JPH09326561A - 多層プリント配線板及びその製造方法 - Google Patents

多層プリント配線板及びその製造方法

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JPH09326561A
JPH09326561A JP14181496A JP14181496A JPH09326561A JP H09326561 A JPH09326561 A JP H09326561A JP 14181496 A JP14181496 A JP 14181496A JP 14181496 A JP14181496 A JP 14181496A JP H09326561 A JPH09326561 A JP H09326561A
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insulating layer
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wiring board
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Muneyuki Haruki
宗雪 春木
Masayuki Ota
正幸 太田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 一回のメッキ工程でブラインドビアホールと
スルホールとのメッキ層の形成が行えるようにしてファ
インパターン化を可能にし、かつ絶縁層とメッキ層との
密着強度を向上することのできる多層プリント配線板を
得る。 【解決手段】 フォトレジストからなる絶縁層を介して
形成された下層部の銅箔回路パターンと上層部のメッキ
層からなる配線回路パターンとを電気的に接続するため
のブラインドビアホールを有する多層プリント配線板に
おいて、絶縁層が下層部の銅箔回路パターン2,3と密
着性が良好でかつ感光性及び絶縁性の優れている第1の
絶縁層4,5と、上層部の配線回路パターン12,13
と密着性及び粗化特性の優れている第2の絶縁層6,7
とからなり、上層部の配線回路パターン12,13が第
1の絶縁層4,5及び第2の絶縁層6,7に開けたブラ
インドビアホール8,9のメッキ層を介して下層部の銅
箔回路パターン4,5と電気的に接続されるようにし
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ブラインドビアホ
ール(層渡りの孔)を有するビルドアップ法による多層
プリント配線板とその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種ブラインドビアホールを有
する多層プリント配線板の製造方法を図3〜図5に示
す。
【0003】図3は初期の段階の製造工程であり、上部
外層30と内層31と下部外層32とからなる。
【0004】上部外層30には絶縁性のコア33の両面
に銅箔パターン34,35が形成されると共に、コア3
3に複数のスルホール36が形成されている。内層31
には絶縁性のコア37の両面に銅箔パターン38,39
が形成されている。そして、下部外層32には絶縁性の
コア40の両面に銅箔パターン41,42が形成される
と共に、コア40に複数のスルホール43が形成されて
いる。
【0005】次の工程では上部外層30及び下部外層3
2のスルホール36及び43に導体メッキ層(以下、単
にメッキ層という)44及び45を形成する。この際、
上部外層30の銅箔パターン34,35及び下部外層3
2の銅箔パターン41,42の表面にメッキ層34a,
35a及び41a,42aが形成されることになる。こ
の状態が図4である。
【0006】次にこのように形成した上部外層30と内
層31及び下部外層32をそれぞれプリプレグ46,4
7を介して積層しプレス成形して多層プリント配線板を
成形し、その後、多層プリント配線板を貫通するスルホ
ール48を形成し、最後にこのスルホール48にメッキ
層49を形成する。このとき、上部外層30の外表面の
銅箔パターン34及び下部外層32の外表面の銅箔パタ
ーン42にメッキ層34b及び42bが形成されると共
に、スルホール36及び43のメッキ層44及び45の
表面にさらにメッキ層44a及び45aが形成されるこ
とになる。この状態が図5であり、上部外層30に形成
したスルホール36及び下部外層32に形成したスルホ
ール43がブラインドビアホールとなって成形される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ブラインド
ビアホールを有する従来の多層プリント配線板の製造方
法では、初期の工程でブラインドビアホールとなるスル
ホール36,43のメッキ工程と、積層板を貫通した本
来のスルホール48のメッキ工程とをそれぞれ別工程と
して行う必要があるため、メッキ工程が増え製造コスト
が高価になるといった問題がある。
【0008】また、上述した製造方法により製造された
多層プリント配線板のチップ部品が実装される回路パタ
ーン面は、スルホール48の1層のメッキ層49に対し
てブラインドビアホールの部分ではメッキ層が2層とな
り、銅箔パターン34,42の部分ではメッキ層が2層
重なり銅箔と合わせて3層となるため、回路パターン面
全体としてメッキ厚が不均一となり、ファインパターン
の形成が困難となる。
【0009】一方、絶縁材からなるコア材は銅箔パター
ンとの密着強度に対してメッキ層との密着強度が低く、
このため実装後のチップ部品に外力が生じた場合にコア
材からメッキ層が剥離するといった問題がある。
【0010】本発明は、上述したような課題を解消する
ためになされたもので、一回のメッキ工程でブラインド
ビアホールとスルホールとのメッキ層の形成が行えるよ
うにしてファインパターンを可能にし、かつ絶縁層とメ
ッキ層との密着強度を向上することのできる多層プリン
ト配線板及びその製造方法を得ることを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明による多層プリント配線板は、フォトレジス
トからなる絶縁層を介して形成された下層部導体回路と
上層部導体回路とを電気的に接続するためのブラインド
ビアホールを有する多層プリント配線板において、絶縁
層は下層部導体回路と密着性が良好でかつ感光性及び絶
縁性の優れている第1の絶縁層と、上層部導体回路と密
着性及び粗化特性の優れている第2の絶縁層とから構成
したものである。
【0012】これによって、第1の絶縁層に対して下層
部導体回路の密着強度が向上し、第2の絶縁層に対して
上層部導体回路の密着性を向上することができる。
【0013】また、第1の絶縁層と第2の絶縁層をポス
トキュアしたものである。これによって、第1の絶縁層
と第2の絶縁層とを密着性よく強固に一体化することが
できる。
【0014】また、下層部導体回路は銅箔パターン回路
であり、上層部導体回路は第2の絶縁層上に形成された
メッキ層としたものである。これによって、第1の絶縁
層に対して銅箔パターンを密着性よく形成することがで
き、第2の絶縁層に対してメッキ層を密着性よく形成す
ることができる。
【0015】また、上層部導体回路であるメッキ層をブ
ラインドビアホールを介して下層部導体回路である銅箔
パターン回路に電気的に接続したものである。これによ
って、チップ部品実装後の外力に対しても第1の絶縁層
からメッキ層の剥がれを防止することができる。
【0016】また、本発明による多層プリント配線板の
製造方法は、フォトレジストからなる絶縁層を介して形
成された下層部導体回路と上層部導体回路とを電気的に
接続するためのブラインドビアホールを有する多層プリ
ント配線板の製造方法において、絶縁性のコア材の表面
に形成した導体箔をパターン形成して下層部導体回路を
形成する工程と、コア材及び下層部導体回路上に当該下
層部導体回路と密着性が良好でかつ感光性及び絶縁性の
フォトレジストからなる第1の絶縁層を塗布する工程
と、第1の絶縁層上に粗化特性のよいフォトレジストか
らなる第2の絶縁層を塗布する工程と、第1及び第2の
絶縁層にブラインドビアホールを形成して下層部導体回
路を露出する工程と、第1及び第2の絶縁層と共にコア
材に貫通するスルホールを形成する工程と、第2の絶縁
層の表面を膨潤し粗化処理する工程と、ブラインドビア
ホール及びスルホールと共に第2の絶縁層の表面にメッ
キ層を形成し、当該ブラインドビアホールのメッキ層を
露出する下層部導体回路に導電接続する工程と、第2の
絶縁層のメッキ層をパターン化して上層部導体回路を形
成する工程と、からなる。
【0017】上述した製造方法により、一回のメッキ工
程でブラインドビアホールとスルホールとのメッキ処理
が行えるのでファインパターン化を可能にし、かつ第2
の絶縁層と上層部導体回路との密着強度を向上すること
ができる。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明による多層プリント
配線板及びその製造方法の実施例を図面を参照して説明
する。
【0019】図1及び図2にブラインドビアホールを有
する多層プリント配線板の製造工程を示す。図1Aは製
造工程の初期の段階であり、絶縁性のコア材1の両面全
体に形成した銅箔を回路パターン化し、上面を銅箔回路
パターン2とし、下面を銅箔回路パターン3とし、これ
ら銅箔回路パターン2,3は下層部導体回路となる。
【0020】ここで、コア材1としては厚さが50μm
以上でエポキシ樹脂が含浸したガラス布からなり、銅箔
回路パターン2,3は厚みが35μm以下のものを使用
するのがよい。尚、コア材1の厚みが50μm未満であ
ると、銅箔回路パターン2と銅箔回路パターン3との間
の絶縁信頼性が低下するので好ましくない。また、銅箔
回路パターン2,3の厚みが35μm以上であると、こ
れら回路パターン2,3の上に形成する外層の平滑性を
阻害するので好ましくない。
【0021】また、銅箔回路パターン2,3の形成方法
は、一般的な写真法で例えば銅箔面にエッチングレジス
トとしてドライフィルムを貼り、フォトツール(マス
ク)を介して露光,現像し、エッチング処理した後、ド
ライフィルムを除去することによって所望の回路パター
ンを形成することができる。また、エッチングレジスト
のパターン形成方法としてスクリーン印刷法を用いるこ
とも可能である。
【0022】次の工程として図1Bに示すように銅箔回
路パターン2,3の上から第1の絶縁層4,5を形成
し、続いて図1Cに示すように第1の絶縁層4,5の上
に第2の絶縁層6,7を形成する。第1の絶縁層4,5
は高感度な感光性を有し密着性、絶縁性及び耐熱性に優
れたフォトレジストからなり、第2の絶縁層6,7は金
属メッキとの密着性がよく、しかも粗化特性に優れたフ
ォトレジストからなる。
【0023】ここで、第1の絶縁層4,5の厚みは30
〜70μmが望ましく、第2の絶縁層6,7の厚みは7
0μm以下が好適である。また、第1及び第2の絶縁層
の厚みが70μmを越えた場合では、当該絶縁層にブラ
インドビアホールを形成しようとする際、絶縁層の下層
まで十分な露光が行いにくく、70μm未満であると十
分な絶縁性が得られないことから好ましくない。
【0024】また、第1の絶縁層4,5及び第2の絶縁
層6,7の形成方法としては例えば液状フォトソルダー
レジストをスクリーン印刷により塗布する方法やスプレ
ーで吹き付ける方法が可能である。この際、第1の絶縁
層4,5上へ第2の絶縁層6,7を形成する場合、第1
の絶縁層4,5が半硬化状態において第2の絶縁層6,
7を形成する、いわゆるポストキュアにより行うことで
両絶縁層の密着性が向上できる。
【0025】次の工程として図2Dに示すように銅箔回
路パターン2,3に対応する位置において第1及び第2
の絶縁層にブラインドビアホール8,9をあけ、銅箔回
路パターン2,3を露出させる。ブラインドビアホール
の形成は第2の絶縁層6,7上に載せたフォトツール
(マスク)を介して露光し現像を行い、エッチング処理
する写真法が適している。
【0026】ブラインドビアホール8,9の形成のあ
と、絶縁層4,5及び6,7と共にコア材1を貫通する
スルホール10を形成する。スルホール10はドリルを
使用して孔開けする方法や金型を用いてパンチで開ける
方法、あるいはレーザー光で開ける方法がある。
【0027】次に、ブラインドビアホール8,9とスル
ホール10の内壁の絶縁層部分を膨潤する。膨潤に用い
る薬品としては、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジ
メチルスルオキシド(DMSO)、N−メチル2ピロリ
ドン(NMP)、ビリジン等を使用することができる。
【0028】そして、膨潤させたブラインドビアホール
8,9とスルホール10の表面に粗化処理を施す。粗化
処理には過マンガン酸カリウム、ニクロム酸カリウム、
濃硫酸等の酸化力のある薬品を使用する。
【0029】次に、図2Eに示すように第2の絶縁層
6,7の表面とブラインドビアホール8,9及びスルホ
ール10内にメッキ層11を形成する。このメッキ層1
1の形成は通常、無電解メッキを用いるが、電解メッキ
と併用して用いることもできる。この際、ブラインドビ
アホール8,9内に形成されたメッキ層は穴内に露出す
る銅箔回路パターン2,3の表面にまで形成される。
【0030】最後に図2Fに示すように第2の絶縁層
6,7の表面に形成されたメッキ層11をパターンニン
グして配線回路パターン12,13を形成し多層プリン
ト配線板が完成する。尚、配線回路パターン12,13
の形成は、メッキ層11上に載せたフォトツール(マス
ク)を介して露光し現像を行い、エッチング処理する写
真法によって行うことができる。
【0031】以上のように製造された多層プリント配線
板は、一回のメッキ層11の形成でブラインドビアホー
ル8,9とスルホール10のメッキ処理が行えると共
に、その後のメッキ層11のパターンニングにより配線
回路パターン12,13を形成することができるので、
メッキ層が1層となりファインパターン化を図ることが
できる。
【0032】また、絶縁層を銅箔回路パターン2,3と
密着性の高い第1の絶縁層4,5と、メッキ層11と密
着性が高く粗化特性の高い第2の絶縁層6,7との2層
から構成したことで、特に第2の絶縁層6,7上に形成
されるメッキ層からなる配線回路パターン12,13と
の密着性を向上することができる。
【0033】また、ブラインドビアホール8,9のメッ
キ層を利用して下層部の銅箔回路パターン2,3と電気
的に接続するようにしたことで、回路パターンの短縮化
を図ることがでる。しかも、ブラインドビアホール8,
9にチップ部品のランド部をメッキ層を介して接続させ
ることにより、ランド部に実装されたチップ部品に外力
が発生してもメッキ層やランド剥がれを防止することが
できるといった利点がある。
【0034】尚、本発明の多層プリント配線板を製造す
るに当たり、製造設備は既存のプリント配線設備をその
まま利用することができ、特殊な設備あるいは特殊な材
料は一切不要である。従って、信頼性の高い材料を使用
してプリント配線板を製造できるので、信頼性の高いプ
リント配線板となる。
【0035】本発明は、上述しかつ図面に示した実施例
に限定されるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲内
で種々の変形実施が可能である。
【0036】実施例のプリント配線板は配線パターンが
4層の場合について説明したが、その他、配線パターン
が6層や8層等のさらに多層のプリント配線板にも広く
適用することができる。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように本発明の多層プリン
ト配線板は、フォトレジストからなる絶縁層を介して形
成された下層部導体回路と上層部導体回路とを電気的に
接続するためのブラインドビアホールを有する多層プリ
ント配線板において、絶縁層は下層部導体回路と密着性
が良好でかつ感光性及び絶縁性の優れている第1の絶縁
層と、上層部導体回路と密着性及び粗化特性の優れてい
る第2の絶縁層とから構成したことにより、第1の絶縁
層に対して下層部導体回路の密着強度が向上し、第2の
絶縁層に対して上層部導体回路の密着性を向上すること
ができ、特に第2の絶縁層に対する上層部導体回路の剥
がれを防止することができる。
【0038】また、第1の絶縁層と第2の絶縁層をポス
トキュアしたことで、第1の絶縁層と第2の絶縁層とを
密着性よく強固に一体化することができる。
【0039】また、下層部導体回路は銅箔パターン回路
であり、上層部導体回路は第2の絶縁層上に形成された
メッキ層としたことで、第1の絶縁層に対して銅箔パタ
ーンを密着性よく形成することができ、第2の絶縁層に
対してメッキ層の剥がれを防止し密着性を高めることが
できる。
【0040】また、上層部導体回路であるメッキ層をブ
ラインドビアホールを介して下層部導体回路である銅箔
パターン回路に電気的に接続したことで、チップ部品実
装後の外力に対しても第1の絶縁層からメッキ層の剥が
れやランドの剥がれを防止することができる。
【0041】また、本発明による多層プリント配線板の
製造方法は、フォトレジストからなる絶縁層を介して形
成された下層部導体回路と上層部導体回路とを電気的に
接続するためのブラインドビアホールを有する多層プリ
ント配線板の製造方法において、絶縁性のコア材の表面
に形成した導体箔をパターン形成して下層部導体回路を
形成する工程と、コア材及び下層部導体回路上に当該下
層部導体回路と密着性が良好でかつ感光性及び絶縁性の
フォトレジストからなる第1の絶縁層を塗布する工程
と、第1の絶縁層上に粗化特性のよいフォトレジストか
らなる第2の絶縁層を塗布する工程と、第1及び第2の
絶縁層にブラインドビアホールを形成して下層部導体回
路を露出する工程と、第1及び第2の絶縁層と共にコア
材に貫通するスルホールを形成する工程と、第2の絶縁
層の表面を膨潤し粗化処理する工程と、ブラインドビア
ホール及びスルホールと共に第2の絶縁層の表面にメッ
キ層を形成し、当該ブラインドビアホールのメッキ層を
露出する下層部導体回路に導電接続する工程と、第2の
絶縁層のメッキ層をパターン化して上層部導体回路を形
成する工程と、からなるので、一回のメッキ層の形成で
ブラインドビアホールとスルホールのメッキ処理が行え
ると共に、その後のメッキ層のパターンニングにより配
線回路パターンを形成することができるので、メッキ層
が1層となりファインパターン化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】A.本発明による多層プリント配線板の製造の
初期工程図である。 B.銅箔回路パターン上に第1の絶縁層を形成した工程
図である。 C.第1の絶縁層上に第2の絶縁層を形成した工程図で
ある。
【図2】D.ブラインドビアホールとスルホールを形成
した工程図である。 E.ブラインドビアホールとスルホール及び外層面にメ
ッキ層を形成した工程図である。 F.メッキ層を配線回路パターンに形成した完成時の工
程図である。
【図3】従来の多層プリント配線板の製造の初期工程図
である。
【図4】スルホールにメッキ層を形成した工程図であ
る。
【図5】完成時の工程図である。
【符号の説明】
1 コア材、2,3 銅箔回路パターン、4,5 第1
の絶縁層、6,7 第2の絶縁層、8,9 ブラインド
ビアホール、10 スルホール、11 メッキ層、1
2,13 配線回路パターン

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フォトレジストからなる絶縁層を介して
    形成された下層部導体回路と上層部導体回路とを電気的
    に接続するためのブラインドビアホールを有する多層プ
    リント配線板において、 上記絶縁層は上記下層部導体回路と密着性が良好でかつ
    感光性及び絶縁性の優れている第1の絶縁層と、上記上
    層部導体回路と密着性及び粗化特性の優れている第2の
    絶縁層とからなることを特徴とする多層プリント配線
    板。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の多層プリント配線板にお
    いて、 上記第1の絶縁層と第2の絶縁層はポストキュアされて
    いることを特徴とする多層プリント配線板。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の多層プリント配線板にお
    いて、 上記下層部導体回路は銅箔パターン回路であり、上記上
    層部導体回路は上記第2の絶縁層上に形成されたメッキ
    層であることを特徴とする多層プリント配線板。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の多層プリント配線板にお
    いて、 上記上層部導体回路であるメッキ層がブラインドビアホ
    ールを介して下層部導体回路である銅箔パターン回路に
    電気的に接続されていることを特徴とする多層プリント
    配線板。
  5. 【請求項5】 フォトレジストからなる絶縁層を介して
    形成された下層部導体回路と上層部導体回路とを電気的
    に接続するためのブラインドビアホールを有する多層プ
    リント配線板の製造方法において、 絶縁性のコア材の表面に形成した導体箔をパターン形成
    して下層部導体回路を形成する工程と、 上記コア材及び上記下層部導体回路上に当該下層部導体
    回路と密着性が良好でかつ感光性及び絶縁性のフォトレ
    ジストからなる第1の絶縁層を塗布する工程と、 上記第1の絶縁層上に粗化特性のよいフォトレジストか
    らなる第2の絶縁層を塗布する工程と、 上記第1及び第2の絶縁層にブラインドビアホールを形
    成して上記下層部導体回路を露出する工程と、 上記第1及び第2の絶縁層と共に上記コア材に貫通する
    スルホールを形成する工程と、 上記第2の絶縁層の表面を膨潤し粗化処理する工程と、 上記ブラインドビアホール及びスルホールと共に上記第
    2の絶縁層の表面にメッキ層を形成し、当該ブラインド
    ビアホールのメッキ層を露出する上記下層部導体回路に
    導電接続する工程と、 上記第2の絶縁層のメッキ層をパターン化して上層部導
    体回路を形成する工程と、 からなることを特徴とする多層プリント配線板の製造方
    法。
JP14181496A 1996-06-04 1996-06-04 多層プリント配線板及びその製造方法 Pending JPH09326561A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002217542A (ja) * 2001-01-22 2002-08-02 Ibiden Co Ltd 多層プリント配線板
JP2002217543A (ja) * 2001-01-22 2002-08-02 Ibiden Co Ltd 多層プリント配線板
JP2005109307A (ja) * 2003-10-01 2005-04-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路部品内蔵基板およびその製造方法

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