JP2007160109A - 電気外科的手順を実施するための腹腔鏡用装置 - Google Patents
電気外科的手順を実施するための腹腔鏡用装置 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】電気的手段によって制御され、装置のハンドルの外側に配置される灌注システムを有する電気外科用の装置を提供すること。
【解決手段】手術部位を灌注するためのシステムであって、このシステムは、細長いハウジング１９を有するハンドピース１２であって、このハウジング１９は、このハウジング１９から近位に延びるマルチルーメンチューブ１８に接続され、このマルチルーメンチューブ１８は、灌注流体を送達するための灌注チューブ３２、灌注流体を回収するための吸引チューブ３４および電気配線３６を有する、ハンドピース；上記灌注チューブ３２内の灌注流体の流れを調整するための第一の制御機器；および上記吸引チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第二の制御機器を備える、システム。
【選択図】図２Ａ
【解決手段】手術部位を灌注するためのシステムであって、このシステムは、細長いハウジング１９を有するハンドピース１２であって、このハウジング１９は、このハウジング１９から近位に延びるマルチルーメンチューブ１８に接続され、このマルチルーメンチューブ１８は、灌注流体を送達するための灌注チューブ３２、灌注流体を回収するための吸引チューブ３４および電気配線３６を有する、ハンドピース；上記灌注チューブ３２内の灌注流体の流れを調整するための第一の制御機器；および上記吸引チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第二の制御機器を備える、システム。
【選択図】図２Ａ
Description
本開示は、一般に、腹腔鏡電気外科的手順を実施するための装置および方法に関し、そしてより具体的には、腹腔鏡電気外科的手順の間の吸引および灌注サイクルを制御するための装置に関する。
（関連技術の背景）
電気外科の間、ソース電極（ｓｏｕｒｃｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）または活性電極（ａｃｔｉｖｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）が、電気外科用発電機から患者へエネルギー（例えば、高周波（ＲＦ）エネルギー）を送達し、そして１つの戻し電極（ｒｅｔｕｒｎ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）または複数の戻し電極が、その発電機に電流を戻す。単極の電気外科において、ソース電極は、代表的に、外科医によって手術部位に配置される手持ち式の器具であり、この電極における高密度電流が、組織の切除、切断または凝固の所望の外科的効果を作り出す。上記患者戻し電極は、ソース電極から離れた部位に配置され、代表的に、患者に粘着性で付着するパッドの形態である。
電気外科の間、ソース電極（ｓｏｕｒｃｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）または活性電極（ａｃｔｉｖｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）が、電気外科用発電機から患者へエネルギー（例えば、高周波（ＲＦ）エネルギー）を送達し、そして１つの戻し電極（ｒｅｔｕｒｎ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）または複数の戻し電極が、その発電機に電流を戻す。単極の電気外科において、ソース電極は、代表的に、外科医によって手術部位に配置される手持ち式の器具であり、この電極における高密度電流が、組織の切除、切断または凝固の所望の外科的効果を作り出す。上記患者戻し電極は、ソース電極から離れた部位に配置され、代表的に、患者に粘着性で付着するパッドの形態である。
双極の電気外科は、電気外科用鉗子型のデバイスを使用して慣習的に実施され、ここで活性電極および戻し電極は対向する鉗子のあごに収容される。この戻し電極が活性（すなわち、電流を供給する）電極に近接して置かれ、その結果電気回路がその２つの電極（例えば、電気外科用鉗子）の間に形成される。この様式において、電流の印加は、その電極間に位置している生体組織に限定される。
電気外科的手順の間、凝固した肉体または切断した肉体から、手術部位に副産物（例えば、残屑、煙など）が生成する。この残屑は、その部位を灌注することによって取り除かれ得、ここで灌注流体が手術部位に供給され、次いで吸引により回収される。従来の灌注機構は、上記電気外科用器具を保持するハンドル内に配置された機械的制御によって、機械的に制御されていた。このような設計では、所望のレベルの吸引および／または灌注を達成できず、さらにこれらの設計は、コンパクトでも人間工学的でもなかった。
従って、電気的手段によって制御され、装置のハンドルの外側に配置される灌注システムを有する電気外科用の装置に対する必要性が存在する。
上記目的を達成するために、本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
手術部位を灌注するためのシステムであって、該システムは、
マルチルーメンチューブに連結される細長いハウジングを有するハンドピースであって、該マルチルーメンチューブは該ハウジングから延び、該マルチルーメンチューブは灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注流体を回収するための吸引チューブおよび電気配線を備える、ハンドピース；
該マルチルーメンチューブに連結されるバルブカセットであって、該バルブカセットは該灌注チューブ内の流れを制御するように構成される灌注バルブ、および該吸引チューブ内の流れを制御するように構成される吸引バルブを備える、バルブカセット；
第一の制御信号および第二の制御信号を受信するために該電気配線に連結され、かつ第一の制御信号に基づいて該灌注バルブを制御するように作動可能であり、そして第二の制御信号に基づいて該吸引バルブを制御するように作動可能であるハードウェア制御モジュール；
を備え、
該ハンドピースはさらに、該灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第一の制御機器、および該吸引チューブ内の吸引を調整するための第二の制御機器を備え、該第一の制御機器および第二の制御機器は、該電気配線を通して第一の制御信号および第二の制御信号を伝送し；
該灌注チューブは灌注流体供給源に連結され、そして該吸引チューブは真空供給源に連結される、システム。
（項目２）
前記灌注供給源が加圧バッグである、項目１に記載のシステム。
（項目３）
前記加圧バッグ内の圧力を調整するためのサーボレギュレータをさらに備える、項目２に記載のシステム。
（項目４）
前記灌注流体が、前記灌注供給源から可変速度ポンプによって送達される、項目１〜３のいずれかに記載のシステム。
（項目５）
手術部位における灌注を制御するための装置であって、該装置は、
細長いハウジング；
マルチルーメンチューブであって、該マルチルーメンチューブは、該ハウジングから延び、そして灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注を取りやめるための吸引チューブ、および電気配線を有する、マルチルーメンチューブ；
該ハウジングに配置される第一の制御機器および第二の制御機器であって、該第一の制御機器および第二の制御機器は、それぞれ、該灌注チューブ内の該灌注流体の流れを調整するため、および該吸引チューブ内の該吸引を調整するために構成され、該第一の制御機器および第二の制御機器は、第一の制御信号および第二の制御信号を伝送する、第一の制御機器および第二の制御機器；
を備え、
該マルチルーメンチューブはバルブカセットに接続され、該カセットは、該灌注チューブ内の該流れを制御するように構成される灌注バルブ、および該吸引チューブ内の該流れを制御するように構成される吸引バルブを備え、該灌注チューブはさらに灌注流体供給源に連結され、そして該吸引チューブはさらに真空供給源に連結される、装置。
（項目６）
前記装置がハードウェア制御モジュールに接続され、該ハードウェア制御モジュールは、前記第一の制御信号および第二の制御信号を受信し、かつ該第一の制御信号に基づいて前記灌注バルブを制御し、そして該第二の制御信号に基づいて前記吸引バルブを制御するように構成される、項目５に記載の装置。
（項目７）
前記灌注供給源が加圧バッグである、項目１〜６のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目８）
前記第一の制御機器がさらに、
ハウジングに支持され、かつ前記灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第一の分圧器ネットワーク；および
ハウジングに支持され、かつ前記吸引チューブ内の吸引された灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第二の分圧器ネットワーク
を備える、項目１〜７のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目９）
前記第一の分圧器ネットワークおよび第二の分圧器ネットワークのうちの少なくとも１つがポテンシオメーターである、項目１〜８のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目１０）
前記第一の分圧器ネットワークおよび第二の分圧器ネットワークが、単一のスライドと整列され、該スライドの一方向への運動が、灌注流体の流れを調整し、そして該スライドの別の方向への運動が、吸引された灌注流体の流れを調整する、項目１〜９のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目１１）
前記ハンドピースがさらに、
前記ハウジングに支持され、そして該ハウジングから遠位に延びる電極を備え、該電極は電気外科的エネルギーの供給源に連結される、項目１〜１０のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目１２）
項目１〜１１のいずれかに記載のシステムまたは装置であって、さらに、
灌注チップであって、該灌注チップは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの出口開口部、および灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部を有し、前記電極が該チップに配置されて、灌注流体が該チップの間を流れ、該電極を冷却することを可能にする、灌注チップ
を備える、システムまたは装置。
（項目１３）
前記電極が、前記少なくとも１つの入口開口部と前記少なくとも１つの出口開口部との間に配置される、項目１〜１２のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目１４）
前記少なくとも１つの出口開口部が、前記灌注流体を方向付けるためのリップを備える、項目１〜１３のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目１５）
前記１〜１４のいずれかに記載のシステムまたは装置であって、さらに灌注チップを備え、該灌注チップは灌注アダプタを備え、該灌注アダプタは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの灌注開口部、灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部、およびボールを備え、該ボールは、該ボールが内側に押されない限り灌注流体が灌注開口部を通って流れるのを防止するように、該少なくとも１つの灌注開口部に配置される、システムまたは装置。
（項目１６）
手術部位を灌注するためのシステムであって、該システムは、
マルチルーメンチューブに連結される細長いハウジングを有するハンドピースであって、該マルチルーメンチューブは該ハウジングから延び、該マルチルーメンチューブは灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注流体を回収するための吸引チューブおよび電気配線を備える、ハンドピース；
該マルチルーメンチューブに連結されるバルブカセットであって、該バルブカセットは該灌注チューブ内の流れを制御するように構成される灌注バルブ、および該吸引チューブ内の流れを制御するように構成される吸引バルブを備える、バルブカセット；
第一の制御信号および第二の制御信号を受信するために該電気配線に連結され、かつ第一の制御信号に基づいて該灌注バルブを制御するように作動可能であり、そして第二の制御信号に基づいて該吸引バルブを制御するように作動可能であるハードウェア制御モジュール；
を備え、
該ハンドピースはさらに、該灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第一の制御機器、および該吸引チューブ内の吸引を調整するための第二の制御機器を備え、該第一の制御機器および第二の制御機器は、該電気配線を通して第一の制御信号および第二の制御信号を伝送し；
該灌注チューブは灌注流体供給源に連結され、そして該吸引チューブは真空供給源に連結される、システム。
（項目１７）
前記灌注供給源が加圧バッグである、項目１６に記載のシステム。
（項目１８）
前記加圧バッグ内の圧力を調整するためのサーボレギュレータをさらに備える、項目１７に記載のシステム。
（項目１９）
前記灌注流体が、前記灌注供給源から可変速度ポンプによって送達される、項目１６に記載のシステム。
（項目２０）
前記第一の制御機器がさらに、
ハウジングに支持され、かつ前記灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第一の分圧器ネットワーク；および
ハウジングに支持され、かつ前記吸引チューブ内の吸引された灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第二の分圧器ネットワーク
を備える、項目１６に記載のシステム。
（項目２１）
前記第一の分圧器ネットワークがポテンシオメーターである、項目２０に記載のシステム。
（項目２２）
前記第二の分圧器ネットワークがポテンシオメーターである、項目２０に記載のシステム。
（項目２３）
前記第一の分圧器ネットワークおよび第二の分圧器ネットワークが、単一のスライドと整列され、該スライドの一方向への運動が、灌注流体の流れを調整し、そして該スライドの別の方向への運動が、吸引された灌注流体の流れを調整する、項目２０に記載のシステム。
（項目２４）
前記ハンドピースがさらに、
前記ハウジングに支持され、そして該ハウジングから遠位に延びる電極を備え、該電極は電気外科的エネルギーの供給源に連結される、項目１６に記載のシステム。
（項目２５）
項目２４に記載のシステムであって、さらに、
灌注チップであって、該灌注チップは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの出口開口部、および灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部を有し、前記電極が該チップに配置される、システム。
（項目２６）
手術部位における灌注を制御するための装置であって、該装置は、
細長いハウジング；
マルチルーメンチューブであって、該マルチルーメンチューブは、該ハウジングから延び、そして灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注を取りやめるための吸引チューブ、および電気配線を有する、マルチルーメンチューブ；
該ハウジングに配置される第一の制御機器および第二の制御機器であって、該第一の制御機器および第二の制御機器は、それぞれ、該灌注チューブ内の該灌注流体の流れを調整するため、および該吸引チューブ内の該吸引を調整するために構成され、該第一の制御機器および第二の制御機器は、第一の制御信号および第二の制御信号を伝送する、第一の制御機器および第二の制御機器；
を備え、
該マルチルーメンチューブはバルブカセットに接続され、該カセットは、該灌注チューブ内の該流れを制御するように構成される灌注バルブ、および該吸引チューブ内の該流れを制御するように構成される吸引バルブを備え、該灌注チューブはさらに灌注流体供給源に連結され、そして該吸引チューブはさらに真空供給源に連結される、装置。
（項目２７）
前記装置がハードウェア制御モジュールに接続され、該ハードウェア制御モジュールは、前記第一の制御信号および第二の制御信号を受信し、かつ該第一の制御信号に基づいて前記灌注バルブを制御し、そして該第二の制御信号に基づいて前記吸引バルブを制御するように構成される、項目２６に記載の装置。
（項目２８）
前記灌注供給源が加圧バッグである、項目２６に記載の装置。
（項目２９）
前記第一の制御機器がさらに、
ハウジングに支持され、かつ前記灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第一の分圧器ネットワーク；および
ハウジングに支持され、かつ前記吸引チューブ内の吸引された灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第二の分圧器ネットワーク
を備える、項目２６に記載の装置。
（項目３０）
前記第一の分圧器ネットワークがポテンシオメーターである、項目２９に記載の装置。
（項目３１）
前記第二の分圧器ネットワークがポテンシオメーターである、項目２９に記載の装置。
（項目３２）
前記第一の分圧器ネットワークおよび第二の分圧器ネットワークが、単一のスライドと整列され、該スライドの一方向への運動が、灌注流体の流れを調整し、そして該スライドの別の方向への運動が、吸引された灌注流体の流れを調整する、項目２９に記載の装置。
（項目３３）
前記ハンドピースがさらに、
前記ハウジングに支持され、そして該ハウジングから遠位に延びる電極を備え、該電極は電気外科的エネルギーの供給源に連結される、項目２６に記載の装置。
（項目３４）
項目３３に記載の装置であって、さらに、
灌注チップであって、該灌注チップは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの出口開口部、および灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部を有し、前記電極が該チップに配置されて、灌注流体が該チップの間を流れ、該電極を冷却することを可能にする、灌注チップ
を備える、装置。
（項目３５）
前記電極が、前記少なくとも１つの入口開口部と前記少なくとも１つの出口開口部との間に配置される、項目３４に記載の装置。
（項目３６）
前記少なくとも１つの出口開口部が、前記灌注流体を方向付けるためのリップを備える、項目３４に記載の装置。
（項目３７）
項目３４に記載の装置であって、さらに灌注チップを備え、該灌注チップは灌注アダプタを備え、該灌注アダプタは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの灌注開口部、灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部、およびボールを備え、該ボールは、該ボールが内側に押されない限り灌注流体が灌注開口部を通って流れるのを防止するように、該少なくとも１つの灌注開口部に配置される、装置。
（項目１）
手術部位を灌注するためのシステムであって、該システムは、
マルチルーメンチューブに連結される細長いハウジングを有するハンドピースであって、該マルチルーメンチューブは該ハウジングから延び、該マルチルーメンチューブは灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注流体を回収するための吸引チューブおよび電気配線を備える、ハンドピース；
該マルチルーメンチューブに連結されるバルブカセットであって、該バルブカセットは該灌注チューブ内の流れを制御するように構成される灌注バルブ、および該吸引チューブ内の流れを制御するように構成される吸引バルブを備える、バルブカセット；
第一の制御信号および第二の制御信号を受信するために該電気配線に連結され、かつ第一の制御信号に基づいて該灌注バルブを制御するように作動可能であり、そして第二の制御信号に基づいて該吸引バルブを制御するように作動可能であるハードウェア制御モジュール；
を備え、
該ハンドピースはさらに、該灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第一の制御機器、および該吸引チューブ内の吸引を調整するための第二の制御機器を備え、該第一の制御機器および第二の制御機器は、該電気配線を通して第一の制御信号および第二の制御信号を伝送し；
該灌注チューブは灌注流体供給源に連結され、そして該吸引チューブは真空供給源に連結される、システム。
（項目２）
前記灌注供給源が加圧バッグである、項目１に記載のシステム。
（項目３）
前記加圧バッグ内の圧力を調整するためのサーボレギュレータをさらに備える、項目２に記載のシステム。
（項目４）
前記灌注流体が、前記灌注供給源から可変速度ポンプによって送達される、項目１〜３のいずれかに記載のシステム。
（項目５）
手術部位における灌注を制御するための装置であって、該装置は、
細長いハウジング；
マルチルーメンチューブであって、該マルチルーメンチューブは、該ハウジングから延び、そして灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注を取りやめるための吸引チューブ、および電気配線を有する、マルチルーメンチューブ；
該ハウジングに配置される第一の制御機器および第二の制御機器であって、該第一の制御機器および第二の制御機器は、それぞれ、該灌注チューブ内の該灌注流体の流れを調整するため、および該吸引チューブ内の該吸引を調整するために構成され、該第一の制御機器および第二の制御機器は、第一の制御信号および第二の制御信号を伝送する、第一の制御機器および第二の制御機器；
を備え、
該マルチルーメンチューブはバルブカセットに接続され、該カセットは、該灌注チューブ内の該流れを制御するように構成される灌注バルブ、および該吸引チューブ内の該流れを制御するように構成される吸引バルブを備え、該灌注チューブはさらに灌注流体供給源に連結され、そして該吸引チューブはさらに真空供給源に連結される、装置。
（項目６）
前記装置がハードウェア制御モジュールに接続され、該ハードウェア制御モジュールは、前記第一の制御信号および第二の制御信号を受信し、かつ該第一の制御信号に基づいて前記灌注バルブを制御し、そして該第二の制御信号に基づいて前記吸引バルブを制御するように構成される、項目５に記載の装置。
（項目７）
前記灌注供給源が加圧バッグである、項目１〜６のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目８）
前記第一の制御機器がさらに、
ハウジングに支持され、かつ前記灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第一の分圧器ネットワーク；および
ハウジングに支持され、かつ前記吸引チューブ内の吸引された灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第二の分圧器ネットワーク
を備える、項目１〜７のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目９）
前記第一の分圧器ネットワークおよび第二の分圧器ネットワークのうちの少なくとも１つがポテンシオメーターである、項目１〜８のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目１０）
前記第一の分圧器ネットワークおよび第二の分圧器ネットワークが、単一のスライドと整列され、該スライドの一方向への運動が、灌注流体の流れを調整し、そして該スライドの別の方向への運動が、吸引された灌注流体の流れを調整する、項目１〜９のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目１１）
前記ハンドピースがさらに、
前記ハウジングに支持され、そして該ハウジングから遠位に延びる電極を備え、該電極は電気外科的エネルギーの供給源に連結される、項目１〜１０のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目１２）
項目１〜１１のいずれかに記載のシステムまたは装置であって、さらに、
灌注チップであって、該灌注チップは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの出口開口部、および灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部を有し、前記電極が該チップに配置されて、灌注流体が該チップの間を流れ、該電極を冷却することを可能にする、灌注チップ
を備える、システムまたは装置。
（項目１３）
前記電極が、前記少なくとも１つの入口開口部と前記少なくとも１つの出口開口部との間に配置される、項目１〜１２のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目１４）
前記少なくとも１つの出口開口部が、前記灌注流体を方向付けるためのリップを備える、項目１〜１３のいずれかに記載のシステムまたは装置。
（項目１５）
前記１〜１４のいずれかに記載のシステムまたは装置であって、さらに灌注チップを備え、該灌注チップは灌注アダプタを備え、該灌注アダプタは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの灌注開口部、灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部、およびボールを備え、該ボールは、該ボールが内側に押されない限り灌注流体が灌注開口部を通って流れるのを防止するように、該少なくとも１つの灌注開口部に配置される、システムまたは装置。
（項目１６）
手術部位を灌注するためのシステムであって、該システムは、
マルチルーメンチューブに連結される細長いハウジングを有するハンドピースであって、該マルチルーメンチューブは該ハウジングから延び、該マルチルーメンチューブは灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注流体を回収するための吸引チューブおよび電気配線を備える、ハンドピース；
該マルチルーメンチューブに連結されるバルブカセットであって、該バルブカセットは該灌注チューブ内の流れを制御するように構成される灌注バルブ、および該吸引チューブ内の流れを制御するように構成される吸引バルブを備える、バルブカセット；
第一の制御信号および第二の制御信号を受信するために該電気配線に連結され、かつ第一の制御信号に基づいて該灌注バルブを制御するように作動可能であり、そして第二の制御信号に基づいて該吸引バルブを制御するように作動可能であるハードウェア制御モジュール；
を備え、
該ハンドピースはさらに、該灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第一の制御機器、および該吸引チューブ内の吸引を調整するための第二の制御機器を備え、該第一の制御機器および第二の制御機器は、該電気配線を通して第一の制御信号および第二の制御信号を伝送し；
該灌注チューブは灌注流体供給源に連結され、そして該吸引チューブは真空供給源に連結される、システム。
（項目１７）
前記灌注供給源が加圧バッグである、項目１６に記載のシステム。
（項目１８）
前記加圧バッグ内の圧力を調整するためのサーボレギュレータをさらに備える、項目１７に記載のシステム。
（項目１９）
前記灌注流体が、前記灌注供給源から可変速度ポンプによって送達される、項目１６に記載のシステム。
（項目２０）
前記第一の制御機器がさらに、
ハウジングに支持され、かつ前記灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第一の分圧器ネットワーク；および
ハウジングに支持され、かつ前記吸引チューブ内の吸引された灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第二の分圧器ネットワーク
を備える、項目１６に記載のシステム。
（項目２１）
前記第一の分圧器ネットワークがポテンシオメーターである、項目２０に記載のシステム。
（項目２２）
前記第二の分圧器ネットワークがポテンシオメーターである、項目２０に記載のシステム。
（項目２３）
前記第一の分圧器ネットワークおよび第二の分圧器ネットワークが、単一のスライドと整列され、該スライドの一方向への運動が、灌注流体の流れを調整し、そして該スライドの別の方向への運動が、吸引された灌注流体の流れを調整する、項目２０に記載のシステム。
（項目２４）
前記ハンドピースがさらに、
前記ハウジングに支持され、そして該ハウジングから遠位に延びる電極を備え、該電極は電気外科的エネルギーの供給源に連結される、項目１６に記載のシステム。
（項目２５）
項目２４に記載のシステムであって、さらに、
灌注チップであって、該灌注チップは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの出口開口部、および灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部を有し、前記電極が該チップに配置される、システム。
（項目２６）
手術部位における灌注を制御するための装置であって、該装置は、
細長いハウジング；
マルチルーメンチューブであって、該マルチルーメンチューブは、該ハウジングから延び、そして灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注を取りやめるための吸引チューブ、および電気配線を有する、マルチルーメンチューブ；
該ハウジングに配置される第一の制御機器および第二の制御機器であって、該第一の制御機器および第二の制御機器は、それぞれ、該灌注チューブ内の該灌注流体の流れを調整するため、および該吸引チューブ内の該吸引を調整するために構成され、該第一の制御機器および第二の制御機器は、第一の制御信号および第二の制御信号を伝送する、第一の制御機器および第二の制御機器；
を備え、
該マルチルーメンチューブはバルブカセットに接続され、該カセットは、該灌注チューブ内の該流れを制御するように構成される灌注バルブ、および該吸引チューブ内の該流れを制御するように構成される吸引バルブを備え、該灌注チューブはさらに灌注流体供給源に連結され、そして該吸引チューブはさらに真空供給源に連結される、装置。
（項目２７）
前記装置がハードウェア制御モジュールに接続され、該ハードウェア制御モジュールは、前記第一の制御信号および第二の制御信号を受信し、かつ該第一の制御信号に基づいて前記灌注バルブを制御し、そして該第二の制御信号に基づいて前記吸引バルブを制御するように構成される、項目２６に記載の装置。
（項目２８）
前記灌注供給源が加圧バッグである、項目２６に記載の装置。
（項目２９）
前記第一の制御機器がさらに、
ハウジングに支持され、かつ前記灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第一の分圧器ネットワーク；および
ハウジングに支持され、かつ前記吸引チューブ内の吸引された灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第二の分圧器ネットワーク
を備える、項目２６に記載の装置。
（項目３０）
前記第一の分圧器ネットワークがポテンシオメーターである、項目２９に記載の装置。
（項目３１）
前記第二の分圧器ネットワークがポテンシオメーターである、項目２９に記載の装置。
（項目３２）
前記第一の分圧器ネットワークおよび第二の分圧器ネットワークが、単一のスライドと整列され、該スライドの一方向への運動が、灌注流体の流れを調整し、そして該スライドの別の方向への運動が、吸引された灌注流体の流れを調整する、項目２９に記載の装置。
（項目３３）
前記ハンドピースがさらに、
前記ハウジングに支持され、そして該ハウジングから遠位に延びる電極を備え、該電極は電気外科的エネルギーの供給源に連結される、項目２６に記載の装置。
（項目３４）
項目３３に記載の装置であって、さらに、
灌注チップであって、該灌注チップは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの出口開口部、および灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部を有し、前記電極が該チップに配置されて、灌注流体が該チップの間を流れ、該電極を冷却することを可能にする、灌注チップ
を備える、装置。
（項目３５）
前記電極が、前記少なくとも１つの入口開口部と前記少なくとも１つの出口開口部との間に配置される、項目３４に記載の装置。
（項目３６）
前記少なくとも１つの出口開口部が、前記灌注流体を方向付けるためのリップを備える、項目３４に記載の装置。
（項目３７）
項目３４に記載の装置であって、さらに灌注チップを備え、該灌注チップは灌注アダプタを備え、該灌注アダプタは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの灌注開口部、灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部、およびボールを備え、該ボールは、該ボールが内側に押されない限り灌注流体が灌注開口部を通って流れるのを防止するように、該少なくとも１つの灌注開口部に配置される、装置。
（要旨）
本開示は、電気外科的手順の間に手術部位を灌注するためのシステムおよび装置を提供する。上記システムは、電気外科用発電機を制御するためのハンドピース、ならびに灌注システムを備え、該灌注システムは、灌注流体を供給するための灌注チューブと、灌注流体および煙を回収するための吸引チューブとを有する。ハンドピースの制御機器は、ハードウェアモジュールに接続され、このハードウェアモジュールは、上記灌注流体および吸引の流れを調整するバルブカセット内に配置される灌注バルブおよび吸引バルブを制御する。さらに、上記灌注流体は、電極を冷却するために使用される。
本開示は、電気外科的手順の間に手術部位を灌注するためのシステムおよび装置を提供する。上記システムは、電気外科用発電機を制御するためのハンドピース、ならびに灌注システムを備え、該灌注システムは、灌注流体を供給するための灌注チューブと、灌注流体および煙を回収するための吸引チューブとを有する。ハンドピースの制御機器は、ハードウェアモジュールに接続され、このハードウェアモジュールは、上記灌注流体および吸引の流れを調整するバルブカセット内に配置される灌注バルブおよび吸引バルブを制御する。さらに、上記灌注流体は、電極を冷却するために使用される。
本開示の一実施形態にしたがって、電気外科的手順の間に手術部位を灌注するためのシステムが提供される。上記システムは、細長いハウジングを有するハンドピースであって、このハウジングは、このハウジングから近位に延びるマルチルーメンチューブに接続され、そしてこのマルチルーメンチューブは、灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注流体を回収するための吸引チューブ、および電気配線を有し、このハンドピースはさらに、上記灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第一の制御機器、および上記吸引チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第二の制御機器を備え、この第一の制御機器および第二の制御機器は、上記電気配線を通して第一の制御信号および第二の制御信号を伝送する、ハンドピース；上記マルチルーメンチューブに接続されるバルブカセットであって、このカセットは、上記灌注チューブ内の上記流れを制御するように構成される灌注バルブ、および上記吸引チューブ内の上記流れを制御するように構成される吸引バルブを備え、上記灌注チューブはさらに灌注流体供給源に接続され、そしてこの吸引チューブはさらに真空供給源に接続される、バルブカセット；ならびにハードウェア制御モジュールであって、このハードウェア制御モジュールは、上記第一の制御信号および第二の制御信号を受信し、かつ上記第一の制御信号に基づいて灌注サーボアクチュエータを通して上記灌注バルブを制御し、そして上記第二の制御信号に基づいて吸引サーボアクチュエータを通して上記吸引バルブを制御するために、上記電気配線に接続される、ハードウェア制御モジュール、を備える。
本開示の別の実施形態にしたがって、電気外科的手順の間に手術部位における灌注を制御するための装置が提供される。上記装置は、細長いハウジング；マルチルーメンチューブであって、このマルチルーメンチューブは、該ハウジングから近位に延び、そして灌注チェックバルブを備える灌注流体を送達するための灌注チューブ、吸引チェックバルブを備える灌注流体を回収するための吸引チューブ、および電気配線を備える、マルチルーメンチューブ；第一の制御機器および第二の制御機器であって、この第一の制御機器および第二の制御機器は、それぞれ、上記灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するため、および上記吸引チューブ内の吸引を調整するために構成され、この第一の制御機器および第二の制御機器は、第一の制御信号および第二の制御信号を伝送し、上記マルチルーメンチューブは、バルブカセットに接続され、このカセットは、上記灌注チューブ内の上記流れを制御するように構成される灌注バルブ、および上記吸引チューブ内の上記流れを制御するように構成される吸引バルブを備え、上記灌注バルブはさらに灌注流体供給源に接続され、そして上記吸引チューブはさらに真空供給源に接続される、第一の制御機器および第二の制御機器；ならびにハードウェア制御モジュールであって、このハードウェア制御モジュールは、上記第一の制御信号および第二の制御信号を受信し、かつ上記第一の制御信号に基づいて灌注サーボアクチュエータを通して上記灌注バルブを制御し、そして上記第二の制御信号に基づいて吸引サーボアックチュエータを通して上記吸引バルブを制御するように構成される、ハードウェア制御モジュール、を備える。
本発明により、電気外科的手順の間に手術部位を灌注するためのシステムおよび装置が提供される。
本開示の上記または他の局面、特徴および利点は、以下の詳細な説明を考慮にいれてより明確になる。ここで、添付の図面が合わせて考慮される。
（詳細な説明）
本開示の実施形態は、添付の図面を参照して以下に説明される。以下の説明において、周知の機能または構築は、不必要な詳細で本開示を不明りょうにすることを避けるために詳細には説明しない。
本開示の実施形態は、添付の図面を参照して以下に説明される。以下の説明において、周知の機能または構築は、不必要な詳細で本開示を不明りょうにすることを避けるために詳細には説明しない。
前述の開示は、単極性腹腔鏡外科用機具を参照して実施形態を説明している。しかし、本開示の原理は、双極性機具および適切なその他の機具において利用され得る。
焼灼手順、止血、およびその他の適切な手順を実施するために用いられるべき電気外科用システムおよび方法が提供される。このシステムは、灌注および／または吸引（例えば、真空ライン）を提供し、これは、電気外科的手順と同時に、またはこの手順が終了した後に実施され得る。いくつかの実施形態では、灌注流体は、電気外科用焼灼電極を冷却するために用いられ得、加熱された電極からの焼痂構築を減少するため、組織影響を改変するため、そして／または不注意のやけどを防ぐ。
現在開示される電気外科用システムの実施形態は、ここで、図面を参照して詳細に説明され、ここで、同様の参照番号は、類似または同一の要素を識別する。本明細書で用いられるとき、用語「遠位」は、使用者からより遠い部分をいい、その一方、用語「近位」は、使用者により近い部分をいう。
図１は、発電機１０、その遠位端に、選択された作動モードに依存して切断および／または凝固手順を行う患者Ｐと接触される活性電極１４を有するハンドピース１２（例えば、電気外科用ペンシル）を含む電気外科用システムを示す。この活性電極１４は、通常は細長く、そして尖った、または丸い遠位端を備えた薄い平坦なブレードの形態の電気的に伝導性の要素であり得る。あるいは、この活性電極１４は、平坦、丸い、尖った、または斜めになった遠位端を備えた中実または中空である細長く狭い円筒形のニードルを含み得る。
患者Ｐに取り付けられて、患者Ｐから発電機１０まで電気外科用電流を戻す戻し電極１６がある。ハンドピース１２は、ハンドピース１２の近位端から延びる複数管腔１８を経由して発電機１０に接続される。一実施形態では、この複数管腔チューブ１８は、活性電極１４への電気外科用エネルギー、およびハンドピース１２の制御のための電力を供給するための電気ワイヤ含む。
活性電極１４は、腹腔鏡により、例えば、経皮的切開を通じて身体管腔中に挿入され得る。これを達成するために、電極１４は、適切なトロカールを通じて身体管腔中に導入され得る（図示せず）。このトロカールは、その遠位端で身体腔を貫通し、そして電極１４がその近位端を通って導入される細長いチューブを含み得る。さらに、このトロカールは、もその近位端に配置される止血バルブを含み得、ガスの逆流を防ぐ。
ハンドピース１２はまた、手術部位を灌注する灌注先端部を含み、その詳細は、以下に説明される。灌注流体供給およびバルブ機構のような、灌注システムのその他の構成要素は、発電機１０内または適切なカセットのような別個のスタンドアローンデバイス内に配置され得る。灌注および吸引ラインは、灌注システムからハンドピース１２に、そしてその後灌注チップに接続され、そしてマルチルーメンチューブ１８内に含められ得る。
この灌注システムは、生理食塩水溶液のような適切な灌注流体を、活性電極１４近傍の灌注先端部を通じて供給する。この灌注流体は、焼痂（例えば、やけどまたは焼灼によって引き起こされる死滅組織の脱落）を減少またはなくするために、電気外科的用法の間に活性電極１４を冷却するために用いられる。さらに、この灌注流体は、電気外科的手順によって引き起こされる任意の残渣を除去するために用いられ得る。
ハンドピース１２は、身体腔の外側、かつトロカールの外側に残り、そして外科医が電気外科的操作および灌注サイクルを制御することを可能にする。図２Ａを参照して、本開示の一実施形態に従うハンドピース１２が示され、そして細長いハウジング１９内に種々の制御機器を含む。このハンドピース１２は、モード選択制御機器２０を含み、そして外科医が発電機１０の作動モード（例えば、切断、凝固、ブレンド）を選択することを可能にする。一般に、発電機は、異なる電流波形を用いることによって達成される、複数のモード、例えば、切断、凝固、またはブレンドで作動する。一定の波形を用い、発電機は、外科医が組織を蒸気治療することまたは切断することを可能にする。なぜなら、一定の波形は、熱を非常に迅速に生成するからである。間欠的波形を用いることにより、発電機の衝撃係数が組織を凝固するために減少される。ブレンドされた電流は、中間の結果を達成するために上記の２つの波形の混合物を許容する。ハンドピース１２はまた、外科医が活性電極１４に供給されているエネルギーの電力を改変することを可能にする強度制御機器２２を含み、これは、ハウジング１９内に支持され、そしてそれから遠位方向に延びる。
ハンドピース１２はまた、灌注システムを調整するための制御機器を含む。より詳細には、ハンドピース１２は、灌注流体の流れを活性化および脱活性化する灌注コントローラ２４、および灌注流体の流れ容量を調整する灌注容量調節機２６を含み得る。さらに、ハンドピース１２は、吸引された灌注流体を回収するための真空吸引装置を活性化および脱活性化する吸引制御機器２８を含む。吸引容量調節機３０は、灌注流体が回収される速度を制御する真空ポンプの設定レベルを制御する。
モード選択制御機器２０、強度制御機器２２、灌注容量調節機２６および吸引容量調節機３０は、電圧分割機ネットワーク（「ＶＤＮ」）（例えば、フィルム形電位差計）に作動可能に連結される。本明細書における目的には、用語「電圧分割機ネットワーク」は、連続して連結された電源を横切る出力電圧（例えば、２つのインピーダンスの内の１つ）を決定する任意の適切な形態の抵抗、静電容量または誘導回路に関する。本明細書で用いられるとき、「電圧分割機」は、印加された電圧の固定また可変フラクションを利用可能にするために、特定の点でタップとともに提供される連続して連結される多くのレジスターに関する。このような電圧分割機を採用するハンドピースの例は、その全体が参考として本明細書によって援用され、「改良された制御機器を備えた電機外科用ペンシル」と題する、共有に係る米国特許出願第１０／７１８，１１３号で論議されている。灌注容量調節機２６および吸引容量調節機３０分割機ネットワークは、単一のスライド（明瞭には図示されない）と整列され得ることが想定され、ここで、このスライドの１つの方向における移動が、灌注流体の流れを調整し、そしてこのスライドの別の方向における移動が、吸引された灌注流体の流れを調整する。
マルチルーメンチューブ１８は、ハウジング１９から近位方向に延び、そして電気配線３６、灌注流体を手術部位に供給する灌注チューブ３２、および適切な真空供給源に導管を提供することにより灌注流体を回収する吸引チューブ３４のための導管を含む多管腔を含む。電気的配線３６は、活性電極１４への電気外科用電流、およびハンドピース１２の制御からの入力信号を伝達するための制御電流を伝達するためのワイヤを含む。入力信号を伝達するためにＤＣ電圧を用いることは、当該技術分野では周知であり、そして共有に係る米国特許第３，６９９，９６７号および同第３，８０１，８００号に記載され、この両方は、それらの全体が本明細書によって参考として援用される。
図２Ｂに示されるように、灌注チェックバルブ３１および吸引チェックバルブ３３は、それぞれ、灌注チューブ３２内でハンドピース１２の近位端に配置される。この吸引チェクバルブ３３は、「ダックビル」設計であり得るか、または特定の実施形態では、フラップであり得る。この吸引チェックバルブ３３の配向は、最小の抵抗でそれを通って流体および真空が流れることを可能にするが、流体が反対方向に排出することは防ぐ。
灌注チェックバルブ３１もまた、「ダックビル」設計、および、ポペット、フラップ、スプリング負荷ボールタイプチェックバルブ、または灌注チューブ中にモジュールとして挿入され得る任意の適切なチェックバルブであり得る。この灌注チェックバルブ３１は、十分な開放圧力の下で開くような形態であり、灌注流体がそれを通って流れることを可能にする。約６インチから約４８インチまでの水柱圧の開放圧力が、灌注バルブ４２が閉鎖されるとき（図３を参照のこと）、灌注チューブ３２からハンドピース１２を通って排水されることを防ぐに十分である。この圧力はまた、灌注バルブ４２が開放されるとき、流れ圧力に対して最小の抵抗性を提供するために十分である。
図３を参照して、マルチルーメンチューブ１８は、ハンドピース１２を、手術部位で灌注流体の流入および流出を制御するための適切な機構を含むバルブカセット４０に連結される。電気配線３６は、ハンドピース１２と発電機１０との間の電気的インターフェースを提供する接触ブロック３８に連結される。より詳細には、接触ブロック３８は、発電機１０およびバルブカセット４０の作動をモニターおよび制御する、ハードウェア制御モジュール５０に電気的に連結される。この制御モジュール５０は、当業者の範囲内の種々の機能（例えば、値を比較すること、制御信号を受けること、アナログ信号デジタル信号に変換すること、およびアナログ信号をデジタル信号から変換すること、発電機１０およびバルブカセット４０に制御指令を発すること、など）を実施するためのマイクロプロセッサ、メモリ、およびコンパレータのような電子回路を含み得る。
バルブカセット４０は、吸引チューブ３４内の真空を制御する吸引バルブ４４を含む。吸引バルブ４４を開放することは、真空ポンプ（明りょうには示さない）への接近を提供することによって吸引チューブ３４内に真空を生成し、それによって、吸引された灌注流体の吸引除去に至る。吸引バルブ４４を閉鎖することは、真空ポンプへの接近を終結する。吸引バルブ４４の位置を調節することは、外科医が吸引の量を調節することを可能にする。
吸引バルブ４４は、コントローラモジュール５０からの制御信号に基づき、バルブを開閉する真空サーボアクチュエータ４５によって調節され得る。制御信号は、吸引制御機器２８および吸引容量調節機３０から発し、そして電気配線３６および接触ブロック３８に沿って制御モジュール５０まで伝達される。
バルブカセット４０はまた、灌注チューブ３６のアパーチャを調整する灌注バルブ４２を含み、それによって、灌注流体の手術部位への流れを調整する。灌注バルブ４２は、灌注サーボアクチュエータ４３によって制御され得、制御モジュール５０からの制御信号を受ける。灌注流体は、サーボレギュレータ４８（例えば、空気供給ポンプ）よって圧縮され得る加圧バッグ４６から分与され得る。
一実施形態では、灌注流体の流れは、以下の様式で調節される。最初、外科医は灌注流体を供給するために所望の圧力を選択する。その後、制御信号が、電気配線３６および接触ブロック３８を通って灌注コントローラ２４および灌注容量調節機２６から伝達される。所望の流れ／圧力は、加圧バッグ４６に対する圧力を増加すること、および灌注バルブ４２を開いて残すことによって達成され得る。あるいは、加圧バッグ４６に対する圧力は、静止したままであり得、そして灌注バルブ４２は、所望の流速を達成するために調節され得る。当業者は、灌注流体が種々のコンテナ（例えば、貯蔵タンク）中に貯蔵さ得、そしてポンプを用いて分与さることを認識する。このポンプは、ポンプ、例えば、可変速度ポンプの圧力をゼロと最大設定との間で変化させることにより、制御され得る。灌注容量調節機２６はＶＤＮを含み、その出力圧力を変動するポンプに制御電圧を送達し得る。
図４Ａ〜Ｃは、灌注先端部５６を備えた活性電極１４を示す。この活性電極１４は、Ｌ形状形態に曲げられる。しかし、この電極１４は、種々の適切な形状および形態（例えば、スパチュラ、ニードル、ボールポイント、中実、中空、など）であり得る。この活性電極１４は、図４Ａ〜Ｃに示されるように、灌注開口部５２と吸引開口部５４との間に位置決めされる。一実施形態では、この灌注先端部５６は、絶縁性材料から作製され、患者の偶発的なショックを防ぐ。
電気外科的手順の間に、灌注流体が灌注開口部５２を通り、そして手術部位に通過し、外科的手順の間で生成された任意の残渣を洗い流すことが想定される。この灌注流体は、次いで、吸引開口部５４を通って吸引され、手術部位から残渣を排出する。さらに、上記手順の間に生成された煙もまた排出される。灌注先端部５６は、複数の灌注開口部５２および吸引開口部５４を有し得る。
本発明はまた、焼痂形成の温度（例えば、１００℃）より低い温度に電極１４の先端部を維持するために、灌注流体を用いて活性電極１４を冷却することが企図される。この活性電極１４は、活性電極１４の表面から灌注流体までの熱移行を改良する特有の幾何学的形状（例えば、その中に彫刻された溝）を含み得る。活性電極１４からの効率的な熱移行を達成するために、灌注流体は、流体が毛細管作用を経由して活性電極１４に沿って、そして吸引開口部５４中に流れるように、十分に遅い速度で通過され得る。灌注開口部５２および吸引開口部５４は、長軸方向に同じ距離延び、活性電極１４の灌注を収容する。
吸引開口部５４は、灌注開口部５２よりさらに遠く延び得ることもまた想定される。この配列は、灌注流体が、灌注経路と吸引経路がほぼ同じ長さである配列より大きいセグメントの活性電極１４に沿って流れることを可能にする。結果として、活性電極１４は、灌注流体により多くの熱を移行する。このようなさらなる冷却は、より高いエネルギー要求を有する電気外科的手順で利用され得る。なぜなら、このような手順は、より多くの熱を生成し、そして焼痂形成を軽減するためにより多くの冷却を必要とするからである。さらに、吸引開口部５４を延ばすことは、灌注流体が活性電極を１４を超えて噴出されることを可能にし、手術部位のより良好な灌注を可能にする。
図５Ａ〜Ｂは、活性電極１４および灌注先端部５６の別の実施形態を示し、ここでは、活性電極１４は、灌注開口部５２および吸引開口部５４の上に位置決めされる。この配列は、電極１４の冷却が、適正な灌注および手術部位からの残渣および煙の排出を提供することに対して二次的である場合に特に有用であり得る。図５Ｂに示されるように、灌注開口部５２はリップ５３を含み、灌注流体の流れを下方でかつ手術部位に向け、これは手術部位の迅速な灌注を可能にする。
図６Ａ〜Ｂは、活性電極１４なしの灌注アダプタ５８を示す。この灌注アダプタ５８は、灌注開口部６０および前部吸引開口部６４を含む。この灌注アダプタ５８は、ボールバルブを提供するボールを含み得（明りょうに示さず）、例えば、吸引がオンであるか、または灌注アダプタ５８が表面（例えば、組織）に対して押されるとき、ボールが退却し、灌注流体が前部吸引開口部６４を通過することを可能する。さらに、灌注アダプタ５８はまた、１つ以上の側方吸引開口部６２を含む。
図６Ｂは、灌注アダプタ５８および灌注チューブ３２と吸引チューブ３４へのその接続性の断面図を示す。灌注流体は、灌注通路６６を通って灌注アダプタ５８に入り、そして灌注アダプタ５８の灌注チャネル７２を通って流れる。灌注流体は、吸引チャネル７２を通って抽出され、そして吸引通路６８を通って吸引チューブ３４に入る。この吸引通路７２は、灌注通路７０より遠くに延び、分離され、そして別個の流入流れ経路および流出流れ経路を可能にする。
灌注アダプタ５８は、複数のリッジ７４、７６、７８、８０によって灌注チューブおよび吸引チューブに連結される。これらリッジ７４、７６は、吸引通路６８の上部外面および底部外面と接触し、そしてリッジ７８、８０は灌注通路７０および吸引通路８０の頂部外面にそれぞれ接触している。事実上、これらリッジ７８、８０は、全体の灌注アダプタ５８を固定し、その一方、リッジ７８、８０は、灌注通路７０の長さを超えて延びる吸引通路７２へのさらなる支持を提供する。
本開示の灌注および吸引システムが、スタンドアローンシステム（例えば、電気外科的装置の一部ではない）として利用され得ることが想定される。本開示の記載される実施形態は、制限的でなく例示であることが意図され、そして本開示のすべての実施形態を表すことは意図されない。種々の改変および変更が、文言上および法で認められる等価な両方で添付の特許請求の範囲で提示されるような本開示の思想または範囲から逸脱することなくなされ得る。
電気外科的手順の間に手術部位を灌注するためのシステムおよび装置が開示される。このシステムは、細長いハウジングを有するハンドピースであって、このハウジングは、このハウジングから近位に延びるマルチルーメンチューブに接続され、このマルチルーメンチューブは、灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注流体を回収するための吸引チューブおよび電気配線を有する、ハンドピース；上記灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第一の制御機器；および上記吸引チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第二の制御機器を備える。バルブカセットが上記マルチルーメンチューブに接続され、このバブルカセットは、上記灌注チューブ内の上記流れを制御するように構成される灌注バルブ、および上記吸引チューブ内の上記流れを制御するように構成される吸引バルブを備える。ハードウェア制御モジュールは、上記第一の制御機器および第二の制御機器からの制御信号に基づいて上記灌注バルブおよび上記吸引バルブを制御する。
１０ 発電機
１２ ハンドピース
１４ 活性電極
１６ 戻し電極
１８ マルチルーメンチューブ
３２ 灌注チューブ
３４ 吸引チューブ
３６ 電気配線
４０ バルブカセット
４２ 灌注バルブ
４４ 吸引バルブ
５０ 制御モジュール
５２ 灌注開口部
５４ 吸引開口部
５６ 灌注チップ
１２ ハンドピース
１４ 活性電極
１６ 戻し電極
１８ マルチルーメンチューブ
３２ 灌注チューブ
３４ 吸引チューブ
３６ 電気配線
４０ バルブカセット
４２ 灌注バルブ
４４ 吸引バルブ
５０ 制御モジュール
５２ 灌注開口部
５４ 吸引開口部
５６ 灌注チップ
Claims (15)
- 手術部位を灌注するためのシステムであって、該システムは、
マルチルーメンチューブに連結される細長いハウジングを有するハンドピースであって、該マルチルーメンチューブは該ハウジングから延び、該マルチルーメンチューブは灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注流体を回収するための吸引チューブおよび電気配線を備える、ハンドピース；
該マルチルーメンチューブに連結されるバルブカセットであって、該バルブカセットは該灌注チューブ内の流れを制御するように構成される灌注バルブ、および該吸引チューブ内の流れを制御するように構成される吸引バルブを備える、バルブカセット；
第一の制御信号および第二の制御信号を受信するために該電気配線に連結され、かつ第一の制御信号に基づいて該灌注バルブを制御するように作動可能であり、そして第二の制御信号に基づいて該吸引バルブを制御するように作動可能であるハードウェア制御モジュール；
を備え、
該ハンドピースはさらに、該灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するための第一の制御機器、および該吸引チューブ内の吸引を調整するための第二の制御機器を備え、該第一の制御機器および第二の制御機器は、該電気配線を通して第一の制御信号および第二の制御信号を伝送し；
該灌注チューブは灌注流体供給源に連結され、そして該吸引チューブは真空供給源に連結される、システム。 - 前記灌注供給源が加圧バッグである、請求項１に記載のシステム。
- 前記加圧バッグ内の圧力を調整するためのサーボレギュレータをさらに備える、請求項２に記載のシステム。
- 前記灌注流体が、前記灌注供給源から可変速度ポンプによって送達される、請求項１〜３のいずれかに記載のシステム。
- 手術部位における灌注を制御するための装置であって、該装置は、
細長いハウジング；
マルチルーメンチューブであって、該マルチルーメンチューブは、該ハウジングから延び、そして灌注流体を送達するための灌注チューブ、灌注を取りやめるための吸引チューブ、および電気配線を有する、マルチルーメンチューブ；
該ハウジングに配置される第一の制御機器および第二の制御機器であって、該第一の制御機器および第二の制御機器は、それぞれ、該灌注チューブ内の該灌注流体の流れを調整するため、および該吸引チューブ内の該吸引を調整するために構成され、該第一の制御機器および第二の制御機器は、第一の制御信号および第二の制御信号を伝送する、第一の制御機器および第二の制御機器；
を備え、
該マルチルーメンチューブはバルブカセットに接続され、該カセットは、該灌注チューブ内の該流れを制御するように構成される灌注バルブ、および該吸引チューブ内の該流れを制御するように構成される吸引バルブを備え、該灌注チューブはさらに灌注流体供給源に連結され、そして該吸引チューブはさらに真空供給源に連結される、装置。 - 前記装置がハードウェア制御モジュールに接続され、該ハードウェア制御モジュールは、前記第一の制御信号および第二の制御信号を受信し、かつ該第一の制御信号に基づいて前記灌注バルブを制御し、そして該第二の制御信号に基づいて前記吸引バルブを制御するように構成される、請求項５に記載の装置。
- 前記灌注供給源が加圧バッグである、請求項１〜６のいずれかに記載のシステムまたは装置。
- 前記第一の制御機器がさらに、
ハウジングに支持され、かつ前記灌注チューブ内の灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第一の分圧器ネットワーク；および
ハウジングに支持され、かつ前記吸引チューブ内の吸引された灌注流体の流れを調整するために前記ハードウェア制御モジュールに電気的に連結される第二の分圧器ネットワーク
を備える、請求項１〜７のいずれかに記載のシステムまたは装置。 - 前記第一の分圧器ネットワークおよび第二の分圧器ネットワークのうちの少なくとも１つがポテンシオメーターである、請求項１〜８のいずれかに記載のシステムまたは装置。
- 前記第一の分圧器ネットワークおよび第二の分圧器ネットワークが、単一のスライドと整列され、該スライドの一方向への運動が、灌注流体の流れを調整し、そして該スライドの別の方向への運動が、吸引された灌注流体の流れを調整する、請求項１〜９のいずれかに記載のシステムまたは装置。
- 前記ハンドピースがさらに、
前記ハウジングに支持され、そして該ハウジングから遠位に延びる電極を備え、該電極は電気外科的エネルギーの供給源に連結される、請求項１〜１０のいずれかに記載のシステムまたは装置。 - 請求項１〜１１のいずれかに記載のシステムまたは装置であって、さらに、
灌注チップであって、該灌注チップは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの出口開口部、および灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部を有し、前記電極が該チップに配置されて、灌注流体が該チップの間を流れ、該電極を冷却することを可能にする、灌注チップ
を備える、システムまたは装置。 - 前記電極が、前記少なくとも１つの入口開口部と前記少なくとも１つの出口開口部との間に配置される、請求項１〜１２のいずれかに記載のシステムまたは装置。
- 前記少なくとも１つの出口開口部が、前記灌注流体を方向付けるためのリップを備える、請求項１〜１３のいずれかに記載のシステムまたは装置。
- 前記１〜１４のいずれかに記載のシステムまたは装置であって、さらに灌注チップを備え、該灌注チップは灌注アダプタを備え、該灌注アダプタは、灌注流体を供給するための少なくとも１つの灌注開口部、灌注流体を回収するための少なくとも１つの入口開口部、およびボールを備え、該ボールは、該ボールが内側に押されない限り灌注流体が灌注開口部を通って流れるのを防止するように、該少なくとも１つの灌注開口部に配置される、システムまたは装置。
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