JP2007216349A - ステージ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】本発明はワークの大型化に対応させて吸着盤を大型化すると共に平面精度を維持しつつ吸着盤をステージと共に円滑に移動させることを課題とする。
【解決手段】ステージ装置10は、石定盤20と、石定盤20の平面上を移動するステージ30と、ステージ30上に載置され、平板状のワークを吸着する吸着盤40と、ステージ30をY方向に移動させる一対のYリニアモータ50とを有する。吸着盤40は、四角形状の吸着面42を有し、吸着面42のX,Y方向の4辺がXステージ38よりも大きい寸法に形成され、且つX方向の幅寸法が石定盤20より小さい寸法に形成されている。さらに、吸着盤40の下面より垂下方向に延在する4本の支柱60と、各支柱60の下端に設けられ、石定盤20の平面上を空気圧により浮上して移動可能なエアパッド70とを有する。吸着盤40は、支柱60及びエアパッド70が直接支持されて石定盤20上を移動する。
【選択図】図1

Description

本発明はステージ装置に係り、特にステージに搭載された吸着盤の吸着面積をワークの大型化に対応させるよう構成されたステージ装置に関する。
例えば、ステージ装置では、Y方向に移動するYステージと、X方向に移動するXステージとを有し、Yステージが石定盤上に固定された一対のY方向ガイドレールに沿って移動方向をガイドされ、XステージがYステージに搭載されたX方向ガイドレールに沿って移動方向をガイドされる(例えば、特許文献1参照)。
このようなステージ装置では、上記石定盤上に固定された石材からなるガイドレールに対してステージの両端に結合されたスライダが浮上した状態で移動するように構成されている。
さらに、Xステージ及びYステージの下面には、空気圧により浮上させることで定盤上を非接触で移動可能なエアパッドが設けられている。そして、Xステージの上面には、基板等の平板状ワークを吸着する吸着盤が搭載される。
特開2004−317485号公報
しかしながら、ステージ装置においては、例えば、平板状ワークが大型化された場合には、ワークを吸着する吸着盤の吸着面積を大きくしなければならず、これにより、吸着盤を支持するXステージ及び石定盤も大型化することになり、ひいては装置全体が大型化してしまうという問題があった。
さらに、装置全体の大型化が進むと、石材の確保、及び石材加工の困難性、さらには重量増大による輸送の困難性などの問題が生じる。
そこで、本発明は上記事情に鑑み、上記課題を解決したステージ装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明は以下のような手段を有する。
本発明は、石定盤の平面上を移動するステージと、該ステージ上に載置され、平板状のワークを吸着する吸着盤と、前記ステージを移動させるリニアモータとを有するステージ装置において、前記吸着盤の下面より垂下方向に延在する複数の支柱と、該各支柱の下端に設けられ、前記石定盤の平面上を空気圧により浮上して移動可能な第1のエアパッドと、を備えたことを特徴とする。
また、本発明は、前記ステージと前記吸着盤との間に、前記吸着盤を旋回させるテーブルを設け、該テーブルの上面と前記吸着盤の下面との間を環状に形成された板ばねを介して結合したことを特徴とする。
また、前記石定盤は、前記ステージの移動方向に沿う平行な2部材に分割された石定盤半体からなり、一対の石定盤半体が同一の架台により支持されることを特徴とする。
また、前記架台は、前記一対の石定盤半体を同一高さ位置に支持する複数の梁と、前記一対の石定盤半体の外側面に当接して前記一対の石定盤半体の延在方向が平行になるように取付位置を位置決めする位置決め部材と、前記梁を支持する複数の脚部と、を有することを特徴とする。
また、前記吸着盤は、四角形状の吸着面を有し、前記吸着面の4辺が前記ステージよりも大きい寸法に形成され、且つ前記石定盤より小さい寸法に形成されたことを特徴とする。
また、前記ステージは、前記石定盤の平面上に突出し、前記移動方向に延在する一対のガイドに沿って平行移動する一対のスライダと、前記石定盤の平面上を空気圧により浮上して移動可能な第2のエアパッドと、を有することを特徴とする。
また、前記ステージは、前記石定盤の延在方向と平行なY方向に移動するYステージと、前記Y方向と直交するX方向に移動するXステージと、を有することを特徴とする。
本発明によれば、吸着盤の下面より垂下方向に延在する複数の支柱を設け、各支柱の下端に石定盤の平面上を空気圧により浮上して移動可能な第1のエアパッドを設けたため、ワークの大きさに対応するように吸着盤をステージよりも大型化しても吸着盤の平面精度を維持しつつ吸着盤をステージと共に円滑に移動させることができる。
さらに、吸着盤をステージよりも大きくすることが可能になるため、相対的にステージの小型化及び省スペース化を図ることができ、その分ステージの移動範囲を縮小して装置全体のコンパクト化に寄与することができる。
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。
図1は本発明によるステージ装置の一実施例を示す斜視図である。図2は図1に示すステージ装置の正面図である。図3は図1に示すステージ装置の平面図である。
図1乃至図3に示されるように、ステージ装置10は、石定盤20と、石定盤20の平面上を移動するステージ30と、ステージ30上に載置され、平板状のワーク(図示せず)を吸着する吸着盤40と、ステージ30をY方向に移動させる一対のYリニアモータ50とを有する。
石定盤20は、ステージ30の移動方向(Y方向)に沿う平行な2部材に分割された石定盤半体22,24からなり、一対の石定盤半体22,24が同一の架台100により支持されている。一対の石定盤半体22,24の間には、Y方向に延在する間隙26が形成されている。この間隙26は、後述するエアパッドが通過しない不使用領域に形成されている。
尚、この間隙26の寸法Lは、石定盤半体22,24の離間寸法であり、例えば、吸着盤40に吸着されるワークがガラス基板などからなる場合には、ガラス基板の大型化に応じて設定される。そのため、吸着盤40の吸着面積をワークサイズに応じて大きくする場合でも、石定盤半体22,24に離間距離である間隙26を大きくすることによりX方向の寸法拡大に対応することができる。また、石定盤半体22,24は、同一形状のものを左右対称となるように配置したものであるので、装置全体が大型化した場合でも共通化を図ることが可能になる。
ステージ30は、石定盤20の平面上に突出し、移動方向(Y方向)に延在する一対のガイド28に沿って平行移動する一対のスライダ32と、石定盤20の平面上を空気圧により浮上して移動可能なエアパッド(第2のエアパッド)34とを有する。
ステージ30は、石定盤20の延在方向と平行なY方向に移動するYステージ36と、Y方向と直交するX方向に移動するXステージ38とを有する。Yステージ36は、Xステージ38の内部に挿通されてX方向に延在しており、その両端にはスライダ32が結合されたH字状に形成されている。また、Xステージ38は、下面の四隅にエアパッド34が設けられており、石定盤20の平面上をYステージ36と共にY方向に移動し、且つYステージ36に沿ってX方向に移動可能に設けられている。
また、上記エアパッド34に代えてXステージ38と石定盤半体22,24とをリニアガイドでガイドして移動可能な構成としても良いのは勿論である。
吸着盤40は、四角形状の吸着面42を有し、吸着面42のX,Y方向の4辺がXステージ38よりも大きい寸法に形成され、且つX方向の幅寸法が石定盤20より小さい寸法に形成されている。また、吸着面42には、例えば、液晶ディスプレイ用のガラス基板(図示せず)を真空吸着するための吸着孔(図示せず)が多数設けられている。
さらに、吸着盤40は、吸着面42がXステージ38よりも広い面積を有する寸法に形成されているので、吸着面42に吸着されるワークサイズがステージ30によって制限されず、石定盤20のX,Y方向の寸法に応じた寸法のものまで搬送可能サイズを拡大することが可能になる。
一対のYリニアモータ50は、石定盤20の左右外側に並設されており、Y方向に延在形成されたマグネットヨーク(固定子)52と、スライダ32の外側面よりX方向に延在するコイルユニット(可動子)54とから構成されている。マグネットヨーク52は、正面からみるとコ字状に形成されており、内壁の上下面に複数の永久磁石が並設されている。また、マグネットヨーク52は、支持部材56によりスライダ32が移動する高さ位置に支持されている。
そして、コイルユニット54は、複数のコイルがY方向に連結されており、マグネットヨーク52の磁石間に側方から挿入されている。そのため、コイルユニット54は、コイルに通電されると、永久磁石に対する磁束を形成して、永久磁石に対するY方向の推力を得ることができる。また、コイルユニット54は、スライダ32の側面に結合されている。そのため、コイルユニット54が得たY方向推力は、スライダ32に付与され、Yステージ36を駆動する。
さらに、ステージ装置10では、吸着盤40の下面より垂下方向に延在する4本の支柱60と、各支柱60の下端に設けられ、石定盤20の平面上を空気圧により浮上して移動可能なエアパッド(第1のエアパッド)70とを備えた構成になっている。そのため、支柱60及びエアパッド70は、吸着盤40を直接支持しながら石定盤20上を移動することができる。よって、吸着盤40は、Xステージ38よりも大きい面積を有するにも拘わらず、Xステージ38の輪郭よりも外側に配置された4本の支柱60及び4個のエアパッド70により石定盤半体22,24の各上面を低摩擦で移動することができると共に、吸着面42の平面精度を維持したままステージ30と共に移動することができる。
また、ステージ30は、Xステージ38の下面に配置された4個のエアパッド34からの空気圧により石定盤半体22,24の各上面を浮上して移動可能に支持されている。そのため、Xステージ38と吸着盤40とが互いに干渉せずに移動することができ、吸着盤40は吸着面42の平面精度を維持した状態のままXステージ38と共に一体に移動することができる。さらに、エアパッド34,70は、空気圧により石定盤20の平面に対して浮上するため、非接触で移動することができ、Xステージ38及び吸着盤40を移動させる際の摩擦が極めて小さくなっており、その分移動時の推力も小さくて済む。
架台100は、一対の石定盤半体22,24を同一高さ位置に支持する複数の梁102と、一対の石定盤半体22,24の外側面に当接して一対の石定盤半体22,24の延在方向が平行になるように取付位置を位置決めする位置決め部材104と、梁102を支持する複数の脚部106とを有する。尚、架台100は、鉄材を格子状に組み合わせて溶接により接合させた構成であり、石定盤半体22,24及びステージ30、吸着盤40を支持するのに必要な剛性を有している。
また、上記位置決め部材104は、石定盤半体22,24の両側から架台100に対する取付位置を位置決めする金属ブロックなどからなり、例えば、梁102の上面に固定される固定部にX方向に移動可能に組み合わされた調整部を有する構成であり、石定盤半体22,24のX方向位置を微調整することができる。この位置決め部材104は、少なくとも石定盤半体22,24の両側の長手方向の両端及び長手方向中央部分に当接する位置に配置されており、石定盤半体22,24がそれぞれY方向に平行となる向きに位置決めすることができる。
図4はステージ30及び吸着盤40を側方からみた側断面図である。図4に示されるように、ステージ30と吸着盤40との間には、吸着盤40を旋回させるθテーブル80が設けられており、θテーブル80の上面と吸着盤40の下面との間は、リング状に形成された環状板ばね110を介して結合されている。
環状板ばね110は、上方からみるとリング状に形成されており、内周縁がθテーブル80の上面に突出する内周締結部82に締結されている。また、環状板ばね110の外周縁は、吸着盤40の下面に突出する外周締結部84に締結されている。このように、環状板ばね110の内周及び外周は、環状に形成された内周締結部82、外周締結部84に挟持されているため、ステージ30に伝達された推力は、内周締結部82、環状板ばね110、外周締結部84を介して吸着盤40に伝達される。
環状板ばね110は、ばね材料に使用されるばね鋼により形成されており、半径方向への荷重に対して高い剛性を発揮するが、軸方向(上下方向)に対しては弾性変形を行なうことができるように取り付けられている。従って、ステージ30に水平方向(X,Y方向)の推力が付与された場合には、環状板ばね110が変形せずにステージ30と吸着盤40との間を機械的に結合してステージ30と吸着盤40とが一体的に移動する。
また、ステージ30と吸着盤40との間で軸方向(上下方向)の相対的な変位が生じると、環状板ばね110は内周と外周とが軸方向(上下方向)に変位するように弾性変形する。これにより、上下方向の振動を環状板ばね110の弾性変形によって吸収することができ、吸着盤40の移動がスムーズに行なえる。そのため、環状板ばね110は、ステージ30から入力された上下方向の振動を吸収して吸着盤40に上下方向の振動が伝播することを防止する。
Xステージ38の内部には、Yステージ36が挿通される空間120が形成されており、この空間120には、Xステージ38をX方向に駆動するXリニアモータ124が設けられている。Yステージ36は、両端にスライダ32が設けられ、ガイド28に沿ってガイドされて移動するため、Xステージ38の内壁と非接触で移動する。
また、Yステージ36は、Xステージ38の内壁に対向するエアパッド122を支持する垂直部36aと、Xリニアモータ124が取り付けられた平面部36bとを有する。エアパッド122は、空間120のY方向の内壁に空気圧を介して対向するため、Xステージ38をX方向に移動させる際には、空間120の内壁がエアパッド122に非接触で移動することができる。また、Yステージ36をY方向に移動させるときは、エアパッド122からの空気圧を介して空間120のY方向内壁を移動方向に押圧されてXステージ38をY方向に移動させるように構成されている。
Xリニアモータ124は、X方向に延在形成されたマグネットヨーク(固定子)126と、コイルユニット(可動子)128とから構成されている。マグネットヨーク126は、側面からみるとコ字状に形成されており、内壁の上下面に複数の永久磁石が並設されている。また、マグネットヨーク126は、Yステージ36の平面部36bに固定されており、コイルユニット128は、Xステージ38の内壁に固定されたブラケット130に支持されている。
そして、コイルユニット128は、複数のコイルがX方向に配設されており、マグネットヨーク126の磁石間に前方から挿入されている。そのため、コイルユニット128は、コイルに通電されると、磁束を形成して、永久磁石に対するX方向の推力を得ることができる。また、コイルユニット128は、ブラケット130を介してXステージ38に結合されているため、コイルユニット128が得たX方向推力は、Xステージ38に付与される。
従って、Xステージ38は、Xリニアモータ124からの推力によりX方向に駆動される。そして、Xステージ38上に搭載された吸着盤42は、Xリニアモータ124のX方向推力がθテーブル80及び環状板ばね110を介して伝達されるため、Xステージ38と共にX方向に移動する。
また、吸着盤42を支持する支柱60には、高さ調整を行なえるレべリング機構62が設けられている。このレべリング機構62は、4本の支柱60の夫々に設けられており、吸着盤42の水平精度を維持するように個別に高さ調整が行なわれる。
尚、レべリング機構62の高さ調整により吸着盤42とXステージ38との高さ方向距離が変化した場合には、上記環状板ばね110が上下方向に弾性変形して高さ方向の相対的な変位を吸収する。そのため、吸着盤42の高さ位置がずれたときでも吸着盤42とXステージ38とは、上記環状板ばね110の作用により一体的に動作するように構成されている。
上記実施例では、石定盤を2分割した構成を一例として挙げたが、これに限らず、一枚の石定盤上を吸着盤が移動するように構成しても良い。
本発明によるステージ装置の一実施例を示す斜視図である。 図1に示すステージ装置の正面図である。 図1に示すステージ装置の平面図である。 ステージ30及び吸着盤40を側方からみた側断面図である。
符号の説明
10 ステージ装置
20 石定盤
22,24 石定盤半体
28 ガイド
30 ステージ
32 スライダ
34,70,122 エアパッド
36 Yステージ
38 Xステージ
40 吸着盤
42 吸着面
50 Yリニアモータ
52 マグネットヨーク
54 コイルユニット
60 支柱
62 レべリング機構
80 θテーブル
100 架台
110 環状板ばね
122 Xガイドレール
124 Xリニアモータ
126 マグネットヨーク
128 コイルユニット

Claims (7)

  1. 石定盤の平面上を移動するステージと、
    該ステージ上に載置され、平板状のワークを吸着する吸着盤と、
    前記ステージを移動させるリニアモータとを有するステージ装置において、
    前記吸着盤の下面より垂下方向に延在する複数の支柱と、
    該各支柱の下端に設けられ、前記石定盤の平面上を空気圧により浮上して移動可能な第1のエアパッドと、
    を備えたことを特徴とするステージ装置。
  2. 前記ステージと前記吸着盤との間に、前記吸着盤を旋回させるテーブルを設け、
    該テーブルの上面と前記吸着盤の下面との間を環状に形成された板ばねを介して結合したことを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
  3. 前記石定盤は、前記ステージの移動方向に沿う平行な2部材に分割された石定盤半体からなり、一対の石定盤半体が同一の架台により支持されることを特徴とする請求項1または2に記載のステージ装置。
  4. 前記架台は、
    前記一対の石定盤半体を同一高さ位置に支持する複数の梁と、
    前記一対の石定盤半体の外側面に当接して前記一対の石定盤半体の延在方向が平行になるように取付位置を位置決めする位置決め部材と、
    前記梁を支持する複数の脚部と、
    を有することを特徴とする請求項3に記載のステージ装置。
  5. 前記吸着盤は、四角形状の吸着面を有し、前記吸着面の4辺が前記ステージよりも大きい寸法に形成され、且つ前記石定盤より小さい寸法に形成されたことを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載のステージ装置。
  6. 前記ステージは、
    前記石定盤の平面上に突出し、前記移動方向に延在する一対のガイドに沿って平行移動する一対のスライダと、
    前記石定盤の平面上を空気圧により浮上して移動可能な第2のエアパッドと、
    を有することを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載のステージ装置。
  7. 前記ステージは、
    前記石定盤の延在方向と平行なY方向に移動するYステージと、
    前記Y方向と直交するX方向に移動するXステージと、
    を有することを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載のステージ装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009241192A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd Xyステージ装置
JP2009241193A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd Xyステージ装置
JP2010105075A (ja) * 2008-10-28 2010-05-13 Toyota Boshoku Corp 加工装置
WO2011009135A2 (en) * 2009-07-17 2011-01-20 Samac Robert A Automated, adjustable, machine-tool work-piece-mounting apparatus
CN101417393B (zh) * 2008-11-21 2011-05-04 深圳市大族激光科技股份有限公司 气脚支撑工作台的设计方法
JP2013183153A (ja) * 2012-03-05 2013-09-12 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
JP2016211621A (ja) * 2015-04-30 2016-12-15 Toto株式会社 エアステージ装置

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100885283B1 (ko) 2007-08-02 2009-02-23 세메스 주식회사 반도체 소자 제조용 진공척
US20120064460A1 (en) * 2010-09-07 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
JP5776812B1 (ja) * 2014-04-01 2015-09-09 日本精工株式会社 テーブル装置、及び搬送装置
CN104019332B (zh) * 2014-05-30 2015-12-02 西安交通大学 一种超长行程高加速高精密定位一维平台
CN104440344B (zh) * 2014-11-26 2017-05-10 广东工业大学 直线电机共定子多驱动宏微一体化高速精密运动二维平台
US10884022B2 (en) * 2017-01-10 2021-01-05 Osaka University Scanner and scanning probe microscope
CN112551072A (zh) * 2020-12-03 2021-03-26 南通固邦数控机床有限公司 一种油气混合悬浮支撑装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02157687A (ja) * 1988-12-09 1990-06-18 Tokyo Koku Keiki Kk 空気浮上式テーブル
JPH09293773A (ja) * 1996-02-29 1997-11-11 Canon Inc 位置決め装置および露光装置
JPH11317440A (ja) * 1998-05-06 1999-11-16 Canon Inc ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP2001307983A (ja) * 2000-04-20 2001-11-02 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2003028973A (ja) * 2001-07-13 2003-01-29 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
JP2004317485A (ja) * 2003-03-28 2004-11-11 Sumitomo Heavy Ind Ltd X−yステージ装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5699621A (en) 1996-02-21 1997-12-23 Massachusetts Institute Of Technology Positioner with long travel in two dimensions
JP3438131B2 (ja) 1998-11-24 2003-08-18 住友重機械工業株式会社 X−yステージ装置
JP2001147719A (ja) * 1999-11-24 2001-05-29 Yokogawa Electric Corp 位置決め装置とその停止方法
TWI260646B (en) * 2003-03-28 2006-08-21 Sumitomo Heavy Industries X-Y axis stage device
JP2006020478A (ja) 2004-07-05 2006-01-19 Neomax Co Ltd ステージ装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02157687A (ja) * 1988-12-09 1990-06-18 Tokyo Koku Keiki Kk 空気浮上式テーブル
JPH09293773A (ja) * 1996-02-29 1997-11-11 Canon Inc 位置決め装置および露光装置
JPH11317440A (ja) * 1998-05-06 1999-11-16 Canon Inc ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP2001307983A (ja) * 2000-04-20 2001-11-02 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2003028973A (ja) * 2001-07-13 2003-01-29 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
JP2004317485A (ja) * 2003-03-28 2004-11-11 Sumitomo Heavy Ind Ltd X−yステージ装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009241192A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd Xyステージ装置
JP2009241193A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd Xyステージ装置
JP2010105075A (ja) * 2008-10-28 2010-05-13 Toyota Boshoku Corp 加工装置
CN101417393B (zh) * 2008-11-21 2011-05-04 深圳市大族激光科技股份有限公司 气脚支撑工作台的设计方法
WO2011009135A2 (en) * 2009-07-17 2011-01-20 Samac Robert A Automated, adjustable, machine-tool work-piece-mounting apparatus
WO2011009135A3 (en) * 2009-07-17 2011-05-05 Samac Robert A Automated, adjustable, machine-tool work-piece-mounting apparatus
JP2013183153A (ja) * 2012-03-05 2013-09-12 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
JP2016211621A (ja) * 2015-04-30 2016-12-15 Toto株式会社 エアステージ装置

Also Published As

Publication number Publication date
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