JPH1056268A - ドリルレスivhプリント配線板およびその製造方法 - Google Patents

ドリルレスivhプリント配線板およびその製造方法

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JPH1056268A
JPH1056268A JP21234496A JP21234496A JPH1056268A JP H1056268 A JPH1056268 A JP H1056268A JP 21234496 A JP21234496 A JP 21234496A JP 21234496 A JP21234496 A JP 21234496A JP H1056268 A JPH1056268 A JP H1056268A
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JP
Japan
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wiring board
printed wiring
ivh
connection
drillless
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Application number
JP21234496A
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English (en)
Inventor
Katsumi Watanabe
勝巳 渡辺
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PFU Ltd
Original Assignee
PFU Ltd
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Publication date
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Publication of JPH1056268A publication Critical patent/JPH1056268A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0017Etching of the substrate by chemical or physical means
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4647Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits by applying an insulating layer around previously made via studs
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4652Adding a circuit layer by laminating a metal foil or a preformed metal foil pattern

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、層間接続にドリルによる貫通穴を
設けないドリルレスIVH(interstitial via hole )
プリント配線板の製造方法に関わり、製造性が高く層間
距離の選択が自由になるドリルレスIVHプリント配線
板およびその製造方法の実現に関する。 【解決手段】 本発明は、接続ランドに突起物を形成し
て層間距離の部分的に薄い部分を構成した。この手段に
よって、層間距離を部分的に薄くしたため、回路パター
ンに期待する電気的特性を得るための層間距離の選択の
幅を広げるとともに、層間接続のための穴径を小径化で
き、小量の化学的エッチングあるいはレーザ光を投入す
ることでよいため、配線密度と製造性とを高めることを
可能とするドリルレスIVHプリント配線板およびその
製造方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、層間接続にドリル
を使わない非貫通穴によるIVH(interstitialvia ho
le )プリント配線板(以下、ドリルレスIVHプリン
ト配線板と記す)の製造方法に関わり、製造性が高く層
間距離の選択が自由になるドリルレスIVHプリント配
線板およびその製造方法の実現に関する。
【0002】
【従来の技術】図8の従来例の製造工程図に示すドリル
レスIVHプリント配線板の製造方法は、まず工程P5
1では、内層コアにパターンを形成する。次に工程P5
2では、内層コアに樹脂材を積層し外層を形成する。さ
らに工程P53では、工程P52で形成した外層に外層
パターンを形成する。次に工程P54では、化学的エッ
チングあるいはレーザ光によって層間接続のための穴あ
けを行う。最後の工程P55では、工程P54で処理し
た層間接続のための穴に銅めっきを行うものである。特
に工程P54の層間接続のための穴あけは、化学的エッ
チングあるいはレーザ光によって行ってきたが、穴の深
さを自由に調整することが困難であり、層間距離が30
ないし40μmが安定して製造できるレベルであり、ま
た層間距離に比例して層間接続のための化学的エッチン
グあるいはレーザ光による穴径も100ないし150μ
mが安定して製造できるレベルであり、回路パターンに
期待する電気的特性を得るための層間距離が限定され
る。さらに層間接続のための層間距離が30ないし40
μmを超える場合には大量の化学的エッチングあるいは
レーザ光を投入するので製造性が悪くなっているという
問題がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の従来
のドリルレスIVHプリント配線板の製造方法の次の問
題点の解決を課題とする。 層間距離が30ないし40μmが安定して製造できる
レベルであり、回路パターンに期待する電気的特性を得
るための層間距離が限定される。 層間接続のための層間距離が30ないし40μmを超
える場合には大量の化学的エッチングあるいはレーザ光
を投入するので製造性が悪くなっている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は上記問題を解決
するために、接続ランドに突起物を形成して層間距離の
部分的に薄い部分を構成した。この手段によって、層間
距離を部分的に薄くしたため、回路パターンに期待する
電気的特性を得るための層間距離の選択の幅を広げると
ともに、層間接続のための穴径を小径化でき、小量の化
学的エッチングあるいはレーザ光を投入することでよい
ため、配線密度と製造性とを高めることを可能とするド
リルレスIVHプリント配線板およびその製造方法を提
供する。
【0005】
【発明の実施の形態】まず、請求項1の第1の発明にお
いては、図1に示すように、接続ランド1に突起物2を
導電体の厚付けで形成した。この手段によって、層間距
離を部分的に薄くしたため、回路パターンに期待する電
気的特性を得るための層間距離の選択の幅を広げるとと
もに、層間接続のための穴径を小径化できる作用を得
る。
【0006】次に、請求項2の第2の発明においては、
図2に示すように、前記突起物2を、はんだボールなど
の球状の導電体3として構成した。この手段によって、
層間距離を部分的に薄くした部分を大きな厚みで容易に
形成できるため、層間距離の選択を拡大するとともに、
層間接続のための穴径を極小化できる作用を得る。
【0007】また、請求項3の第3の発明においては、
図3に示すように、前記突起物2を、溶融はんだなどで
円錐状の導電体4として構成した。この手段によって、
層間距離を部分的に薄くした部分を大きな厚みでピンポ
イント状態で容易に形成できるため、層間距離を極小化
できるとともに、層間接続のための穴径を極小化できる
作用を得る。
【0008】さらに、請求項4の第4の発明において
は、図4に示すように、前記突起物2と接続ランド1と
の間に中間接続ランド5を構成した。この手段によっ
て、層間距離を部分的に薄くした部分に第三の層間接続
のための中間接続ランド5を形成できるため、配線チャ
ネルを増加することができる作用を得る。
【0009】次に、請求項5の第5の発明においては、
図5に示すように、外層ランド6と中間接続ランド5と
の中心部に空白部7を形成した。この手段によって、外
層ランド6と中間接続ランド5の導体部分の化学的エッ
チングあるいはレーザ光によって行う層間接続のための
外層ランド6と、中間接続ランド5との穴あけ処理時間
を短縮できるので、化学的エッチングあるいはレーザ光
によって行う層間接続のための穴あけを短時間で処理す
ることができる作用を得る。
【0010】次に、請求項6の第6の発明においては、
図6に示すように、内層コア8を、接続ランド1に突起
物2を形成した多層配線で構成した。この手段によっ
て、内層コア8の配線チャネルを増加することができる
ため、配線密度を向上できる作用を得る。
【0011】次に、請求項7の第7の発明においては、
図7に示すように、前記内層コア8に樹脂材を積層して
外層を形成する前に、内層コア8に突起物2を形成する
工程を備えた。この手段によって、層間距離の部分的に
薄い部分の形成を短時間で処理することができる作用を
得る。
【0012】
【実施例】以下、図1ないし図7の本発明に関わる実施
例の図面を参照して説明する。
【0013】図1ないし図6の本発明に関わる実施例の
図面に用いた符号について一括して以下に説明する。1
はIVH製法による層間接続のための接続ランドであ
る。2は接続ランド1に形成し層間距離を縮小する突起
物である。3は突起物2となる球状の導電体である。4
は突起物2となる円錐状の導電体である。5はIVH製
法による層間接続のための中間接続ランドである。6は
IVH製法による層間接続のための外層ランドである。
7は中間接続ランド5と、外層ランド6とに設ける空白
部である。8は多層構成の中心をなす内層構成部分であ
る内層コアである。
【0014】図1は、本発明の原理図である。同図にお
いて、接続ランド1に、突起物2を、銅などのめっきに
よって厚付け形成した。このことによって、層間距離を
部分的に薄くしたため、回路パターンに期待する電気的
特性を得るための層間距離の選択の幅を広げるととも
に、層間接続のための穴径を小径化して製造性を高くで
きる。
【0015】図2は、本発明の請求項2実施例図であ
る。同図において、前記突起物2を、はんだボールなど
の球状の導電体3として接続ランド1に付着させ構成し
た。このことによって、層間距離を部分的に薄くした部
分を大きな厚みで容易に形成できるため、回路パターン
に期待する電気的特性を得るための層間距離を縮小する
とともに、層間接続のための穴径を極小化できる。
【0016】図3は、本発明の請求項3実施例図であ
る。同図において、前記突起物2を、溶融はんだなどを
接続ランド1に付着させ急速冷却して円錐状の導電体4
として構成した。このことによって、層間距離を部分的
に薄くした部分を大きな厚みでピンポイント状態で容易
に形成できるため、層間距離を極小化するとともに、層
間接続のための穴径を極小化できる。
【0017】図4は、本発明の請求項4実施例図であ
る。同図において、前記突起物2と、接続ランド1との
間に、中間接続ランド5を構成した。このことによっ
て、層間距離を部分的に薄くした部分に第三の層間接続
のための中間接続ランド5を形成できるため、配線チャ
ネルを増加し、配線密度を高めることができる。
【0018】図5は、本発明の請求項5実施例図であ
る。同図において、外層ランド6と、中間接続ランド5
との中心部に空白部7を形成した。このことによって、
導体のない空白部7の化学的エッチングあるいはレーザ
光によって行う層間接続のための穴あけ処理時間を導体
がある場合より短縮できるので、化学的エッチングある
いはレーザ光によって行う層間接続のための穴あけを短
時間で処理することができる。
【0019】図6は、本発明の請求項6実施例図であ
る。同図において、内層コア8を、接続ランド1に突起
物2を形成した多層配線で構成した。このことによっ
て、内層コア8の配線チャネルを増加することができる
ため、配線密度を向上できる。
【0020】図7は、本発明の製造工程図である。同図
において、工程P01では、内層コア8にパターンを形
成する。工程P02では、内層コア8の接続ランド1の
突起物2を形成する部分を除いてパターンレジストを形
成する。工程P03では、工程P02で形成したパター
ンレジストで覆われていない部分に銅めっきの厚付け、
あるいははんだボール、そして溶融はんだなどの突起物
2を形成する。工程P04では、工程P02で形成した
パターンレジストを剥離する。工程P05では、内層コ
ア8に樹脂材を積層し外層を形成する。工程P06で
は、工程P05で形成した外層に外層パターンを形成す
る。工程P07では、化学的エッチングあるいはレーザ
光によって層間接続のための穴あけを行う。 工程P0
8では、工程P07で処理した層間接続のための穴に銅
めっきを行う。
【0021】なお、内層コア8を、接続ランド1に突起
物2を形成した多層配線で構成する製造方法では、内層
コア8を上記工程P02ないしP08を経て上記工程P
01の内層コア8にパターンを形成した工程になる。
【0022】さらに、突起物2と接続ランド1との間に
中間接続ランド5を構成する製造方法では、工程P05
と工程P06とを繰り返して中間接続ランド5を形成す
る工程になる。
【0023】
【発明の効果】以上説明した本発明の効果について,請
求項順に説明する。
【0024】請求項1記載の構成を備えたドリルレスI
VHプリント配線板は、接続ランドに突起物を形成し
た。このことで、層間距離を部分的に薄くしたため、回
路パターンに期待する電気的特性を得るための層間距離
の選択の幅を広げるとともに、層間接続のための穴径を
小径化でき、配線密度と製造性を高めることができる。
【0025】請求項2記載の構成を備えたドリルレスI
VHプリント配線板は、前記突起物を、球状の導電体と
して構成した。このことで、層間距離を部分的に薄くし
た部分を大きな厚みで容易に形成できるため、請求項1
記述の効果に加え、層間接続のための穴の深さの加工精
度を緩和できる。
【0026】請求項3記載の構成を備えたドリルレスI
VHプリント配線板は、前記突起物を、円錐状の導電体
として構成した。このことで、層間距離を部分的に薄く
した部分を大きな厚みで容易に形成できるため、請求項
1記述の効果に加え、層間接続のための穴の深さの加工
精度を緩和できる。
【0027】請求項4記載の構成を備えたドリルレスI
VHプリント配線板は、前記突起物と、接続ランドとの
間に、中間接続ランドを配置した。このことで、層間距
離を部分的に薄くした部分に第三の層間接続のための中
間接続ランドを形成できるため、請求項1ないし3記述
の効果に加え、配線チャネルを増加し配線密度を高める
ことができる。
【0028】請求項5記載の構成を備えたドリルレスI
VHプリント配線板は、外層ランドと、中間接続ランド
との中心部に空白部を形成した。このことで、導体のな
い空白部の化学的エッチングあるいはレーザ光によって
行う層間接続のための外層ランドと、中間接続ランドと
の穴あけ処理時間を短縮できるので、請求項1ないし4
記述の効果に加え、化学的エッチングあるいはレーザ光
によって行う層間接続のための穴あけを短時間で処理す
ることができ、製造性をより高めることができる。
【0029】請求項6記載の構成を備えたドリルレスI
VHプリント配線板は、内層コアを接続ランドに突起物
を形成した多層配線で構成した。このことで、内層コア
の配線チャネルを増加することができるため、請求項1
ないし5記述の効果に加え、内層コアの配線密度も向上
できる。
【0030】請求項7記載の構成を備えたドリルレスI
VHプリント配線板の製造方法は、内層コアに樹脂材を
積層して外層を形成する前に、内層コアに突起物を形成
する工程を備えた。このことで、層間距離の部分的に薄
い部分の形成を短時間で処理することができるため、請
求項1ないし6記述の効果に加え、シンプルな工程で配
線密度と製造性を高めることができるドリルレスIVH
プリント配線板の製造を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理図である。
【図2】本発明の請求項2実施例図である。
【図3】本発明の請求項3実施例図である。
【図4】本発明の請求項4実施例図である。
【図5】本発明の請求項5実施例図である。
【図6】本発明の請求項6実施例図である。
【図7】本発明の製造工程図である。
【図8】従来例の製造工程図である。
【符号の説明】
1 接続ランド 2 突起物 3 球状の導電体 4 円錐状の導電体 5 中間接続ランド 6 外層ランド 7 空白部 8 内層コア

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 層間接続にドリルによる貫通穴を設けな
    いドリルレスIVHプリント配線板において、接続ラン
    ド(1)に突起物(2)を形成した、ことを特徴とする
    ドリルレスIVHプリント配線板。
  2. 【請求項2】 前記突起物(2)を、球状の導電体
    (3)として構成した、ことを特徴とする請求項1記載
    のドリルレスIVHプリント配線板。
  3. 【請求項3】 前記突起物(2)を、円錐状の導電体
    (4)として構成した、ことを特徴とする請求項1記載
    のドリルレスIVHプリント配線板。
  4. 【請求項4】 前記突起物(2)と接続ランド(1)と
    の間に中間接続ランド(5)を構成した、ことを特徴と
    する請求項1ないし3のいずれか1項記載のドリルレス
    IVHプリント配線板。
  5. 【請求項5】 外層ランド(6)と中間接続ランド
    (5)との中心部に空白部(7)を形成した、ことを特
    徴とする請求項1ないし4のいずれか1項記載のドリル
    レスIVHプリント配線板。
  6. 【請求項6】 内層コア(8)を、接続ランド(1)に
    突起物(2)を形成した多層配線で構成した、ことを特
    徴とする請求項1ないし5のいずれか1項記載のドリル
    レスIVHプリント配線板。
  7. 【請求項7】 内層コアにパターンを形成した後に、内
    層コアに樹脂材を積層して外層を形成するドリルレスI
    VHプリント配線板の製造方法において、前記内層コア
    (8)に樹脂材を積層して外層を形成する前に、内層コ
    ア(8)に突起物(2)を形成する工程を備える、こと
    を特徴とするドリルレスIVHプリント配線板の製造方
    法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007049194A (ja) * 2006-10-23 2007-02-22 Dainippon Printing Co Ltd プリント配線基板、及びプリント配線基板の製造方法
JP2007067217A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Sanyo Electric Co Ltd 回路装置およびその製造方法

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