JP2007007639A - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 この面状塗布ユニット(ACT)40では、ステージ80上に基板Gを載置して、レジスト液供給機構86およびノズル移動機構88を動作させると、長尺ノズル82の塗布走査により基板G上に基板の一端から他端に向ってレジスト液の面状塗布膜100が形成されていく。その際、面状レジスト塗布膜100が基板Gの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜76と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜76によって面状レジスト塗布膜100の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。
【選択図】 図9
Description
51 ライン状塗布ユニット(LCT)
62 ステージ
64 インクジェット式レジストノズル(インクジェットノズル)
68 Yガイドレール
70 Xガイドレール
72 Y方向駆動部
74 キャリッジ
76 ライン状レジスト塗布膜
80 ステージ
82 長尺型レジストノズル(長尺ノズル)
84 塗布処理部
86 レジスト液供給機構
88 ノズル移動機構
100 面状レジスト塗布膜
102 温風ヒータ
110 先行レジスト塗布膜
112 面状レジスト塗布膜
114 合成レジスト塗布膜
G ガラス基板(被処理基板)
RE 塗布領域
Claims (20)
- 被処理基板上に設定された塗布領域についてその周縁部の一部または全部に処理液を塗布してライン状の塗布膜を形成するライン状塗布工程と、
前記基板上の前記塗布領域に処理液を塗布して面状の塗布膜を形成する面状塗布工程と
を有する塗布方法。 - 前記面状塗布工程において前記基板上に塗布された処理液の広がりが前記ライン状の塗布膜によって阻止されるように、前記ライン状塗布工程において前記ライン状塗布膜のプロファイルが選定される請求項1に記載の塗布方法。
- 前記面状塗布工程において前記基板上に塗布された処理液が前記ライン状の塗布膜との付着による引力によって前記塗布領域の周辺側へ広がるように、前記ライン状塗布工程において前記ライン状塗布膜のプロファイルが選定される請求項1に記載の塗布方法。
- 前記ライン状塗布工程が、処理液を線状に吐出する第1のノズルを前記基板に対して相対的に移動させる工程を含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の塗布方法。
- 前記面状塗布工程が、処理液を帯状に吐出する第2のノズルを前記基板に対して相対的に移動させる工程を含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の塗布方法。
- 前記第2のノズルがスリット状の吐出口を有する長尺型のノズルであり、前記面状塗布工程において前記長尺型ノズルを前記基板と平行でかつノズル長手方向とほぼ直交する方向に相対移動させる請求項5に記載の塗布方法。
- 前記面状塗布工程の開始時に前記第2のノズルより前記基板上に塗布された処理液が前記ライン状の塗布膜と付着して前記ギャップを塞ぐように、前記ライン状塗布膜のプロファイルが選定される請求項6に記載の塗布方法。
- 前記ライン状塗布膜のプロファイルは、その塗布膜の膜厚、ライン幅および基板上の位置の中の少なくとも1つを含む請求項2〜7のいずれか一項に記載の塗布方法。
- 前記ライン状塗布工程によって形成されたライン状塗布膜を前記面状塗布工程の前に加熱して乾燥させる請求項1〜8のいずれか一項に記載の塗布方法。
- 被処理基板上に設定された塗布領域についてその周縁部の一部または全部に処理液を塗布してライン状の塗布膜を形成するライン状塗布処理部と、
前記基板上の前記塗布領域に処理液を塗布して面状の塗布膜を形成する面状塗布処理部と
を有する塗布装置。 - 前記ライン状塗布処理部が、
ほぼ水平状態の前記基板に向けて上方から処理液を線状に吐出する第1のノズルと、
前記第1のノズルより前記基板上に吐出された処理液で前記ライン状塗布膜が形成されるように、前記第1のノズルを前記基板に対して相対的に移動させる第1の塗布走査部と
を有する請求項10に記載の塗布装置。 - 前記第1のノズルが、電気的な駆動信号に応じてノズル内の処理液を加圧し液滴として噴射するジェット方式のノズルからなる請求項11に記載の塗布装置。
- 前記面状塗布処理部が、
ほぼ水平状態の前記基板に向けて上方から処理液を帯状に吐出する第2のノズルと、
前記第2のノズルより前記基板上に吐出された処理液で前記塗布領域が一面に塗布されるように、前記第2のノズルを前記基板に対して相対的に移動させる第2の塗布走査部と
を有する請求項10〜12のいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記第2のノズルが、一方向において前記塗布領域の一端から他端までカバーする長さのスリット状の吐出口を有する長尺型のノズルからなる請求項13に記載の塗布装置。
- 前記ライン状塗布処理部および前記面状塗布処理部が前記基板を水平状態に支持するためのそれぞれ独立した支持部を有する請求項13または請求項14に記載の塗布装置。
- 前記ライン状塗布処理部および前記面状塗布処理部が前記基板を水平状態に支持するための共通の支持部を有する請求項13または請求項14に記載の塗布装置。
- 前記ライン状塗布処理部により前記基板上に形成された前記ライン状塗布膜を加熱して乾燥させる乾燥手段を有する請求項10〜16のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 被処理基板と長尺形ノズルの吐出口とを微小なギャップを隔ててほぼ水平に対向させ、前記基板に対して前記ノズルより処理液を吐出させながら前記ノズルを相対的に水平方向で移動させる塗布走査を行って、前記基板上に前記処理液の面状塗布膜を形成する塗布方法であって、
前記基板上の前記塗布走査が終了する位置付近に、前記塗布走査に先立って前記処理液からなる先行の塗布膜を所望のパターンで形成し、
前記塗布走査によって前記基板上に形成される面状塗布膜の終端に前記先行塗布膜が合わさって、前記先行塗布膜が前記面状塗布膜の拡張部分となるようにする塗布方法。 - 前記基板は矩形であり、前記先行塗布膜は前記基板上の塗布走査が終了する側の角隅部に形成される請求項18に記載の塗布方法。
- 被処理基板と長尺形ノズルの吐出口とを微小なギャップを隔ててほぼ水平に対向させ、前記基板に対して前記ノズルより処理液を吐出させながら前記ノズルを相対的に水平方向で移動させる塗布走査を行って、前記基板上に前記処理液の面状塗布膜を形成する面状塗布処理部と、
前記基板上の前記塗布走査が終了する位置付近に、前記面状塗布処理部の前記塗布走査に先立って前記処理液からなる先行の塗布膜を所望のパターンで形成する先行塗布膜形成部と
を有し、前記面状塗布処理部の塗布走査により前記基板上に形成される面状塗布膜の終端に前記先行塗布膜が合わさって、前記先行塗布膜が前記面状塗布膜の拡張部分となるようにする塗布装置。
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