JP2007067217A - 回路装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 成集積回路装置10では、支持基板として機能する回路基板16の表面に、第1配線層18Aおよび第2配線層18Bから成る2層の配線が積層されている。第1配線層18Aと第2配線層18Bとは、第2絶縁層17Bにより絶縁されている。第2絶縁層17Bは、フィラーの含有量が少ない第1樹脂膜17B1と、フィラーが高充填された第2樹脂膜17B2から成る。フィラーの含有量が少なく流動性に優れる第1樹脂膜17B1は、第1配線層18A同士の間に隙間なく充填される。
【選択図】図1
Description
本形態では、図1から図3を参照して、回路装置の一例として混成集積回路装置を例に説明する。
本形態では、図4から図7を参照して、図1に構造を示した混成集積回路装置10Aの製造方法を説明する。
本形態では、図8から図10を参照して、図2に構造を示した混成集積回路装置10Bの製造方法を説明する。本形態の製造方法は、基本的には上述した第2の実施の形態と同様であり、相違点は、第1接続部25Aおよび第2接続部25Bから接続部25を構成する点にある(図2参照)。以下では、その相違点を中心に混成集積回路装置10Bの製造方法を説明する。
11 リード
12 封止樹脂
14 回路素子
15 金属細線
16 回路基板
17A 第1絶縁層
17B 第2絶縁層
17B1 第1樹脂膜
17B2 第2樹脂膜
18A 第1配線層
18B 第2配線層
19 ロウ材
20 境界面
21 スキージ
22 凹部
24 ユニット
25 接続部
25A 第1接続部
25B 第2接続部
27 サーマルビア
28 導電膜
29 レジスト
31 キャビティ
32 貫通孔
33 レーザー
34 メッキ膜
Claims (17)
- 絶縁層を介して積層された第1配線層および第2配線層を有する回路装置に於いて、
前記絶縁層は、前記第1配線層の間に充填された第1樹脂膜と、前記第1樹脂膜に積層された第2樹脂膜から成り、
前記第2樹脂膜には前記第1樹脂膜よりも多量のフィラーが混入されることを特徴とする回路装置。 - 前記第1樹脂膜と前記第2樹脂膜との境界面は、前記第1樹脂膜側に突出するように湾曲することを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記第1樹脂膜には、フィラーが混入されないことを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記第1配線層と前記第2配線層とは、前記絶縁層を貫通する接続部を介して接続されることを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記接続部は、前記第1配線層を部分的に厚み方向に突出させた第1接続部と、
前記第2配線層を部分的に厚み方向に突出させた第2接続部からなり、
前記第1接続部と前記第2接続部とは、前記絶縁層の厚み方向の中間部にて接触することを特徴とする請求項4記載の回路装置。 - 主面が第1絶縁層により被覆された回路装置と、前記第1絶縁層の表面に形成された第1配線層と、第2絶縁層を介して前記第1配線層に積層された第2配線層と、前記第2配線層に電気的に接続された回路素子とを具備し、
前記第2絶縁層は、前記第1配線層の間に充填された第1樹脂膜と、前記第1樹脂膜に積層された第2樹脂膜から成り、
前記第2樹脂膜には前記第1樹脂膜よりも多量のフィラーが混入されることを特徴とする回路装置。 - 前記第1樹脂膜と前記第2樹脂膜との境界面は、前記第1樹脂膜側に突出するように湾曲することを特徴とする請求項6記載の回路装置。
- 前記第1樹脂膜には、フィラーが混入されないことを特徴とする請求項6記載の回路装置。
- 前記第1配線層と前記第2配線層とは、前記第2絶縁層を貫通する接続部を介して接続されることを特徴とする請求項6記載の回路装置。
- 前記接続部は、前記第1配線層を部分的に厚み方向に突出させた第1接続部と、
前記第2配線層を部分的に厚み方向に突出させた第2接続部からなり、
前記第1接続部と前記第2接続部とは、前記第2絶縁層の厚み方向の中間部にて接触することを特徴とする請求項9記載の回路装置。 - 前記第1絶縁層は、フィラーが混入された樹脂から成ることを特徴とする請求項6記載の回路装置。
- 第1配線層を形成する工程と、
前記第1配線層同士の間に第1樹脂膜を充填させる工程と、
前記第1樹脂膜および前記第1配線層が覆われるように、前記第1樹脂膜よりも多量のフィラーが混入された第2樹脂膜を形成する工程と、
前記第2樹脂膜の表面に第2配線層を形成する工程とを具備することを特徴とする回路装置の製造方法。 - フィラーが含まれない樹脂を前記第1樹脂膜として採用することを特徴とする請求項12記載の回路装置の製造方法。
- 前記第1樹脂膜を充填させる工程では、
前記第1配線層が覆われるように形成された前記第1樹脂膜を、スキージにより掻き取ることを特徴とする請求項12記載の回路装置の製造方法。 - 凹状に窪ませた前記第1樹脂膜の表面に、前記第2樹脂膜を形成することを特徴とする請求項12記載の回路装置の製造方法。
- 前記絶縁層を貫通して、前記第1配線層と前記第2配線層とを電気的に接続することを特徴とする請求項12記載の回路装置の製造方法。
- 前記第1配線層は、表面が絶縁処理された回路基板の主面に形成されることを特徴とする請求項12記載の回路装置の製造方法。
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