JP2007227649A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】トレンチ形成前に、トレンチ開口部の形成領域にイオン注入領域を形成する。これにより、トレンチ開口部のシリコンがダメージを受け、トレンチ形成後のダミー酸化工程において増速酸化する。つまり、ダミー酸化膜を除去後には、トレンチ開口部がラウンド形状となり、角部が形成されない。また、これらは異方性エッチングで実現できる。従って、プロセスの複雑化を回避し、トレンチ開口部を制御よくラウンド形状にすることができる。
【選択図】 図6
Description
2 n−型エピタキシャル層(ドレイン領域)
3 チャネル層
4 酸化膜
5 開口部
6 イオン注入領域
7 NSG膜
7a サイドウォール
8 トレンチ
8a トレンチ開口部
9 ダミー酸化膜
11 ゲート酸化膜
13 ゲート電極
14 ボディ領域
15 ソース領域
16 層間絶縁膜
17 ソース電極
21 n+半導体基板
22 n−型エピタキシャル層(ドレイン領域)
24 チャネル層
27 トレンチ
31 ゲート酸化膜
33 ゲート電極
34 ボディ領域
35 ソース領域
36 層間絶縁膜
38 金属配線層
Claims (9)
- ドレイン領域となる一導電型の半導体層表面に逆導電型のチャネル層を形成し、該チャネル層表面に選択的にイオン注入領域を形成する工程と、
前記イオン注入領域の中央付近に前記チャネル層を貫通し前記半導体層に達するトレンチを形成する工程と、
少なくとも前記トレンチ内壁を被覆する絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜を除去し、前記トレンチの内部の幅より幅広のトレンチ開口部を形成する工程と、
前記トレンチ内にゲート絶縁膜を介してゲート電極を埋設する工程と、
前記トレンチ周囲の前記チャネル層表面に一導電型のソース領域を形成する工程と、
を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記絶縁膜の形成工程において、前記イオン注入領域が増速酸化されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- ドレイン領域となる一導電型の半導体層表面に逆導電型のチャネル層を形成し、該チャネル層表面に選択的に開口部を有する第1絶縁膜を形成する工程と、
前記開口部から露出した前記チャネル層の表面にイオン注入領域を形成する工程と、
前記開口部から露出した前記チャネル層をエッチングし、前記半導体層に達し前記開口部より幅狭のトレンチを形成する工程と、
少なくとも前記トレンチ内壁を被覆する第2絶縁膜を形成する工程と、
前記第2絶縁膜を除去し、前記トレンチの内部の幅より幅広のトレンチ開口部を形成する工程と、
前記トレンチ内にゲート絶縁膜を介してゲート電極を埋設する工程と、
前記トレンチ周囲の前記チャネル層表面に一導電型のソース領域を形成する工程と、
を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記開口部の側壁にサイドウォールを形成し、該サイドウォールをマスクとして前記トレンチを形成することを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2絶縁膜は前記第1絶縁膜および前記サイドウォールの表面を被覆して形成され、前記第2絶縁膜を除去する工程において前記第1絶縁膜および前記サイドウォールが除去されることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記イオン注入領域は、前記開口部と同程度の大きさに形成されることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- ドレイン領域となる一導電型の半導体層表面に逆導電型のチャネル層を形成し、該チャネル層表面に選択的に開口部を有する第1絶縁膜を形成する工程と、
前記開口部から露出した前記チャネル層の表面に前記開口部より大きいイオン注入領域を形成する工程と、
前記第1絶縁膜をマスクとして前記チャネル層をエッチングし、前記半導体層に達するトレンチを形成する工程と、
少なくとも前記トレンチ内壁を被覆する第2絶縁膜を形成する工程と、
前記第2絶縁膜を除去し、前記トレンチの内部の幅より幅広のトレンチ開口部を形成する工程と、
前記トレンチ内にゲート絶縁膜を介してゲート電極を埋設する工程と、
前記トレンチ周囲の前記チャネル層表面に一導電型のソース領域を形成する工程と、
を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記イオン注入領域は、入射軸が前記半導体層表面に対する垂線から傾いたイオンビームにより形成されることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2絶縁膜の形成工程において前記イオン注入領域が増速酸化されることを特徴とする請求項3または請求項7に記載の半導体装置の製造方法。
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JP2006047055A JP2007227649A (ja) | 2006-02-23 | 2006-02-23 | 半導体装置の製造方法 |
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- 2006-02-23 JP JP2006047055A patent/JP2007227649A/ja active Pending
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