JP2007237046A - プライミング処理方法及びプライミング処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ハウジング190内には、プライミングローラ188の上端から下端まで正の回転方向(時計回り)に沿って向う途中にミスト遮蔽板202および洗浄部204が設けられている。さらに、プライミングローラ188からみてミスト遮蔽板202および洗浄部204とは反対側に、ミスト引き込み部222および乾燥部224が設けられている。ミスト引き込み部222および乾燥部224は、吸引口226、バキューム通路236およびバキューム管238を介してバキューム機構240に通じている。
【選択図】 図19
Description
75 ノズル昇降機構
76 ステージ
78 レジストノズル
78a 吐出口
84 基板搬送部
95 レジスト液供給機構
172 プライミング処理部
188 プライミングローラ
190 ハウジング
200 コントローラ
202 遮蔽板
204 洗浄部
206 2流体ジェットノズル
208 洗浄液供給部
210 ガス供給部
216 プライミング処理制御部
222 ミスト引きこみ部
224 乾燥部
226 排気口
228 湾曲カバー
230 ミスト引き込み用隙間
232 ブロック
234 液切り用隙間
236 排気路
238 排気管
240 排気機構
242 ドレイン口
Claims (21)
- スピンレス法の塗布処理に用いる長尺形ノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
1回のプライミング処理のために、前記ノズルの吐出口と円柱または円筒形のプライミングローラの上端とを所定のギャップを隔てて平行に対向させ、前記ノズルより所定の処理液を吐出させるとともに前記プライミングローラを所定の回転角だけ回転させて、前記プライミングローラの半周以下の部分的表面領域を当該プライミング処理に使用する第1の工程と、
連続した所定回数のプライミング処理が終了した後に前記プライミングローラの表面を全周に亘ってまとめて洗浄する第2の工程と
を有するプライミング処理方法。 - 前記第2の工程が、
前記プライミングローラを一定の回転速度で連続回転させながら前記プライミングローラの表面に所定位置で洗浄液を噴き付けると同時に別の所定位置で液切り用のエア流を当てる主洗浄工程と、
前記プライミングローラを一定の回転速度で連続回転させながら前記プライミングローラの表面に洗浄液を噴き付けずに所定位置で液切り用のエア流を当てる主乾燥工程と
を含む請求項1に記載のプライミング処理方法。 - 前記主洗浄工程においては、前記プライミングローラの表面に向けて洗浄液を気体と混合して高圧のジェット流で噴き付ける請求項2に記載のプライミング処理方法。
- 前記連続した所定回数のプライミング処理の中で少なくとも最初のプライミング処理については、そのプライミング処理に使用した前記プライミングローラの部分的表面領域を仮洗浄する第3の工程を有する請求項1〜3のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
- 前記第3の工程が、
前記プライミングローラを所定の回転角度だけ回転させながら前記プライミングローラの部分的表面領域に所定位置で洗浄液を噴き付ける仮洗浄工程と、
前記プライミングローラを所定の回転角度だけ逆回転させて前記ノズルに対する前記プライミングローラの部分的表面領域を前記仮洗浄工程の前の位置またはその付近の位置に戻す復帰工程と
を含む請求項4に記載のプライミング処理方法。 - 前記仮洗浄工程においては、前記プライミングローラの部分的表面領域に比較的低圧の洗浄液を吹きかける請求項5に記載のプライミング処理方法。
- スピンレス法の塗布処理に用いる長尺形ノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円柱または円筒形のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの表面に洗浄液を噴き付けるための洗浄部と、
前記プライミングローラの表面に液切り用のエア流を当てるための乾燥部と
を有し、
1回のプライミング処理のために、前記ノズルの吐出口とプライミングローラの上端とを所定のギャップを隔てて平行に対向させ、前記ノズルより所定の処理液を吐出させるとともに前記回転機構により前記プライミングローラを所定の回転角だけ回転させて、前記プライミングローラの半周以下の部分的表面領域を当該プライミング処理に使用し、連続した所定回数のプライミング処理が終了した後に前記回転機構により前記プライミングローラを連続回転させながら前記洗浄部と前記乾燥部とを作動させて前記プライミングローラの表面を全周に亘ってまとめて洗浄するプライミング処理装置。 - 前記洗浄部が、洗浄液と気体とを混合してジェット流で噴出する2流体ジェットノズルを有する請求項7に記載のプライミング処理装置。
- 前記洗浄部が、前記2流体ジェットノズルにおける洗浄液の圧力と気体の圧力の比を可変制御するための2流体圧力制御部を有する請求項8に記載のプライミング処理装置。
- 前記洗浄部が、前記プライミングローラの上端から下端まで回転方向に沿って向う途中に配置される請求項7〜9のいずれか一項に記載のプライミング処理装置。
- 前記乾燥部が、前記プライミングローラの表面との間に第1の隙間を形成する第1の隙間形成部と、前記第1の隙間内に前記プライミングローラの回転方向と反対の向きで前記液切り用のエア流を形成する第1のエア流形成部とを有する請求項7〜10のいずれか一項に記載のプライミング処理装置。
- 前記第1の隙間形成部において、前記第1の隙間が前記プライミングローラの回転方向に沿って延在し、前記第1のエア流形成部が前記第1の隙間の上流側端部に接続された第1のバキューム機構を有する請求項11に記載のプライミング処理装置。
- 前記第1の隙間の下流側端部が大気空間に開放されている請求項12に記載のプライミング処理装置。
- 前記乾燥部が、前記プライミングローラの下端から上端まで回転方向に沿って向う途中に配置される請求項7〜13のいずれか一項に記載のプライミング処理装置。
- 前記洗浄部付近で発生する洗浄液のミストが前記プライミングローラの上端側へ飛散するのを阻止するために、前記プライミングローラの回転方向に沿って前記洗浄部よりも上流側に配置されるミスト遮蔽部を有する請求項7〜14のいずれか一項に記載のプライミング処理装置。
- 前記洗浄部付近で発生する洗浄液のミストを前記プライミングローラの回転方向に沿って前記洗浄部よりも下流側に引き込むためのミスト引き込み部を有する請求項7〜15のいずれか一項に記載のプライミング処理装置。
- 前記ミスト引き込み部が、前記プライミングローラの回転方向に沿って前記洗浄部と前記乾燥部との間に配置される請求項16に記載のプライミング処理装置。
- 前記ミスト引き込み部が、前記プライミングローラの表面との間に第2の隙間を形成する第2の隙間形成部と、前記第2の隙間内に前記プライミングローラの回転方向と同じ向きでミスト引き込み用のエア流を形成する第2のエア流形成部とを有する請求項17に記載のプライミング処理装置。
- 前記第2の隙間形成部において、前記第2の隙間が前記プライミングローラの回転方向に沿って延在し、前記第2のエア流形成部が前記第2の隙間の下流側端部に接続された第2のバキューム機構を有する請求項18に記載のプライミング処理装置。
- 前記第2のバキューム機構が前記第1のバキューム機構を兼用し、前記第2の隙間が前記第2のバキューム機構を介して前記第1の隙間に連結される請求項19に記載のプライミング処理装置。
- 前記プライミングローラの下に落ちる使用済みの洗浄液を受け集めて排出するための排液部を有する請求項7〜20のいずれか一項に記載のプライミング処理装置。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101905209A (zh) * | 2009-06-05 | 2010-12-08 | 东京毅力科创株式会社 | 启动加注处理方法和启动加注处理装置 |
CN101927231A (zh) * | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 东京毅力科创株式会社 | 启动加注处理方法以及启动加注处理装置 |
CN102039254A (zh) * | 2009-10-22 | 2011-05-04 | 东京毅力科创株式会社 | 启动加注处理方法和启动加注处理装置 |
JP2012030202A (ja) * | 2010-08-03 | 2012-02-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置およびノズルのプライミング処理方法 |
JP2012030191A (ja) * | 2010-08-02 | 2012-02-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置及びノズルのプライミング処理方法 |
JP2012061466A (ja) * | 2011-11-01 | 2012-03-29 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
JP2012066244A (ja) * | 2011-10-27 | 2012-04-05 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
JP2012101219A (ja) * | 2011-12-01 | 2012-05-31 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
JP2013056340A (ja) * | 2012-11-02 | 2013-03-28 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
JP2017170445A (ja) * | 2017-06-22 | 2017-09-28 | 株式会社Screenホールディングス | ノズル洗浄装置、塗布装置、ノズル洗浄方法、および塗布方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102250362B1 (ko) * | 2014-07-08 | 2021-05-12 | 세메스 주식회사 | 예비 토출 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001310147A (ja) * | 2000-05-02 | 2001-11-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | スリットコータの予備吐出装置および予備吐出方法 |
JP2002045760A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗布装置および塗布方法 |
JP2004121980A (ja) * | 2002-10-02 | 2004-04-22 | Toppan Printing Co Ltd | 予備吐出装置および方法 |
JP2005161249A (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-23 | Hirata Corp | 流体塗布装置及び流体塗布制御方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100987676B1 (ko) * | 2003-12-08 | 2010-10-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 노즐 세정장치 |
JP4409930B2 (ja) * | 2003-12-22 | 2010-02-03 | 株式会社ヒラノテクシード | 塗工ノズル清浄装置 |
-
2006
- 2006-03-07 JP JP2006061157A patent/JP4676359B2/ja active Active
-
2007
- 2007-03-07 KR KR1020070022338A patent/KR101351684B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001310147A (ja) * | 2000-05-02 | 2001-11-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | スリットコータの予備吐出装置および予備吐出方法 |
JP2002045760A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗布装置および塗布方法 |
JP2004121980A (ja) * | 2002-10-02 | 2004-04-22 | Toppan Printing Co Ltd | 予備吐出装置および方法 |
JP2005161249A (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-23 | Hirata Corp | 流体塗布装置及び流体塗布制御方法 |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010279907A (ja) * | 2009-06-05 | 2010-12-16 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
CN101905209A (zh) * | 2009-06-05 | 2010-12-08 | 东京毅力科创株式会社 | 启动加注处理方法和启动加注处理装置 |
KR101518522B1 (ko) | 2009-06-05 | 2015-05-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 프라이밍 처리 방법 및 프라이밍 처리 장치 |
TWI478774B (zh) * | 2009-06-05 | 2015-04-01 | Tokyo Electron Ltd | 預塗處理方法及預塗處理裝置 |
CN101927231B (zh) * | 2009-06-26 | 2014-05-07 | 东京毅力科创株式会社 | 启动加注处理方法以及启动加注处理装置 |
CN101927231A (zh) * | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 东京毅力科创株式会社 | 启动加注处理方法以及启动加注处理装置 |
JP2011005432A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
KR101621566B1 (ko) * | 2009-06-26 | 2016-05-16 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 프라이밍 처리 방법 및 프라이밍 처리 장치 |
TWI478775B (zh) * | 2009-06-26 | 2015-04-01 | Tokyo Electron Ltd | 預塗處理方法及預塗處理裝置 |
JP2011088068A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
CN102039254B (zh) * | 2009-10-22 | 2014-07-23 | 东京毅力科创株式会社 | 启动加注处理方法和启动加注处理装置 |
TWI496628B (zh) * | 2009-10-22 | 2015-08-21 | Tokyo Electron Ltd | 預塗處理方法及預塗處理裝置 |
KR101552364B1 (ko) | 2009-10-22 | 2015-09-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 프라이밍 처리 방법 및 프라이밍 처리 장치 |
CN102039254A (zh) * | 2009-10-22 | 2011-05-04 | 东京毅力科创株式会社 | 启动加注处理方法和启动加注处理装置 |
JP2012030191A (ja) * | 2010-08-02 | 2012-02-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置及びノズルのプライミング処理方法 |
KR20120015424A (ko) | 2010-08-03 | 2012-02-21 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 액처리 장치 및 노즐의 프라이밍 처리 방법 |
JP2012030202A (ja) * | 2010-08-03 | 2012-02-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置およびノズルのプライミング処理方法 |
JP2012066244A (ja) * | 2011-10-27 | 2012-04-05 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
JP2012061466A (ja) * | 2011-11-01 | 2012-03-29 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
JP2012101219A (ja) * | 2011-12-01 | 2012-05-31 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
JP2013056340A (ja) * | 2012-11-02 | 2013-03-28 | Tokyo Electron Ltd | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
JP2017170445A (ja) * | 2017-06-22 | 2017-09-28 | 株式会社Screenホールディングス | ノズル洗浄装置、塗布装置、ノズル洗浄方法、および塗布方法 |
Also Published As
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