이스판(17)의 상부에 접촉한 시점에서 하강이 정지한다. 도 12로부터 도 14는 Z테이블(20)이 하강하여 정지한 상태를 나타낸다.

이와 같은 구성으로 함으로써, 하나의 구동 장치(25)라 하여도 수평 방향과 수직 방향의 2축 구동이 가능해지고, 장치의 간략화를 실현할 수 있다. 또한, 그에 의해, 폐기판(15)의 퇴피와 노즐(1)의 하강을 단시간에 행할 수 있고, 노즐(1) 내에서 잉크(2)의 점도가 높아져서 토출 불능이 되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 폐기판(15)의 퇴피와 노즐(1)의 하강을 일련 동작으로 행하기 때문에, 노즐(1)과 폐기판(15)이 충돌하는 조작 미스를 회피할 수 있다.

또한, 고정부재(11)의 단면(11c)부터 노즐(1)의 선단까지의 거리를 확대경 등의 관찰 광학계를 이용하여 기준치로 설정하고 나서 고정부재(11)를 설치하면, 고정부재(11)의 단면(11c)과 폐기판(15)까지의 거리는 일정하게 되어, 노즐(1)의 선단과 폐기판(15)의 표면과의 간극을 소정치로 설정할 수 있다. 그 때문에, 노즐(1)의 선단이 폐기판(15)에 접촉하여 손상되는 것을 방지할 수 있다.

도 15는, 이 패턴 수정 장치의 동작을 도시하는 플로 차트이다. 기판(5)에의 묘화 지령을 접수하면, 묘화 위치에 도포 장치를 이동시키고(S1), 수정 잉크(2)의 폐기를 행한다(S2). 다음에, 폐기판(15)을 퇴피시킴과 함께, 노즐(1)을 하강시킨다(S3). 그 후, 기판(5) 표면중의 결함부(7a) 및 그 부근이 가습될 때까지 대기한다(S4). 습도가 안정된 상태에서 수정 잉크(2)를 토출하여 수정 잉크층(2A)을 묘화한다(S5). 수정 잉크층(2A)의 묘화가 종료되면, 폐기판(15)을 미소 각도만큼 회전시켜(S6), 폐기판(15)을 노즐(1)의 하방으로 복귀시킨다(S7). 이에 의해, 1회의 도포 동작을 종료한다.

기판(5)에 생성된 수정 잉크층(2A)에는, 도포 공정의 종료 후에 경화 처리 또는 소성 처리가 시행된다. 그 후, 기판(5)의 물 세정을 행하는 것 같은 용도라면, 기판(5)에 대한 국부 가습의 영향은 무시할 수 있는 정도가 된다. 또한, 가습하는 기간은 잉크 도포(묘화)시 뿐이고, 대기시에는 기판(5)의 표면에의 국부 가습은 행하지 않기 때문에, 기판(5)에의 영향을 최소한으로 멈출 수 있다.

[실시의 형태 3]

도 16 및 도 17은, 본 발명의 실시의 형태 2에 의한 패턴 수정 장치의 주요부를 도시하는 도면이고, 각각 도 9 및 도 12와 대비되는 도면이다. 도 16은 대기 상태를 나타내고, 도 17은 묘화 가능 상태를 나타낸다. 도 16 및 도 17에서, 이 패턴 수정 장치가 실시의 형태 2와 다른 점은, 가습 유닛(8)이 가습 유닛(26)으로 치환되어 있는 점이다.

도 18(a)(b)는 가습 유닛(26)의 구성을 도시하는 도면이고, 도 18(b)는 도 18(a)의 XⅧB-XⅧB선 단면도이다. 도 18(a)(b)에서, 가습 유닛(26)은, 얇은 바닥이 있는 직방체형상의 용기(30)와, 장방형상의 덮개(31)와, 가습을 위한 물을 흡수한 직방체형상의 가습 부재(32)를 포함한다. 가습 부재(32)는 용기(30) 내에 수용되고, 용기(30)의 개구부는 덮개(31)에 의해 폐개(閉蓋)되어 있다. 덮개(31)의 중앙부, 가습 부재(32)의 중앙부, 및 용기(30)의 중앙부에는, 각각 구멍(31a, 32a, 30a)이 형성되어 있다. 구멍(31a, 32a, 30a)의 중심선은 일치하고 있고, 구멍(31a, 32a, 30a)은 하나의 관통구멍을 구성하고 있다. 이 관통구멍에는, 잉크젯 노즐(1)의 선단부가 삽탈된다. 또한, 덮개(31)의 구석에는, 나사구멍(33)이 형성되어 있다.

가습 유닛(26)은, 도포 장치의 베이스판(17)에 고정된 지지판(28)에 착탈 가능하게 고정된다. 도 16 및 도 17에서는, 손으로 돌리는 것이 가능한 볼트(29)를 가습 유닛(26)에 마련한 나사구멍(33)에 나사결합함으로써 고정하고 있다. 또한, 자석의 흡인력을 이용하여 가습 유닛(26)을 착탈 가능하게 마련하여도 좋고, 가습 유닛(26)의 고정 방법은 묻지 않는다.

가습 유닛(26)은, 기판(5)에 항상 근접하여 배치된다. 용기(30)의 저면과 기판(5)의 표면과의 간극은, 예를 들면 1 내지 5㎜ 정도로 설정된다. 노즐(1)이 결함부(7a)의 상방에 위치맞춤된 단계에서 결함부(7a) 및 그 부근이 국부적으로 가습되기 때문에, 폐기판(15)을 퇴피하여 노즐(1)을 하강한 때에는 이미 결함부(7a) 및 그 부근은 적당하게 가습되어, 기판(5)의 표면에 쌓였던 정전기는 이미 방전되어 있다. 그 때문에, 도 15에 도시한 플로 차트의 대기 공정(S4)을 생략하여도 좋다. 이 실시의 형태 3에서도, 실시의 형태 1, 2와 같은 효과를 얻을 수 있다.

또한, 가습 능력을 향상시키기 위해, 도 19에 도시하는 바와 같이, 용기(30)의 바닥의 구멍(30a)을 다른 구멍(31a, 32a)보다도 크게 형성하여, 기판(5)과 가습 부재(32)가 직접 대치한 영역을 마련하여도 좋다.

또한, 본 실시의 형태 3에서는, 도 4(a)(b)에서 도시한 바와 같은 경사 관찰을 행하기 위해서는 구멍(30a, 31a, 32a)의 직경을 크게 할 필요가 있다. 그러나, 구멍(30a, 31a, 32a)의 직경을 크게 하면, 결함부(7a) 및 그 부근을 국부 가습하기가 어려워진다. 그래서, 도 20의 변경례에서는, 용기(30)의 측면으로부터 구멍(30a, 31a, 32a)에 연통하는 직선형상의 노치부(34)가 용기(30), 덮개(31), 및 가습 부재(32)에 형성된다. 이 노치부(34)가 카메라나 조명의 광로가 되어, 결함부(7a)에 대한 수정 잉크(2)의 토출 상황이나 도포 상황을 관찰하는 것이 가능해진다.

또한, 본 실시의 형태 3에서는, 대기시에도 가습 유닛(26)이 기판(5)에 근접 대치하고 있는 경우가 있고, 이 경우, 정상적인 기판(5) 표면을 국부적으로 계속 가습하게 된다. 가습 시간이 길어지면, 기판(5) 표면에 국부적으로 결로가 발생하고, 기판(5)에 악영향이 발생하는 것도 상정된다. 그래서, 도 16 및 도 17에 도시하는 바와 같이, 가습 유닛(26)의 저면과 기판(5)과의 사이에 차폐판(35)을 마련하여도 좋다. 차폐판(35)은, 기판(5)의 표면을 가습할 필요가 없는 경우는, 가습 유닛(26)과 기판(5)의 사이에 삽입되고, 기판(5)의 표면을 가습할 필요가 있는 경우는, 가습 유닛(26)과 기판(5)의 사이로부터 벗어난 위치로 퇴피된다. 예를 들면, 차폐판(35)은 폐기판(15)의 퇴피 동작과 함께 이동 가능하게 되어, 도 16 및 도 17에 도시하는 바와 같이, 차폐판(35)은 X테이블(23)에 연결된다.

[실시의 형태 4]

도 21은, 본 발명의 실시의 형태 4에 의한 패턴 수정 장치(40)의 전체 구성을 도시하는 사시도이다. 도 21에서, 이 패턴 수정 장치(40)에서는, 정반(41)의 중앙부에 척(42)이 마련되고, 척(42)에는 수정 대상의 기판(5)이 고정된다.

또한, 정반(41)에는, 갠트리형의 XY 스테이지(43)가 탑재되어 있다. XY 스테이지(43)는, X축 스테이지(43a)와 문형의 Y축 스테이지(43b)를 포함한다. Y축 스테이지(43b)는, 척(42)을 넘도록 마련되고, 도면중의 Y축방향으로 이동한다. X축 스테이지(43a)는, Y축 스테이지(43b)에 탑재되고, 도면중의 X방향으로 이동한다.

X축 스테이지(43a)에는, 상하 방향으로 이동 가능한 Z축 스테이지(44)가 탑재된다. Z축 스테이지(44)에는, 관찰 광학계(45), 대물 렌즈(46), 레이저(47), 도포 장치(48), 및 소성 장치(50)가 탑재되어 있다. X축 스테이지(43a), Y축 스테이지(43b), 및 Z축 스테이지(44)를 제어함에 의해, 관찰 광학계(45), 레이저(47), 도포 장치(48), 소성 장치(50)의 각각을 기판(5) 표면의 소망하는 위치의 상방에 이동시키는 것이 가능하게 되어 있다.

관찰 광학계(45)는, 대물 렌즈(46)를 통하여, 기판(5)상의 패턴의 결함부(7a) 등을 관찰하기 위해 사용된다. 레이저(47)는, 관찰 광학계(45) 및 대물 렌즈(46)를 통하여 기판(5)상의 결함에 레이저광을 조사하고, 레이저 어브레이전에 의해 그 결함 형상을 정형(整形)하거나, 결함 및 그 주위에 여분으로 부착한 수정 잉크(2)를 제거하기 위해 사용된다. 도포 장치(48)는, 수정 잉크(2)를 토출하는 잉크젯 노즐(1)과, 기판(5) 표면을 국부적으로 가습하고, 용이하게 착탈 가능한 가습 유닛(8)을 포함한다.

또한, 필요에 응하여 도포 장치(48) 내에 노즐(1)에 의해 폐기된 수정 잉크(2)를 받는 폐기판(15)을 마련하여도 좋다. 이 예에서는, 도포 장치(48)는 상하 방향으로 진퇴 가능한 Z축 스테이지(49)를 통하여 Z축 스테이지(44)에 고정되어 있다. 도포 장치(48)는, Z축 스테이지(44)에 직접 고정하여 있어도 좋고, Z축 스테이지(44) 이외의 것에 고정하여도 좋다. 또한, 소성 장치(50)는, 기판(5)에 도포된 수정 잉크(2)를 소성하기 위해 사용된다.

다음에, 이 패턴 수정 장치의 동작에 관해 설명한다. 우선 스테이지(43a, 43b, 44)를 제어하여, 관찰 광학계(45) 및 대물 렌즈(46)의 광축을 오픈 결함부(7a)에 위치 결정하고, 오픈 결함부(7a)를 관찰한다. 결함부(7a)의 형상의 정형이 필요한 경우는, 레이저(47)로부터 결함부(7a)에 레이저광을 조사하여 결함부(7a)를 수정하기 쉬운 형상으로 정형한다.

다음에, 스테이지(43a, 43b, 44)를 제어하여, 잉크젯 노즐(1)의 선단을 결함부(7a)의 상방에 위치 결정하고, 실시의 형태 1 내지 3에서 설명한 바와 같이, 결함부(7a) 및 그 부근을 가습한 상태에서 수정 잉크(2)의 액적(2a)을 결함부(7a)에 토출하고, 결함부(7a)에 수정 잉크층(2A)을 형성한다.

뒤이어, 스테이지(43a, 43b, 44)를 제어하여, 소성 장치(50)를 수정 잉크층(2A)의 상방에 위치 결정하고, 수정 잉크층(2A)을 소성하여 도전성의 도전성 패턴을 생성한다.

도 22는, 패턴 수정 장치의 변경례를 도시하는 도면이다. 이 변경례에서는, Z축 스테이지(49)가 XYZ 스테이지(51)로 치환된다. XYZ 스테이지(51)는, X축 스테이지(52), Z축 스테이지(53) 및 Y축 스테이지(54)를 포함한다. X축 스테이지(52)는, 도포 장치(48)를 X축방향으로 이동시킨다. Z축 스테이지(53)는, X축 스테이지(52)를 Z축방향으로 이동시킨다. Y축 스테이지(54)는, Z축 스테이지(53)를 Y축방향으로 이동시킨다.

이 경우, 관찰 광학계(45)를 이용하여 오픈 결함부(7a)를 관찰하면서, XYZ 스테이지(51)를 조작하여, 대물 렌즈(46)와 기판(5)과의 사이에 도포 장치(48)를 삽입하고, 결함부(7a)에 수정 잉크(2)를 도포하는 것도 가능하고, 도포시에는 대형의 XY 스테이지(43)의 상대이동이 생략된다.

또한, 도포 장치(48)를 대물 렌즈(46)의 바로 아래에 넣지 않고, 관찰 광학계(45)로 관찰한 결함부(7a)를 상대이동시켜서 도포 장치(48)의 하방에 위치 결정하고 나서, XYZ 스테이지(51)를 제어하여 수정 잉크(2)를 도포하는 방식이라도 좋다.

도 23은, 패턴 수정 장치의 다른 변경례를 도시하는 도면이다. 이 변경례에서는, 대물 렌즈(46)의 배율의 변경을 행하는 대물 렌즈 전환기(XY 스테이지)(55)에 도포 장치(48)가 고정된다. 대물 렌즈 전환기(55)는, 예를 들면 도 21의 Z축 스테이지(44)에 탑재된다. 대물 렌즈 전환기(55)는, 수평 방향(XY 방향)으로 이동 가능한 가동판(56)을 포함한다. 가동판(56)의 하면에는, 서로 배율이 다른 복수의 대물 렌즈(46)가 탑재되어 있다. 가동판(56)에는, 각 대물 렌즈(46)에 대응하여 관통구멍(56a)이 개구되어 있다. 각 대물 렌즈(46)의 광축은, 구멍(56a)의 중심을 수직으로 관통하고 있다. 대물 렌즈 전환기(55)를 제어하여, 소망하는 배율의 대물 렌즈(46)의 광축을 관찰 광학계(45)의 광축에 일치시킴에 의해, 소망하는 배율로 결함부(7a)를 관찰할 수 있다.

도포 장치(48)는, 가동판(56)의 하면에 복수의 대물 렌즈(46)와 함께 탑재된다. 따라서 대물 렌즈 전환기(55)를 제어함에 의해, 도포 장치(48)를 결함부(7a)의 상방에 이동시킬 수 있다. 도포 장치(48)를 이용한 수정 잉크(2)의 도포 방법은, 전술의 방법과 같기 때문에, 그 설명은 반복하지 않는다. 이 변경례에서는, 도 22의 변경례에 있엇던 XYZ 스테이지(51)를 생략할 수 있기 때문에, 장치 구성이 간소화된다. 또한, 대물 렌즈(46)로 결함부(7a)를 관찰하고 있는 위치로부터 가까운 위치에 도포 장치(48)가 배치되기 때문에, 도포 장치(48)의 이동시간이 단축되고, 수정 택트 타임이 단축된다.

또한, 대물 렌즈 전환기(55)와 기판(5)과의 거리를 측정하는 거리 센서(높이 센서)(57)를 대물 렌즈 전환기(55)에 탑재하고 있어도 좋다. 통상, 관찰 광학계(45)에서 관찰하고 있는 화상이 초점(포커스) 위치에 있는 Z축 스테이지(44)의 위치를 기준으로 하여, 이 상태(포커스 상태)로 폐기판(15)의 퇴피 및 노즐(1)을 하강한 때에, 노즐(1)과 기판(5)과의 간극이 일정치가 되도록 도포 장치(48)의 위치가 고정된다.

그러나, 기판(5)이 대형화함에 따라서 기판(5)을 수평으로 유지하는 것이 어려워지고, 그 표면의 평탄도는 나빠지기 때문에, 폐기판(15)의 이동에 수반하여 노즐(1)이 스토퍼 위치까지 하강한 경우에, 노즐(1)의 선단이 기판(5)에 접촉하는 경우가 상정된다. 또한, 서로 배율이 다른 복수의 대물 렌즈(46)의 Z축 포커스 위치에는 차(差)가 있기 때문에, 포커스 위치를 기준으로 한 경우에도 도포를 시작할 때에 선택되어 있는 대물 렌즈(46)의 배율에 의해, 노즐(1)의 선단부터 기판(5)까지의 거리는 약간 다르다. 이 때문에, 노즐(1)의 선단과 기판(5)이 접촉할 가능성이 높아진다. 또는, 인위적으로 디포커스 상태에서 폐기판(15)의 이동과 노즐(1)의 하강을 행한 경우에도, 마찬가지로 노즐(1)과 기판(5)이 접촉할 가능성이 있어서 바람직하지가 않다.

그래서, 기판(5)과 노즐(1)과의 접촉 또는 충돌을 회피하기 위해, 대물 렌즈 전환기(55)에, 기판(5)까지의 거리를 비접촉으로 측정하는 거리 센서(57)를 마련한다. 노즐(1)의 하강을 수반하는 조작을 행하기 전에, 거리 센서(57)에서 측정한 기판(5)까지의 거리에 의거하여 Z축 스테이지(44)를 제어하여, 대물 렌즈 전환기(55)의 상하 방향의 위치를 미조정한다.

이와 같이, 도포 장치(48)의 부근에 정밀 기기, 예를 들면 거리 센서(57), 대물 렌즈(46), 대물 렌즈 전환기(55) 등이 있어도, 결함 수정할 때에 가습하는 영역은 결함부(7a)를 포함하는 미소 범위로 한정되기 때문에, 정밀 기기에의 영향을 최소한으로 멈추는 것이 가능해진다. 또한, 가습 유닛(8)(26)은 착탈 용이하게 도포 장치(48) 내에 장착되기 때문에, 정기적인 교환이 가능해지고, 메인터넌스 시간의 단축에 이어진다.

금회 개시된 실시의 형태는 모든 점에서 예시이고 제한적인 것이 아니라고 생각되어야 할 것이다. 본 발명의 범위는 상기한 설명이 아니라 청구의 범위에 의해 나타나고, 청구의 범위와 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.

1 : 잉크젯 노즐
2 : 수정 잉크
2a : 액적
2A : 수정 잉크층
3 : 전극
4 : 대향 전극
5 : 기판
6 : 절연 기판
7 : 도전성 패턴
7a : 오픈 결함부
8, 26 : 가습 유닛
9 : 중공 용기
9a : 상단면
9b : 하단면
9c, 34 : 노치부
10, 32 : 가습 부재
11 : 고정부재
11a : 하단면
11b : 구멍
11c : 긴구멍
12 : 보호 커버
12b, 12c : 홈
13 : 레버
14 : 플런저
14a : 구슬
14b : 스프링
15 : 폐기판
16 : 모터
17 : 베이스판
18, 19 : 직동 안내 축받이
18a, 19a : 슬라이드부
18b, 19b : 레일부
20 : Z테이블
20a : 윗면
21 : 롤러
22, 24 : 자석
23 : X테이블
23a : 수평부
23b : 경사부
25 : 구동 장치
28 : 지지판
29 : 볼트
30 : 용기
30a, 31a, 32a : 구멍
31 : 덮개
33 : 나사구멍
35 : 차폐판
40 : 패턴 수정 장치
41 : 정반
42 : 척
43 : XY 스테이지
43a, 52 : X축 스테이지
43b, 54 : Y축 스테이지
44, 46, 53 : Z축 스테이지
45 : 관찰 광학계
46 : 대물 렌즈
47 : 레이저
48 : 도포 장치
50 : 소성 장치
51 : XYZ 스테이지
55 : 대물 렌즈 전환기
56 : 가동판
56a : 관통구멍
57 : 거리 센서

Claims (15)

1. 기판(5)의 표면에 형성된 패턴(7)의 결함부(7a)를 수정하는 패턴 수정 장치로서,
   상기 결함부(7a) 및 그 부근의 습도를 국부적으로 높여, 상기 결함부(7a) 및 그 부근의 정전기를 제거하는 가습 유닛(8, 26)과,
   상기 가습 유닛(8, 26)에 의해 정전기가 제거된 상기 결함부(7a)에 수정액(2)의 액적(2a)을 토출하는 정전 흡인형의 잉크젯 노즐(1)을 구비하고,
   상기 가습 유닛(8, 26)은,
   상기 잉크젯 노즐(1)의 선단부가 삽입되는 관통구멍을 갖는 중공부재(9, 30, 31)와,
   상기 중공부재(9, 30, 31) 내에 마련되고, 가습용의 물의 흡수 및 방출이 가능한 물흡수부재(10, 32)를 포함하고,
   상기 물흡수부재(10, 32)로부터 방출된 상기 물의 증기는, 상기 관통구멍을 통하여 상기 결함부(7a) 및 그 부근에 공급되는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 중공부재(9, 30, 31)는 통부재(9)를 포함하고,
   상기 물흡수부재(10)는 상기 통부재(9)의 내벽에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
3. 제2항에 있어서,
   상기 잉크젯 노즐(1)의 선단은, 상기 통부재(9)의 단면보다도 미리 정하여진 거리만큼 상기 기판(5)측으로 돌출하는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
4. 제2항에 있어서,
   상기 통부재(9)의 상기 기판(5)측의 단부에는, 상기 통부재(9)의 외측으로부터 상기 결함부(7a)를 관찰하기 위한 노치부(9c)가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
5. 제2항에 있어서,
   또한, 상기 잉크젯 노즐(1)의 기단부를 고정하는 고정부재(11)를 구비하고,
   상기 가습 유닛(8)은, 상기 고정부재(11)에 대해 착탈 가능하게 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
6. 제5항에 있어서,
   또한, 상기 잉크젯 노즐(1)과 상기 통부재(9)와의 사이에서 상기 잉크젯 노즐(1)의 길이 방향으로 이동 가능하게 마련된 통형상의 보호 커버(12)와,
   상기 가습 유닛(8)의 착탈시는, 상기 보호 커버(12)를 제1의 위치에 유지하여 상기 보호 커버(12)에 의해 상기 잉크젯 노즐(1)의 선단부를 덮고, 상기 가습 유닛(8)을 사용하는 경우는, 상기 보호 커버(12)를 제2의 위치에 유지하여 상기 잉크젯 노즐(1)의 선단부를 상기 보호 커버(12)로부터 노출시키는 유지부재(14)를 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
7. 제1항에 있어서,
   상기 중공부재(9, 30, 31)는,
   그 저면이 상기 기판(5)의 표면에 대해 미리 정하여진 간극을 벌려서 배치되고, 그 바닥에 제1의 구멍(30a)이 형성된 용기(30)와,
   제2의 구멍(31a)이 형성되고, 상기 용기(30)의 개구부를 닫는 덮개(31)를 포함하고,
   상기 관통구멍은 상기 제1 및 제2의 구멍(30a, 31a)을 포함하고,
   상기 물흡수부재(32)는 상기 용기(30) 내에 마련되는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
8. 제7항에 있어서,
   상기 잉크젯 노즐(1)의 선단은, 상기 용기(30)의 저면보다도 미리 정하여진 거리만큼 상기 기판(5)측으로 돌출하는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
9. 제7항에 있어서,
   상기 제1의 구멍(30a)의 내경은 상기 제2의 구멍(31a)의 내경과 같은 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
10. 제7항에 있어서,
    상기 제1의 구멍(30a)의 내경은 상기 제2의 구멍(31a)의 내경보다도 큰 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
11. 제7항에 있어서,
    상기 용기(30) 및 상기 덮개(31)에는, 상기 제1 및 제2의 구멍에 연통하고, 상기 결함부(7a)를 관찰하기 위한 노치부(34)가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
12. 제1항에 있어서,
    상기 가습 유닛(8, 26)은 교환 가능하게 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
13. 제1항에 있어서,
    또한, 상기 잉크젯 노즐(1)에 의해 폐기된 토출 잉크를 받는 폐기판(15)과,
    상기 수정 잉크의 폐기를 행하는 폐기 동작시는, 상기 잉크젯 노즐(1)과 상기 기판(5)의 사이에 상기 폐기판(15)을 삽입하고, 상기 폐기 동작의 종료 후는, 상기 잉크젯 노즐(1)과 상기 기판(5)의 사이로부터 상기 폐기판(15)을 퇴피시키는 제1의 구동 수단(25)과,
    상기 잉크젯 노즐(1)과 상기 기판(5)의 사이에 상기 폐기판(15)이 삽입됨에 따라 상기 잉크젯 노즐(1)을 상승시키고, 상기 인젝트 노즐(1)과 상기 기판(5)의 사이로부터 상기 폐기판(15)이 퇴피됨에 따라 상기 잉크젯 노즐(1)을 하강시키는 모방 기구(23)를 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
14. 제1항에 있어서,
    상기 가습 유닛(26)과 상기 기판(5)과의 사이를 차폐하기 위한 차폐판(35)과,
    상기 결함부(7a) 및 그 부근의 습도를 높이는 경우는, 상기 가습 유닛(26)과 상기 기판(5)의 사이로부터 벗어난 위치에 상기 차폐판(35)을 퇴피시키고, 상기 결함부(7a) 및 그 부근의 습도를 높일 필요가 없는 경우는, 상기 가습 유닛(26)과 상기 기판(5)의 사이에 상기 차폐판(35)을 삽입하는 제2의 구동 수단(25)을 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 수정 장치.
15. 기판(5)의 표면에 형성된 패턴(7)의 결함부(7a)에 수정액(2)의 액적(2a)을 토출하는 정전 흡인형의 잉크젯 노즐(1)을 구비한 패턴 수정 장치에 있어서, 상기 결함부(7a) 및 그 부근의 습도를 국부적으로 높여, 상기 결함부(7a) 및 그 부근의 정전기를 제거하는 가습 유닛(8, 26)으로서,
    상기 잉크젯 노즐(1)의 선단부가 삽입되는 관통구멍을 갖는 중공부재(9, 30, 31)와,
    상기 중공부재(9, 30, 31) 내에 마련되고, 가습용의 물의 흡수 및 방출이 가능한 물흡수부재(10, 32)를 포함하고,
    상기 물흡수부재(10, 32)로부터 방출된 상기 물의 증기는, 상기 관통구멍을 통하여 상기 결함부(7a) 및 그 부근에 공급되는 것을 특징으로 하는 가습 유닛.

Images