JP2006511949A - 光パルスレーザ - Google Patents

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Abstract

本発明は、カーボンナノチューブ、特にカーボンナノチューブ層を、可飽和吸収体、モードロッカー、またはQスイッチング素子として用いるパルスレーザを提供する。また本発明は、カーボンナノチューブがモード同期とQスイッチングの両方またはいずれか一方を容易に行わせる非線形光学材料と可飽和吸収体の両方またはいずれか一方として用いられるレーザのモード同期を取り、レーザーにQスイッチングを行うための方法と材料を提供する。さらに、本発明は、カーボンナノチューブを有し、モード同期とQスイッチングの両方またはいずれか一方を行うための機能を果たす1つ以上の層を備える、モードロッカーと、Qスイッチング素子またはデバイスを提供する。

Description

本発明はレーザに関する。より詳しくは、本発明は、カーボンナノチューブ内蔵の、非線形光学素子とデバイスおよび可飽和吸収体素子とデバイスの両方またはいずれか一方を用いて、モード同期とQスイッチングを達成する光パルスレーザに関するものである。
光パルスレーザは、光通信、光信号処理、レーザ手術、生体医学、光学診断、2光子顕微鏡検査、光プロービング、光反射率測定法、材料加工など様々な分野で応用される将来性がある。光パルスレーザは大きく2つのタイプに分類される。すなわち、モード同期レーザとQスイッチレーザである。モード同期レーザは高繰返しで超短パルス光を発生させることができ、一方Qスイッチレーザは通常比較的低い繰返し周波数で高エネルギパルスを発生させるのに用いられる。
当該技術では公知のように、モード同期レーザは、均一に離間したパルスを発生するという一定の関係で、互いに同期した相対的位相で同時に発振する複数の縦モードを有する。縦モードは、レーザ共振器の有効光路長によって定義されるものである。モード同期を確立するためには、すべてのレーザ発振モード間の位相差が一定に保たれるようレーザ発振モードの位相を同期化するモード同期機構が必要となる。これらの光学的に位相同期したモードは、その後互いに干渉して光パルスを生成する。モード同期法の2つの大まかな分類である能動モード同期と受動モード同期が典型的には用いられ、このようなモード同期法を実行する多種多様な方法とデバイスが当該技術では公知である。米国特許第3,978,429号;4,019,156号;4,435,809号;4,665,524号;5,764,679号;5,802,084号;および5,812,308号では、モード同期レーザの例が開示されている。
能動モード同期法では、基本キャビティ周波数と同一の周波数、あるいは基本キャビティ周波数の整数倍または有理数倍の周波数で動作するレーザキャビティ共振器内で強度変調器あるいは位相変調器が用いられる。能動モード同期の一例が米国特許4,019,156に示されている。
一方、受動モード同期法では、連続発振光(cw発振光)よりも光パルス形成に有利な強度依存応答性を示した、発振キャビティ共振器あるいは、発振キャビティ共振器の外部の共振器であるがそれに光学的に結合した空洞共振器内において、少なくとも1つの非線形光学素子またはデバイスが用いられる。受動モード同期レーザでは、少なくとも1つの非線形光学素子がモードロッカーとして必要となる。非線形光学素子は、振幅非線形特性(入力光強度の非線形関数としての吸収率)、カー型(入力光強度の非線形関数としての位相率または屈折率)非線形特性、あるいは両者を組み合わせた特性を有してモード同期を容易にすることが可能である。振幅非線形特性は、たとえば(あらゆるすべての利用可能な可飽和吸収体のうちピコ秒領域での高速応答性を示すものはほとんどないが)MQW半導体といったピコ秒単位の高速回復寿命を持つ可飽和吸収体などのデバイスによって与えられる。あるいは、干渉計を用いたパルス追加方法[たとえばMark,1989またはIppen,1989を参照]やカーレンズ方法(カー集光、自己集光)[たとえばSpence,1991またはBrabec,1992を参照]で実施されるようなカー型非線形特性は、超高速レーザモード同期機構を与えるために用いることができる。可飽和吸収体ではないが、カー効果などの非線形光学特性によって、人工的な「可飽和吸収体」効果が得られる。この人工的な「可飽和吸収体」の反応時間は他のいかなる本質的な可飽和吸収体より速い。
可飽和吸収体は特定の動作波長領域で入射光強度に依存して光透明度が変化する材料である。入射光強度が弱い線形領域では、可飽和吸収体は入射光を吸収し、その結果入射光の光強度が減衰する。入射光強度がより高レベルにまで上昇すると、吸収の飽和が生じて可飽和吸収体による吸収が減少し、入射光の光強度の減衰が低下する。この強度依存減衰により、パルスの高強度成分は通過できるが、パルスの裾、ペデスタル、背景cw(連続光)放射などの低強度成分は通過できない。可飽和吸収体がレーザ発振キャビティに配置される場合、cwモードよりパルスモードが有利である。
しかし、すべての可飽和吸収体が超短パルスモード同期の用途に適しているわけではない。レーザモードロッカーの重要な特性は、飽和フルエンス、回復時間、非線形/線形吸収比率である。飽和フルエンスは、デバイス損傷閾値によって制限されるレーザ動作パワーレベルに影響を及ぼす。回復時間は、最短で達成可能なパルス幅とレーザ動作領域に影響を及ぼす。ある可飽和フルエンスとある回復時間で、レーザは4つの異なる動作領域、すなわち、(非パルス)cw発振、Qスイッチング、Qスイッチモード同期、cwモード同期の内、1つの領域で動作可能である。ピコ秒とサブピコ秒領域の短いデバイス回復時間は超短パルス生成で必要であり、ナノ秒領域の緩やかな回復時間はQスイッチングモードを引き起こすことができる。しかし、緩やかな回復時間は、モード同期レーザが自己起動する場合にも必須である。
したがって、モードロッカーはレーザをモード同期させるよう機能するという付加的な特性をさらに示す一種の可飽和吸収体である。モードロッカー材料はここではレーザ構成で有効なモードロッカー素子またはデバイスにおける基本材料であるが、ピコ秒およびサブピコ秒領域で動作するパルスレーザで効果的に使用するためにも、短回復時間および緩回復時間を示すことが好ましい。モードロッカーの特性を示さない(可飽和吸収などの)非線形特性を示す材料は多数ある。SWNTまたはSWNTとMWNTの組み合わせを含有する層を含むCNT材料はモードロッカー特性を示す。
受動モード同期レーザは、米国特許第3,978,429号と第4,435,809号に例示されている。能動モード同期機構と受動モード同期機構とを組み合わせた混成モード同期レーザも公知である。混成モード同期レーザの一例は米国特許第4,019,156号に開示されている。
レーザのQスイッチングと自己起動(起動パルス)でも、非線形光学材料と可飽和吸収体の両方またはいずれか一方を用いる。受動Qスイッチレーザについては、米国特許第4,191,931号;5,119,382号;5,408,480号に例示されている。
レーザのモード同期とQスイッチングに関して最も一般的に知られた可飽和吸収体は、有機色素媒体[たとえばIppen,1976を参照]や多重量子井戸(MQW)半導体デバイス[たとえばChemla,1986またはKeller,1992を参照]などの材料である。
染料などの有機材料は、数百ナノメートル(nm)にわたって広帯域吸収応答性を示す。しかし、レーザ構成において染料を用いるには、ノズルなどの機械的素子を用いなければならず、機械的素子は大きく機械的機能不良になりやすく、固体レーザと容易に一体化することができない。赤外線領域のより長い波長、特に1550nmの通信波長では、利用可能な色素媒体は可視光により損傷しやすいので、このような材料を取り扱うのがさらに困難になる。
MQW(多重量子井戸)半導体デバイスは、MOCVD(有機金属化学気相蒸着法)やMOVPE(有機金属化学エピタキシー法)などの複雑でコストのかかる製造システムを必要とし、さらに基板除去処理を要することもある。さらに、レーザモード同期のためにデバイスの(典型的には数ナノ秒の)回復時間を数ピコ秒に短縮するために高エネルギー(4MeVから12MeV)の重イオン注入が必要となる。MQW可飽和吸収体は反射モードでのみ利用可能であるので、光サーキュレータを備える必要があり、これにより総デバイス挿入損失が増加する。さらに、MQWに基づくデバイスは、長期間にわたる環境安定のためにコストのかかる気密封止を必要とし、高光入力パワーに耐えることができないことがある。これまで、MQWに基づく可飽和吸収体に匹敵するような1550nmの可飽和吸収体として有効な代替物としての材料は発見されていなかった。
したがって、レーザやその他光学デバイスの用途で使用するための非線形光学特性を示す材料および可飽和吸収体などの機能を有する材料が当該技術では必要とされている。本発明は、レーザ用途で新規な可飽和吸収体材料、カーボンナノチューブ、特に単層カーボンナノチューブの使用に関するものである。
近年、単層カーボンナノチューブ(SWNT)は可飽和吸収を示すことが報告されており[Y.−C.Chenら, 2002a; Y.Sakakibaraら, 2003]、光スイッチなどの材料として応用される可能性についても提案されている[Y.−C.Chenら, 2002a; Y.Sakakibaraら, 2003]。国際出願番号WO03/034142では、SWNTとSWNTを有するある光学デバイスの可飽和吸収特性が報告されている。提示された研究で用いられたZ走査測定技術では、デバイスの応答時間を測定していない。別の研究では、SWNTを含有する薄層の回復時間が、ポンププローブ実験で1ピコ秒(ps)未満であると測定された[Y.−C. Chenら, 2002a;Y.−C. Chenら, 200b;S. Tatsuuaら, 2003]。近年、ピコ秒領域での超高速光パルスの光学ノイズを抑制するために用いられる「ナノチューブ内蔵可飽和吸収体」(SAINT)と呼ばれるSWNTを含有する可飽和吸収体が報告されている[S.Y.Setら., 2003a]。
本発明の一部も報告されている。モードロッカーとしての、SAINTを用いた受動モード同期ファイバレーザ[S.Y.Set., et al., 2003b]。Qスイッチとしての、SAINTを用いたQスイッチレーザが報告されている[S.Y. Setら, 2003c]。
本発明は、パルス生成を容易にするために、カーボンナノチューブを非線形光学材料または可飽和吸収体材料として用いるパルスレーザを提供することを目的とする。特に、パルスレーザ構成において非線形光学または可飽和吸収体としてカーボンナノチューブを用いることに関する。
本発明は、カーボンナノチューブ内蔵の可飽和吸収体を用いたモード同期レーザとQスイッチレーザの両方またはいずれか一方からの光パルスを得ることを目的とする。本発明の光パルスレーザは、受動モード同期とQスイッチングの両方またはいずれか一方を行うために、非線形光学材料と可飽和吸収体の両方またはいずれか一方としてカーボンナノチューブを用いており、MQW半導体デバイスなどの可飽和吸収体として従来用いられてきた材料に勝る利点がいくつかある。この利点としては、非常に短い回復時間(1ピコ秒以下の単位)、真空または不活性ガス環境での高い光学ダメージ閾値、機械的および環境的信頼性、化学的安定性、好ましくはより低コストでの製造の容易性、ならびに透過(一方向)モードと反射双方向モードのいずれでも動作可能なことが挙げられる。特に本発明の非線形光学カーボンナノチューブ材料は、非線形光学半導体材料を用いた場合に達成可能なパルス長と同様な非常に短いパルス長(1から10フェムト秒単位)であるが、透過モードと反射双方向モードのいずれでも動作可能なレーザを製造することが可能となる。
本発明のレーザ構成は、利得媒体(または利得キャビティ)を含む共振器と、利得媒体内で光学利得を生成するような励起源と、非線形光学デバイス、特に共振器からの光が光結合できるカーボンナノチューブを備える可飽和吸収体とを備える。非線形光学デバイスは、レーザ発振波長で強度依存吸収を行う。モード同期とQスイッチングの両方またはいずれか一方により、このようなレーザ構成内で、励起ビームの光パワーとカーボンナノチューブ層の焦光点領域の場所に応じて、光パルスを生成することができる。
より具体的な実施形態によれば、レーザ構成は光リング共振器と、選択した波長または特定のスペクトル範囲内で励起ビームを生成する光学励起光源と、レーザの動作スペクトル領域全体にわたって光学利得を生じさせるために励起ビームの励起に応答する共振器内に配置される利得媒体と、カーボンナノチューブを備える可飽和吸収体と、共振器からの光を可飽和吸収体内に結合させるための手段とを備えて与えられる。レーザ構成は、一方向レーザ発振動作を確実に行うように光アイソレータと、レーザ動作波長を定義するように波長可変光バンドパスフィルタとを有していてもよい。可飽和吸収体は、レーザ発振波長で強度依存吸収を行うために、カーボンナノチューブの薄層、好ましくはある用途のために10ミクロン以下の薄層を備えているのが好ましい。
本発明の別の具体的なレーザ構成は、2つの反射素子に定義されるリニア共振器(利得キャビティ)と、選択した波長または特定のスペクトル範囲内で励起ビームを生成する光学励起光源と、レーザの動作スペクトル領域全体にわたって光学利得を生じさせるために励起ビームの励起に応答する共振器内に配置されるファイバ利得媒体と、共振器からの光を結合することができるカーボンナノチューブ可飽和吸収体とを有する。具体的な実施例において、カーボンナノチューブ可飽和吸収体を、モード同期を達成するためにキャビティの反射素子の1つにコーティング、吹き付ける、または蒸着した層として設けることができる。
別の実施形態によれば、本発明のカーボンナノチューブ可飽和吸収体を、モード同期とQスイッチングの両方またはいずれか一方を行うために当該技術では公知の任意のレーザ構成で用いることができる。たとえば、本発明のカーボンナノチューブ可飽和吸収体を、キャビティ設計の中でも特に、混成モード同期ファイバレーザ、シグマレーザ、衝突パルスモード同期レーザ、固体レーザ、8の字レーザ、非線形偏光回転レーザで使用することができる。具体的な実施形態によれば、本発明のカーボンナノチューブを含む非線形光学素子またはデバイスあるいは可飽和吸収体素子またはデバイスを、たとえば基板上か基板間の1つ以上の層として、モードロッカーやQスイッチャーとして用い、Qスポイラデバイス内で用いることができる。
これらのレーザ構成の例では、波長カプラを、励起ビームを利得媒体に結合させるのに用いることができる。当該技術で公知の様々な波長カプラを用いることができる。たとえば、共振器内の1つ以上の光学レンズを用いて、光を可飽和吸収体に結合させることができる。光パルスを、これらのレーザ構成を用いて、モード同期とQスイッチングの両方またはいずれか一方によって生成することができる。本発明のカーボンナノチューブ可飽和吸収体は、ピコ秒からフェムト秒のパルスまでを含めたパルスを生成するように、様々なレーザ構成のレーザを起動(自己起動)させて、モード同期をとることができる。カーボンナノチューブの強度依存吸収は、漂白可能な吸収を生じさせるエキシトン−吸収中心の数が限られていることが原因であると考えられている。さらに、可飽和吸収体としてこれらの材料の機能を容易にするのは、カー型非線形レンズ効果を生むカーボンナノチューブ材料内にある強度依存性の非線形位相シフト特性である。これら効果を利用して、レーザをモード同期し超短光パルスを生成する。
本発明によれば、カーボンナノチューブを備える可飽和吸収体を含む様々な光学デバイス素子が提供される。本発明のデバイス素子としては、可飽和吸収体デバイスまたは素子、レーザモード同期デバイス、レーザQスイッチングデバイス、およびレーザモード同期とQスイッチング用デバイスが挙げられる。通常、本発明は、モード同期素子またはデバイス、あるいはQスイッチング素子またはデバイスとしてカーボンナノチューブを用いたあらゆる光学デバイス素子を包含するものである。これらの素子とデバイスにおいて、カーボンナノチューブの直径は、選択した動作波長領域内での吸収が行われるように選択することができる。あるいは、これらの素子とデバイスにおいて、カーボンナノチューブを、異なる直径の範囲を有して、広い動作帯域幅となるように選択することができる。たとえば直径が異なるカーボンナノチューブを混合した物も使用することができる。本発明は、双方向と一方向のいずれでも動作可能で、反射モードと透過モードのいずれでも動作可能なモード同期およびQスイッチング素子およびデバイスを含む。
具体的な実施形態において、本発明によれば、カーボンナノチューブを含有する1つ以上の層(たとえばSWNTやSWNTとMWNTの混合)を有するモード同期およびQスイッチング素子とデバイスが提供される。別の好ましい実施例では、本発明の非線形光学素子とデバイス、および可飽和吸収体素子とデバイスは、カーボンナノチューブ、特にSWNTを主成分とする非線形光学材料または可飽和吸収体を含有し、カーボンナノチューブ、特にSWNTを主成分とする層からなる1つ以上の層内に設ければよい。カーボンナノチューブ層は基板上に設けられ、基板は素子またはデバイス内に配置され、素子またはデバイスは、動作中、カーボンナノチューブ層を通過する光源からの光(たとえばレーザ光)を受け取るように配置される。これらの素子およびデバイスは、波長固定でも波長可変でもよい光学フィルタ(たとえばバンドパスフィルタ)、反射面(たとえばミラー)、パルス整形素子(たとえば短い長さのシングルモードファイバ)を含むその他の光学素子をさらに備えるかそれと組み合わせてもよい。これらの素子およびデバイスにおいて、層の厚さは均一で良い。あるいは、カーボンナノチューブ層の厚さを均一に変動させても良い。特に、カーボンナノチューブ層の厚さを、モード同期とQスイッチング閾値光エネルギの両方またはいずれか一方を調整するように変動させることができる。具体的な実施形態において、モード同期とQスイッチング素子およびデバイスは、1つ以上の基板にある1つ以上の表面にカーボンナノチューブを含む1つ以上の層を有する。より具体的には、これらの素子およびデバイスは、一方の表面に1層のカーボンナノチューブ層を有する基板を備えることができ、この基板の他方の表面(または面)には反射防止(AR)コーティング、バンドパスフィルタ、あるいは非全反射の反射ミラー(すなわち反射率が99%未満、たとえば約1%と約99%未満の間の反射率のミラー)が選択可能に設けられる。非全反射の反射ミラーの例として、反射率が約10%から約90%の範囲のミラーやハーフミラー(反射率約50%)などが挙げられる。
具体的な実施形態において、本発明によれば、上記のモード同期素子またはデバイスとQスイッチング素子またはデバイスのうち1つ以上を備えるパルスレーザが提供される。別の具体的な実施形態では、本発明によれば、カーボンナノチューブを含むモード同期もしくはQスイッチング素子またはデバイスと、カーボンナノチューブを含まない公知的な能動、受動モード同期もしくはQスイッチング素子またはデバイスを含有するモード同期レーザである。本発明のモード同期およびQスイッチングを行うために素子およびデバイスと組み合わせられる能動モード同期デバイスは、強度変調器、位相変調器、または音響光学変調器を有する。
さらに、本発明によれば、リッジ型導波路や光ファイバ等の導波路内に、カーボンナノチューブを導入している。カーボンナノチューブを導波路の必要な部分にコーティングすることができ、さらにその表面上、もしくは内部(たとえば溝)に化学蒸着かその他の公知の方法を用いて生成させることができる。本発明はさらに、1つ以上の導波路を備える光学デバイスに関するもので、1つ以上の導波路は導波路を介した光路内にカーボンナノチューブを備える。導波路光路内に存在するカーボンナノチューブは、非線形光学材料と可飽和吸収体の両方またはいずれか一方として機能するのに十分な量だけ存在している。
非線形光学材料または可飽和吸収体は、単層(SWNT)、多層(MWNT)、または両方のタイプのカーボンナノチューブを有したその混合であるカーボンナノチューブを備える。好ましい実施形態において、非線形光学材料または可飽和吸収体は、SWNTかSWNTとMWNTの混合であるカーボンナノチューブを備える。ひとつの好ましい可飽和吸収体デバイスでは、カーボンナノチューブの層、膜、またはコーティングが基板の一方の面に設けられる。基板の他方の面に、反射防止(AR)コーティング、バンドパスフィルタ、または非全反射のミラーを選択的に設けることができる。可飽和吸収体デバイスのその他の構成において、カーボンナノチューブを2つの基板の対向する内面間の層として設けることができる。基板の外面には、ARコーティング、バンドパスフィルタ、または非全反射のミラーを設けてもよい。
非線形光学材料と可飽和吸収体の両方またはいずれか一方としてのカーボンナノチューブを備える本発明のモード同期とQスイッチングの機能の両方またはいずれか一方を持つ素子とデバイスは、たとえばパルスレーザ構成において、光学素子構成で、能動または受動モード同期およびQスイッチングを達成するために公知の(カーボンナノチューブを含まない)可飽和吸収体素子とデバイスと組み合わせることができる。本発明のモード同期とQスイッチングの両方または一方の機能を持つ素子とデバイスと組み合わせ可能な当該技術で公知の素子とデバイスとしては、特に、半導体可飽和吸収体ミラー、色素可飽和吸収体、非線形ループミラー、非線形偏光回転スイッチ、カー型レンズデバイス、自己焦点、ソリトン効果、結合キャビティモード同期デバイス、追加パルスモード同期デバイス、および衝突パルスモード同期デバイスが挙げられる。
さらに、本発明によれば、モード同期、Qスイッチレーザまたは本発明のモード同期とQスイッチングを組み合わせた混成レーザを用いて、レーザ光パルス(光パルス)を生成するための方法が提供される。この方法は、カーボンナノチューブを備えるモードロッカーまたはQスイッチャーを設ける工程を有する。モードロッカーまたはQスイッチャーは、レーザ構成内で共振器と光結合する。当該技術で公知の任意のレーザ構成を用いることができ、特にレーザはリングレーザ、ファブリペロー(FP)リニア共振器構成レーザ、シグマ構成レーザ、または衝突パルスモード同期(CPM)構成レーザのいずれかであればよい。この方法はさらに、レーザ構成内でレーザの共振器に光結合する、カーボンナノチューブを有さない1つ以上の非線形光学材料または可飽和吸収体を設ける工程を有する。本発明の素子、デバイス、およびレーザを、短光パルスを生成するためにレーザを受動モード同期するための方法にも用いることができる。本発明によれば、(様々な所望の波長で、ただし好ましくは光通信に効果的な波長領域で)長さが<5ピコ秒、<2ピコ秒、<1ピコ秒、<500フェムト秒、<100フェムト秒、<50フェムト秒、または<10フェムト秒の短光パルスを生成するデバイスと方法が提供される。
図1は、本発明の第1の実施例にかかる、リングキャビティでカーボンナノチューブ(CNT)を用いた受動モード同期光パルスレーザの構成を示し、受動モード同期素子(CNT可飽和吸収体)と結合するための一例としての能動ファイバ、励起レーザ、および特にコリメータとレンズの組み合わせを利用することを示し、FC/PCコネクタと溶着接続点の位置づけが具体的な構成について示されている。
図2は、図1に示す構成のレーザから生成されたFWHM幅が1.1ピコ秒である光パルスの自己相関波形を示すものである。
図3は、図1に示す構成のレーザから生成される3dBスペクトルの幅が3.7nmである光パルスの光スペクトル測定値を示すものである。
図4は、図1に示す構成のレーザから生成される基本パルス繰返しが6.1MHzであるモード同期光パルスのサンプリングオシロスコープのトレースを示すものである。
、図1に示す構成のレーザから生成される繰返しが12.2MHzで動作する第二高調波のモードロック光パルスのサンプリングオシロスコープのトレースを図5に示す。
図6は、図1にかかるレーザから生成される、Qスイッチング領域で動作するQスイッチパルスのサンプリングオシロスコープのトレースを示すものである。FWHM幅の測定値は4ミクロン秒で、繰返しは37.5kHzである。
図7は、図1にかかるレーザから生成される、Qスイッチング領域で動作するQスイッチパルスのサンプリングオシロスコープスペクトルの測定値を示すものである。
図8は、本発明の第2の実施例にかかる、リニア共振器キャビティ内の、カーボンナノチューブ可飽和吸収体を用いた受動モード同期光パルスレーザの構成を示すものであり、第1の実施例同様、能動ファイバ(増幅器)と励起レーザの一例が示されており、一つの構成例におけるFCとPCコネクタおよび溶着接続点が示されている。
図9は、図8にかかるレーザから生成される基本パルス反復度が9.8MHzであるモード同期光パルスのサンプリングオシロスコープのトレースを示すものである。
図10は、3dBスペクトルの幅が13.66nmである場合の、図8にかかるレーザから生成されるモード同期光パルスの光スペクトルの測定値を示すものである。
図11は、図8にかかるレーザから生成される推定FWHM幅が318フェムト秒である光パルスの自己相関波形を示すものである。
図12-A乃至12-Cは、リングレーザ構成を示すもので、図12-Aは一方向リング構成を示す。図12-Bは、双方向リング構成と衝突パルスモード同期(CPM)の応用を示す。図12-Cは、混成モード同期を有した一方向リング構成を示す。
図13-A乃至13-Eはリニアレーザ構成の一例を示すもので、図13-Aは、フィルタがミラーから分離しているリニア構成を示し、図13-Bは、図13-Aの構成に対応した混成モード同期線形構成を示し、図13-Cは、フィルタとミラーとしての反射ミラーを有したリニア構成を示し、図13-Dは、単一素子としてのCNT可飽和吸収体と反射ミラーを有したリニアレーザ構成を示し、図13-Eは、単一光素子内に反射ミラー、フィルター、およびCNT可飽和吸収体層を組み合わせたリニアレーザ構成を示し、図13-C乃至13-Eの構成は、図13-Bに示すように、変調器を図示の構成に光結合させることにより、混成モード同期構成で実施可能である。ゲインと書かれた素子は、適切な波長放射で励起する共振器または増幅器などの増幅したレーザ光源を表し、図13-A乃至13-Eに示すハーフミラーは、たとえば反射率が99%未満のミラーなど、全反射でないミラーであればよい。
図14-A乃至14-Dは、本発明の別のレーザ構成を示すものであり、図14-Aは好ましくは低ピークパワーで用いられるCNT層にレンズが結合したリニア自由空間構成を示し、図14-Bは図14-Aに類似した構成であって、好ましくは高ピークパワー時に用いられるレンズ結合の構成を示し、図14-Cは、干渉距離が変化するとレーザの周波数(および波長)が変化することを示す、自由空間レーザ構成の総括的図示であり、図14-Dは、図14-Cに示した自由空間レーザ構成のうちErドープガラスがSOAに置き換えられている構成を示す。
図15-A乃至15-Cは、本発明の別のレーザ構成を示すものであり、図15-A乃至15-Cは可飽和吸収体素子の配置が異なる、3つの異なるシグマ自由空間レーザ構成を示している。
図16-Aは、高繰返しのリニア型レーザについての簡潔な構成を示すものである。この構成は強度が高いがピークパワーが低い場合についてのものである。レーザレンズが取り除かれると、レーザは強度が低いがピークパワーは高くなる。図16-Bは、図16-Aの構成のレーザの拡大図であって、レンズが光をCNT層内に合焦させ、CNT層から光を集光させることが示されており。図16-C乃至16-Eは、図16-Aと16-Bのレーザ構成においてレーザ波長とレーザ反復率を調整するための手段を示している。(x方向として示されている)レーザ素子の長さに沿って異なる点で光ビームを集光させると、レーザ波長が変化する。図16-Dにおいて、レーザ波長はより短い波長にシフトしており、図16-Eにおいて、レーザ波長はより長い波長にシフトしている。
図17-A乃至17-C、図17-J乃至17-M、および図17-R乃至17-Tは、基板面(175)上のCNT層(170)である(図17-Rに示す)ベースカーボンナノチューブ(CNT)ユニットを有するカーボンナノチューブを備える様々なモード同期可飽和吸収体デバイス構成を示すものである。CNT層は、過飽和吸収体デバイスを1つ以上のレンズの焦点に配置して、カーボンナノチューブの層を吹き付けたり、CNTを樹脂または接着剤と組み合わせたり、その他の蒸着方法で層を形成することにより作製される。図17-Aは、2つの基板層(175)に挟まれたCNT層(170)のデバイス構成を示す。基板層には、反射防止コーティング(180)がもうけられている。又、ARコーティングの一方はバンドバスフィルタ(181)で置き換えてもよい。図17-Bは、一方の基板表面がCNT層を有し、他方の表面がARコーティングを有する単純な構成を示す。図17-Cは、CNT層が基板(175)の間に挟まれ内部ミラーまたは帯域反射ミラー(190)を備えたより複雑な反射モードデバイス構成を示す。外側のARコーティング(180a)は任意である。図17-Dと17-Eは、可飽和吸収体がレンズの焦点に配置された、可飽和吸収体モード同期デバイス内へ結合させるための透過構成(低ピークパワー時の構成)を示す。光ビームはファイバ内に向かって生じ制御することができる。図17-Fは、反射構成である。図17-G乃至17-Iは、図17-D乃至17-Fの構成に類似するが、(高ピークパワーで)光が平行にCNT層に入射する構成を示す。図17J乃至17Mは、可飽和吸収体がファブリペロー構造内で挟まれている、より複雑な可飽和吸収体デバイス構造を示す。図17-Jでは、CNT層を2つのハーフミラー(195)の間に配置する。挟まれたCNT層はさらに2つの基板層(175)に挟まれる。基板層には図示のようにARコーティングかバンドパスフィルタを設けてもよい。図17-Kは、CNT層が2つの基板層に挟まれ、外側の基板層に図示のようにハーフミラー(195)かバンドパスフィルタ(181)が設けられているデバイス構成を示す。図17-Lは、CNT層とミラーまたは帯域反射ミラー(200)が2つの基板層に挟まれている、反射モードで用いられる構成を示す。図17-Mもまた、CNT層がハーフミラーとミラーまたは帯域反射ミラー(200)に挟まれている、反射モードで用いられる装置構成を示す。CNT/ミラー層はさらに2つの基板層に挟まれ、基板の外面に図示のようにARコーティングを設けることができる。これらの構成において、ハーフミラーを非全反射のミラー(すなわち反射率が99%未満のミラー)に置き換えることができる。図17-N乃至17-Qは、光がCNT層に合焦した図17-J乃至17-Mのデバイス構成を用いた透過および反射モード時の構成(低ピークパワー時の構成)を示している。これらの構成を図17-G乃至17-Iに示すように、高ピークパワー時について実施することも可能である。
図17-R乃至17-Tは、別の可飽和吸収体モードロッカー構成を示すものである。図17-Rは、CNT層が基板上に設けられた基本構成である。図17-S乃至17-Tは、複雑な可飽和吸収体ミラー(SAM)構成である。図17-Sおよび17-Tのデバイス構成は、図17-U乃至17-Zのすべてのレーザ構成で利用可能である。
図17-AA乃至17-ADは、低ピークパワー時の複雑なグレーティング型構成を示すものである。これらの構成では、図17-Aの可飽和吸収体構成を用いている。高ピークパワー時の構造で用いる場合入射光が平行な、類似したグレーティング型構成を用いることも可能である。
図18-Aと18-Bは、CNTを層または素子として設けることができる導波路構造を示すものである。図18-Aは、複数の導波路を有した導波路素子を示す。図18-Bは、図18-Aの素子内にあるいくつかの導波路の拡大図である。図18-C乃至18-Fは、CNT層を有するかまたはドーピングが成された導波路のデバイス応用構成を示す。図18-Cは可飽和吸収体導波路である。図18-Dは、可飽和吸収体とErドープされたゲイン導波路を示す。図18-Eは、可飽和吸収体と、ゲイン及び、モード同期導波路を示す。導波路素子には、図示の通りミラーが設けられる。図18-Eは、可飽和吸収体と、導波路の一部がCNTでドーピングされ(あるいはCNT層を有して)、導波路の第二の部分が能動導波路(すなわちEr添加されている)である利得導波路である。図18-Gは、可飽和吸収体と、利得と、図示のようにデバイスにミラーが設けられているモード同期導波路である。図18-C乃至18-Gの導波路はレンズと光結合する。図18-H乃至18-Lは、図18-C乃至18-Gに類似した導波路構成であるが、導波路がファイバと光結合した導波路構成である。
図19-Aと19-Bは、CNT層を有するファイバフェルールデバイスを示すものである。
図19-Cと19-Dは、CNTを備えるファイバフェルールエタロンデバイスを示すものである。
図19-Eと19-Fは、空洞長が調整可能であり、ミラー間の距離はファイバフェルールの少なくともひとつを移動させることにより調整可能である(すなわちピエゾモータを有したファイバフェルールエタロンデバイスを示すものである。
図19-gと19-Hは、ファイバフェルール端部が一定の距離である、別のファイバフェルールを示すものである。このデバイスは、レンズ構成を介して自由空間結合を利用する。
図20-Aと20-Bは、(図20-Bに示す)バンドパスフィルタと可飽和吸収体としてサーキュレータと組み合わせて用いられるCNTでドーピングされたFBG(図20-A)を示すものである。
図21は、MINT損失(dB)と閾値電流(mA)を関連づけたグラフであり、モード同期とQスイッチングを行うためのレーザパルス閾値と動作領域を示している。
「カーボンナノチューブ」という用語は、ここでは、当該技術においてこの名称で呼ばれてきたすべての材料を包含するものとして広い意味で使用する。理想的なナノチューブは、カーボン原子の六角形ネットワークで構成されたシームレスの柱状に形成しており、直径がナノメートル単位で長さが最大数十ミクロンである。。カーボンナノチューブの端部は、典型的にはフラーレン分子の半分で覆われる。カーボンナノチューブは単層でも多層でもよい。ナノチューブはジグザグ、アームチェア、またはらせん構成をとればよい。ナノチューブは、J.W.G. WildOerら, 1998で定義されているように、半導体カーボンナノチューブか金属カーボンナノチューブとなる。
カーボンナノチューブの合成方法だけでなくカーボンナノチューブの種類、構造、および特性についての一般的な情報は、P.J.F. Harris (2001)とD. Tomanek and R. Enbody (eds) 2000に記載されている。SWNT、MWNT、またはこれらの混合を含有し、純度レベルが変化し、様々な方法で製造されるカーボンナノチューブ材料は、種々の商業ソース、特にシグマ・オールドリッチ(Sigma−Aldrich) (ミズーリ州セントルイス)、MER(アーカンソー州トゥーソン)、バッキーUSA(BuckyUSA)(テキサス州ヒューストン)、ハイピリオン・カタリシス・インターナショナル(Hyperion Catalysis International, Inc.)(マサチューセッツ州ケンブリッジ)、カーボンナノチューブ・ナノテクノロジーズ(Carbon Nanotechnologies)(テキサス州ヒューストン)、Nanocs(ニューヨーク州ニューヨーク)、およびナノ・ラブズ(Nano Labs)(マサチューセッツ州ブライトン)から市販されている。アプライド・ナノテクノロジーズ(Applied Nanotechnologies, Inc.)(ノースカロライナ州チャペルヒル、ANI)は、膜厚がサブミクロンから10ミクロンの範囲内のガラス、シリコン、および金属を含む様々な基板上のSWNT膜の商業的供給源である。
カーボンナノチューブは「グラファイトウィスカーズ」、「フィラメントカーボン」、「グラファイトファイバ」、「極細カーボンチューブ」、「カーボンチューブ」、「カーボンファイバ」、「カーボンマイクロチューブ」、または「カーボンナノファイバ」とも呼ばれることがある。ここに挙げた名称や当該技術で用いられるその他の名称のいずれかで示され、カーボンナノチューブと現在呼ばれる材料の構造と特性を有する材料はすべて、ここで用いる「カーボンナノチューブ」という用語に包含されるものである。
カーボンナノチューブ(CNT)の合成方法としては当該技術で様々な方法が知られている。本発明において非線形光学材料として有効なCNTは当該技術で知られた任意の方法で準備できる。たとえば、非線形光学材料と可飽和吸収体の両方またはいずれか一方として本発明で用いられるカーボンナノチューブ材料を製造するために以下の引例に記載の合成純化方法を用いることができる:米国特許第6,455,021号;6,331,262号;6,413,487号;6,361,861号;6,333,016号;6,331,209号;6,350,488号;6,331,690号;6,303,904号;6,183,714号;5,753,088号;5,482,601号。
カーボンナノチューブを、(下に記載のように)随意に精製が引き続き行われるレーザアブレーション技術を利用して準備するのが好ましい。合成方法により、カーボンナノチューブの直径を制御できるのが好ましい。直径が制御されたSWNTの製造については、たとえばKatauraら、2000と米国特許第6,331,690号に記載されている。カーボンナノチューブは、表面に層、膜、あるいはコーティングを残すように、後に蒸発可能な溶媒または液体内のカーボンナノチューブの溶液かまたは浮遊液を、吹き付けるかそうでなければ散布することにより基板と導波路表面の両方またはいずれか一方にコーティングする。また、当該技術で公知の化学蒸着技術を利用して、基板か導波路に膜、層、およびコーティングのすべてまたはいずれかひとつを準備することができる。たとえば、米国特許第6,350,488号;6,331,209号;6,361,861号を参照。アルコールを用いた最近の合成方法(Maruyamaら,2002、「低温アルコール触媒CVD方法」)を利用して、SWNTを直接基板上、あるいは溝か導波路内に増やすことも可能である。
半導体カーボンナノチューブであるカーボンナノチューブと金属カーボンナノチューブであるカーボンナノチューブを用いることができる。Wilderら, 1998を参照。CNT試料は、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ、またはその混合を含有することができる。カーボンナノチューブの好ましい混合物は、単層ナノチューブを多量(存在するカーボンナノチューブの50重量パーセントより多い)に含有し、多層カーボンナノチューブと、非晶質カーボン、カーボンNan粒子、金属または金属イオン、あるいは金属含有Nan粒子などのその他の不純物を単層ナノチューブより低いレベルで含有するのが好ましい。金属をカーボンナノチューブの合成において触媒として用いてもよい。以下に記載のレーザアブレーション方法で準備した実質的に半導体単層ナノチューブを含有すると考えられるカーボンナノチューブ試料を用いて実験を行った。カーボンナノチューブの直径または直径分布が約0.6nmから約2nmの間であるように選択できる試料が好ましい。この直径範囲は、通常S1または半導体第一位帯域について1.03マイクロメートルから2.64マイクロメートル(μm)の範囲の波長に対応する。S2、S3、S4などのような、より高位の帯域になるほど波長が短くなる。たとえば、対応するS2帯域は517nmと1380nmの間であればよい。
混乱を避けるために、超高速レーザモード同期に適した特性を備える、上記の説明で「SAINT」と呼んでいたデバイスを、超高速モード同期に適したこのような特性を持つ可飽和吸収体の特殊なタイプとして分類するために、ここでは「MINT」(カーボンナノチューブ内蔵モードロッカー)と呼ぶことにする。これらの適切な特性は、(モード同期がQスイッチングモードより優位になるよう緩回復時間成分より短回復時間成分が優勢である)レーザのモード同期と自己起動それぞれについて短回復時間と緩回復時間を持ち、安定モード同期を容易に行うためにレーザのパルスピークパワーに応じて変化する適切なレベルの飽和フルエンス(飽和フルエンスが高すぎるとレーザはモード同期せず、飽和フルエンスが低すぎると不安定になる)と、適切な非線形吸収レベル(飽和吸収レベルが高いとQスイッチが不安定になり、飽和吸収レベルが低すぎるとモード同期が発生しない)とを示し、約0.2から約1.2デシベルの範囲の吸収レベルが好ましいモード同期動作範囲であることが見出されている(図21を参照)。
本発明を、図面を参照しながらさらに説明する。図1は、カーボンナノチューブ(CNT)をリングキャビティで非線形光学材料(NLO)または可飽和吸収体(SA)として用いた受動モード同期光パルスレーザの構成を示すものである。このシステムにおいて、キャビティは利得媒体として希土類添加ファイバ増幅器の長さを有するファイバリングキャビティである。この媒体は、1550nm波長領域で動作するために、少なくとも1種類の希土類イオン、好ましくはエルビウム(Er)で添加されているのがよい。他の添加物は、他の動作波長で利得を提供する為に、たとえば、1030nmの範囲で、Yb+3で添加して、利得を提供する為などに用いられてもよい。また、ErとYbを一緒に添加することにより、ファイバ増幅器の長さあたりの利得を増加できるので、キャビティの全長を減らす事ができ高い繰返し周波数が得られる。図1に示すようにEr添加ファイバは、励起光源、好ましくは利得媒体のレーザ動作波長より短い波長のレーザダイオード(LD)により励起される。市販の980nm励起LDは、200ミリアンペア(mA)の供給電流で駆動されると、通常100ミリワット(mW)以上の光パワーが与えられる。
980nmLDは、980/1550波長カプラとともに用いられ、このカプラは励起光を低損失でEr添加ファイバ(EDF)に結合する。2つの光アイソレータを用いて、リングレーザの一方向の動作を確実なものとして、後方反射がEr添加ファイバ利得媒体に及ばないようにする。EDFからの出力光はファイバコリメータと集光用非球面レンズを介して、CNTの薄層に向かって放射される。CNTは石英基板に吹き付けコーティングされる。CNT層の集光用非球面レンズからの距離に応じて、カーボンナノチューブの入射光の強度を変動させることができる。CNTは弾力特性を備えているので、CNT層を、最大の効果が得られるように焦光点(約5ミクロンのスポット径)の光強度が最大となる焦点に配置するのが好ましい。CNTからの出力光は収束されて別の整合非球面レンズとコリメータの組を介してファイバキャビティ内に再放射される。
光学的には、薄膜フィルタなどの光バンドパスフィルタは共振キャビティ内に挿入されてレーザの波長調節をする。たとえば、角度可変光バンドパスフィルタを図1に示すように使用することができる。約3デシベル(dB)の損失と最大7nmの帯域幅(BW)を有する角度可変光バンドパスフィルタが利用できる。シングルモードファイバ(SMF)の短い長さをパルス整形と超短パルス動作をさらに助けるのに利用できる。レーザの出力は、カプラファイバのポートの95%を介して分岐され、ポートの残りの5%はキャビティへのフィードバックに用いられる。この構成により通常の10%出力分岐に比べるとより高い出力光パワーが得られる。キャビティ内部のパワーは、利得媒体の飽和パワーによって定義され、95%出力分岐で得られるパワーの10%出力分岐の9.5倍である。このことはレーザの低閾値動作によって可能となる。95%出力分岐と5%キャビティフィードバックの閾値励起パワーはわずか15mW程度である。(MQWデバイスをモード同期で使用するファイバレーザの典型的な閾値励起パワーは、10%出力タッピングであっても、最大60mWである)。光アイソレータを、レーザの出力ポートに配置して、レーザを不安定にしかねないレーザ空洞内への後方反射を防ぐこともできる。
CNTの可飽和吸収特性は、パルス動作の開始(自己起動する)と、レーザのモード同期の一部を補助する。
図1のモード同期レーザの閾値パワーは非常に小さい。励起LDがオンになり約18mW(45mA励起電流)レベルの光励起パワーになると、レーザはモード同期を開始して往復時間内で複数のパルスを生成する。しかし、レーザのパルス動作開始後は、図4に示すように、基本波の繰返しが6.1メガヘルツ(MHz)の単パルスモードでは、励起パワーは約14mW(37mA励起電流)レベルまで減少するが、レーザはまだパルス動作を継続して行っている。平均出力光パワーの測定値は−5.8ディービーエム(dBm)である。15mWより高い励起パワーでは、レーザは多重パルスモードで動作し、その結果、基本波の往復周波数6.1MHzの倍数の繰返しとなる。図5に示す例は、レーザが12.2MHzの第二高調波の繰返しでモード同期している。レーザの平均出力パワーは、キャビティ内のパルス数に比例して線形に増加する。
図1に示すレーザの出力モード同期パルス出力の自己相関波形を図2に示し、レーザ構成の出力スペクトルを図3に示す。自己相関波形とスペクトルは、sech型パルスプロファイルによく適合し、ソリトンパルスが生成されることを示している。なお、(図3の)パルススペクトル内の分散側波帯はsech型ソリトンレーザの典型的な特徴である。自己相関波形から推定した半値全幅(FWHM)は、最大1.1ピコ秒(psec)であり、光スペクトルから測定される3dBパルスのスペクトル幅は3.7nmである。これは時間−帯域幅の積である0.52に対応し、出力パルスにチャープが生じていることを示している(無チャープのフーリエ変換限界sech2型パルスの場合、時間−帯域幅の積0.315となる)。
さらなる測定により、チャープは最大7mのSMFの分散と等価であることが示されている。(出力ファイバピグテールは最大5mのSMFの長さであると推察される。)出力部で低分散ファイバを用いることによって、パルス内のチャープを減少させることができる。その他の選択肢としては、異なる出力端を用いる、無チャープのフーリエ変換限界パルスを生成するように外部分散補償を利用するなどがある。
カーボンナノチューブ可飽和吸収体をレーザ空洞から取り去ると、励起パワーが100mWに上昇してもレーザをモード同期させることができない。これは、CNTにより、特に非常に低い閾値励起パワーで、モード同期動作を開始させてそれを維持するのに必要な機構が与えられることを証明するものである。
カーボンナノチューブの薄膜、好ましくは約10ミクロンメートル以下、より好ましくは1ミクロンメートル以下の厚さの薄膜において、励起子吸収を行うよう設計されたCNTについてその波長で光のための吸収中心として利用可能なCNTの数には限りがあると言われており、したがって吸収は可飽和である。しかしながら、より一般的には、使用可能なカーボンナノチューブのある層の厚さはある用途で得られるようにと所望される吸収レベルに依存する。使用される1つの層、膜、またはコーティング内でのCNT濃度あるいは密度は、1%から99%までの有効光吸収を行うのに十分なものであることが好ましい。
CNTは、実質的には、1550nmにおける波長領域内でエキシトン吸収を行うように選択された直径をもつ単層ナノチューブ(SWNT)であるのが好ましい。当該技術で公知の方法を用いて、カーボンナノチューブ、特に特定の波長の光を吸収するための特定の直径の単層カーボンナノチューブ、または広い波長領域をカバーするよう選択される直径分布を有するカーボンナノチューブを製造することができる。カーボンナノチューブの直径を制御することによって、1.2マイクロメートルから2.0マイクロメートルまでの波長領域の光を吸収するCNT可飽和吸収体を設計することができる。
さらに、可飽和エキシトン吸収とは別に、CNTは強度依存非線形位相特性(カー型非線形特性)も有しており、CNT層内のカーレンズ効果がモード同期を助けることができる。この特性は、図1に示すようなカーシャッターあるいはカーレンズ動作によって、シャッター(アパーチャ)として機能するCNT層からの出力レンズ系の配置に有効である。
CNT層上のある焦点位置にある図1に示すレーザは、高い励起パワー(100mW)で励起される場合でもモード同期領域で常に動作する。しかし、CNT層上の焦点位置が別の位置に変化すると、吸収が大きくなり、レーザは受動Qスイッチング領域でも動作できるようになる。これは、基板上のCNT層が一定の厚さで蒸着されていないことによる。基板上の焦点位置に応じて、CNT層の様々な厚さの異なる領域を選択することができる。Qスイッチ領域では、ビームは実際にCNT層の端部近くに合焦する。端部では厚さがより不均一になると思われる。この領域での線形透過損失の測定値は0.5dBで、これはモード同期領域での線形透過損失よりも高い。(コバルトやニッケルなどのわずかな量の転移金属触媒の不純物がQスイッチング効果をもたらす補助剤として機能する場合もある。)
図6は、図1のレーザからQスイッチにおいて生成された出力をPIN光検出器で測定し、デジタルサンプリングオシロスコープで
トレースしたものであり、図7はその出力スペクトルを示すものである。Qスイッチングを達成するための閾値は、75mWより高い励起パワーである。それより励起パワーが低いと、レーザはモード同期動作に復帰する。励起パワーに応じて、Qスイッチパルスの繰返しが(75mWから95mWまでの励起パワーを関数として)34.55キロヘルツ(kHz)から37.45kHzにわずかに変動する。対応するパルス幅も5.32ミクロン秒から4.04ミクロン秒に同様に変動し、平均出力パワーは0.90dBmから2.10dBmに変動する。
レーザパワーは、パルス生成を行うために、当該技術で公知なように調整する必要もある。1550nmで動作し、980nmで励起する典型的なエルビウムドープファイバモード同期レーザの場合、モード同期に必要な励起パワーは通常20mWから200mWの範囲内である。モード同期を開始させるのにはより高い励起パワー[40−80mW]が必要であるが、一旦モード同期になれば、励起パワーを減少させることもできる[20−40mW]。ここで開示する一例としてのレーザの自己起動パワーは非常に低く、最大20mWで、モード同期は15mW程度の低い励起パワーで維持できる。
図8は、本発明の第2の形態を示すものであり、線形共振器空洞内のモード同期レーザである。構成要素はいずれも図1を参照して説明した通常の機能を有している。ファラデー回転子ミラー(FRM)は、空洞内の偏光変動を補償するのに用いられる。この構成において、CNTはミラーと一緒に反射モードで使用される。CNT層はミラー表面に配置され、2つのレンズがCNT表面の小スポット内に入射ビームを合焦させるのに用いられる。その後、光は線形空洞内に再び反射する。図8のレーザは、図1のレーザに比べ、より単純に構築されるものである。
図9は、PIN光検出器を用いて測定した図8のレーザのデジタルサンプリングオシロスコープのトレースを示すものであり、9.849MHzの基本波のキャビティ繰返しで動作するレーザ出力パルスを示している。図10に示すパルスの出力スペクトルは、3dBスペクトルでの幅が13.6nmでガウス分布形状をなす。図11は、ガウス型で推定したFWHM幅が318フェムト秒である、モード同期パルスの自己相関波形自己相関波形を示すものである。ガウスパルスについて無チャープのフーリエ変換限界値は0.441であるのに比べ、時間−帯域幅の積の計算値は0.543である。25mWの励起パワーで励起されるときの平均出力パワーは1mW近くになる。
別の光学デバイス、デバイス構成、およびカーボンナノチューブを非線形光学デバイスと可飽和吸収体デバイスの両方またはいずれか一方で用いるレーザ構成を、図12-A乃至12-C、図13-A乃至13-E、図14-A乃至14-D、図15-A乃至15-C、図16-A乃至16-E、および図17-A乃至17-Dに示している。導波路構成は図18-A乃至18-Lに、ファイバフェルール構成(ファブリペロー構成)を図19-A乃至19-Hに示している。
非線形光学特性と可飽和吸収体特性の両方またはいずれか一方を有するデバイス、特にモード同期に用いられるデバイスは、たとえば基板にコーティングされるか塗布されたSWNT膜、あるいはSWNTとMWNTを組み合わせた膜などのカーボンナノチューブの層に基づいて製造できる。基板は、透明基板、不透明基板、または透明な部分と不透明な部分を含有するものであればよい。基板の裏側には薄膜層をコーティングして、AR(反射防止)コーティング、バンドパスフィルタ、あるいはハーフミラーを形成することもできる。図17-A乃至17-Zは、非線形光学特性と可飽和吸収体特性の両方またはいずれか一方を備えた応用デバイスを示したものである。
図17-D乃至17-Eは、バンドパスフィルタ、ミラー、バンドパスフィルタとミラー、および平面可飽和吸収体の機能を有する1パス/非キャビティ構造を示すものである。これらの構造では、ピークパワーは低いと仮定しているので、光はレンズを使って収束され、カーボンナノチューブ材料内のパワー密度が高くなる。
図17-G乃至17-Iは、バンドパスフィルタ、ミラー、バンドパスフィルタとミラー、および平面可飽和吸収体の機能を有する1パス/非キャビティ構造を示すものである。これらの構造では、ピークパワーは高いと仮定されるので、光を収束する必要もなく、あるいは(コリメータレンズの出力のように)平行を保つ必要もない。収束用にさらに別のレンズも必要としない。
図17-N乃至17-Qは、カーボンナノチューブ材料が2つの反射ミラーの間にあるキャビティ内に配置されている多重パスキャビティ(ファブリペロー型)共振構造を示すものである。これらの構造では、ピークパワーは低いと仮定されるので、光はレンズを使って収束され、空洞内のカーボンナノチューブにおけるのパワー密度が高くなる(スポット径が小さくなる)。これらの構成を用いて、可飽和閾値パワーを低下させ、デバイスの可飽和吸収体特性を高めることができる。カーボンナノチューブ材料が2つの反射ミラーの間にあるキャビティ内に配置されている多重パスキャビティ(ファブリーペロー型)共振構造を、図17G乃至17Iに示した。ピークパワーが高く、光を収束させたり(コリメータ出力のように)平行を保つ必要もない構造と類似した配置にすることもできる。これらの構造を用いて、可飽和閾値パワーを低下させ、デバイスの可飽和吸収体特性を高めることができる。パワーが低い場合は、カーボンナノチューブ層内でスポット径が小さくなるよう光を収束させるのに、2レンズ構成を利用することもできる。
図17-Sと17-Tは、CNT層を用いた可飽和吸収体ミラー(SAM)を示すものである。これらの構造を用いた構成は、図17-U乃至17-Zに示されている。
図17-AA乃至17-ADは、可飽和吸収体のグレーティング構成を示すものである。これらの構成は、低ピークパワー構成や高ピークパワー構成に取り入れることができる(具体的には図示しない)。
可飽和吸収体層をグレーティングとフィルタの両方またはいずれか一方と組み合わせた図に示したデバイス構成は、レーザ構成に用いたり、光学用途に一般的に用いることができる。
図18-A乃至18-Lは、導波路とその応用を示すものである。図18-C乃至18-Eは、レンズ構造を介した導波路内への光結合と、導波路からの光結合を示すものである。図18-Cの構成は可飽和吸収体としてのみ機能するものであるが、図18-Dの構成では、利得と可飽和吸収の両方を実現する。(図18-Eの)構成は、ダイクロイックミラーを介した励起を利用するレーザキャビティとして機能する。
図18-Fと18-Gも、レンズ構造を介した導波路内への光結合を示すものである。(図18-Fの)構成では、利得と可飽和吸収の両方を実現するが、利得部は可飽和部から分離されている。(図18-Gの)構造は、ダイクロイックミラーを介した励起を利用するレーザキャビティとして機能するが、利得部は可飽和部から分離されている。
図18-H乃至18-Jは、光ファイバと導波路の直接的な光結合を示すものである。(図18-Hの)構成は、可飽和吸収体としてのみ機能する。(図18-Iの)構成は、利得と可飽和吸収の両方を実現する。(図18-Jの)構成は、ダイクロイックミラーを介した励起を利用するレーザキャビティとして機能する。
図18-Kと18-Lは、レンズ構造を介した導波路内への光結合を示すものである。(図18-Kの)構成は、利得と可飽和吸収の両方を実現するが、利得部は可飽和部から分離されている。(図18-Lの)構成は、ダイクロイックミラーを介した励起を利用するレーザ空洞として機能するが、利得部は可飽和部から分離されている。
CNT材料は導波路構造内に吹き付ける、蒸着させる、あるいはドーピングすればよい。導波路は図19-Aまたは19-Bに示したファイバであればよい。このCNT導波路構造を用いて、図19-A乃至19-Hの構成を含めて様々な光学デバイス構成をとることが可能となる。図19-Aは、ファイバと直接接触させ、フェルール内に収められたSAMの形状を取るCNT材料を示すものである。この構造は反射型可飽和吸収体として機能する。図19-Bは、フェルールに収められた2つのファイバの間に配置されるCNT材料を示すものである。この構造は透過型可飽和吸収体として機能する。図19-Cは、CNT材料がキャビティ内に配置された、反射モードのファイバフェルールエタロンフィルタを示すものである。図19-Dは、CNT材料が空洞内に配置された、透過モードのファイバフェルールエタロンフィルタを示すものである。図19-Eは、CNT材料が空洞の外側のミラーの1つの面に配置された、反射モードの可変ファイバフェルールエタロンフィルタを示すものである。図19-Fは、CNT材料が空洞の外側のミラーの1つの面に配置された、透過モードの可変ファイバフェルールエタロンフィルタを示すものである。
図19-Gと19-Hは、可飽和吸収体またはモードロッカーとして機能することができる固定ファイバフェルールデバイスを示すものである。図19-Gにおいて、CNT層は1つのファイバの端部に設けられ、このCNT層を有するファイバは、レンズ構成を介して第2のファイバ端部に自由空間結合する。図19-Hにおいては、2つのファイバ端部がそれぞれCNT層を有し、2つのファイバ端部はレンズ構成を介して自由空間結合する。これらのデバイス構成を、たとえば光ファイバ構成内の可飽和吸収体として用いることができる。これらのデバイス構成は、特にパルスファイバレーザシステムにおけるモードロッカーとして用いることができる。
CNT材料は導波路構造内に吹き付ける、蒸着させる、あるいはドーピングすればよい。導波路は、図20-Aに示すようなFBG(ファイバブラッググレーティング)であればよい。CNT FBG(ファイバブラッググレーティング)ベースのユニットを用いて様々な構造をとることができる。図20-Bは、このFBGをサーキュレータと組み合わせて使用することを示すものである。
ここで図示されている可飽和吸収体素子とデバイス、モード同期素子とデバイス、レーザ構成と導波路およびFBG構成は、本明細書およびここで示す光学素子の組み合わせと形成について当該技術で公知の事項を参照すれば容易に実施することができる。CNT可飽和吸収体あるいは非線形光学材料を、存在するCNTの量が可飽和吸収または非線形光学効果を観察するのに十分な層内に設けることができる。CNTの種類(たとえばカーボンナノチューブの直径)を選択して、所望の波長または波長領域で吸収を行えるようにすることができる。層内に存在するCNTの量を調節して、所望の光学応答を得ることができる。
本発明のCNTは、非線形光学材料と可飽和吸収体の両方もしくはどちらか一方として、米国特許第5,502,737号;6,023,479号;または5,844,932号に記載されているマイクロレーザ構成において使用されうる。
通常、異なる方法(たとえばHiPco、レーザアブレーション、アルコールCCVD)で製造され、異なる方法(吹き付けか蒸着)で基板に塗布されるSWNTは、異なる基板に塗布され、異なる基板構成で使用される場合同様、レーザモード同期に効果的である。異なる方法で製造されるSWNTサンプルとSWNT層により、異なる動作波長を有するサンプルが得られる。あるMINTにおいて、吸収レベルをCNT(より具体的にはSWNTかMWNT)密度(すなわち層内のCNT/層材料の単位容量比)と、層の厚さで制御することができる。さらに、異なる種類のSWNT(たとえば直径が異なるSWNT)を層内に混合するか複数の層(たとえば各層は異なるSWNT、たとえば直径の異なるSWNTを含有する)を用いることにより、動作波長領域の異なるMINT素子またはデバイスを形成することができる。また、このようなCNTと層の組み合わせを用いて、より広いまたはより狭い動作波長領域、特に約800nmから2000nmの間の範囲かその副領域を示すMINT素子あるいはデバイスを形成することができる。さらに、約800nmから約2000nmまでをカバーする広い動作領域を有するMINT素子あるいはデバイスを、このようなCNTと層の組み合わせを用いて形成することができる。
本発明を以下の実施例でさらに説明していく。
実施例1:非線形光学材料と可飽和吸収体材料の両方またはいずれか一方として用いられるカーボンナノチューブ(CNT)を準備する。
CNTは、HiPCo、CVD、レーザ−オーブン/アブレーション、アーク放電技術などの任意の手段により合成することができる。ここでの特定の実施例では、CNTはレーザアブレーションで形成される。アルゴンガス流500トルで、1250℃に熱したオーブンに入れられた、ニッケルとコバルトをそれぞれ0.45原子%だけ含有する対象のグラファイトロッドを、1パルス当たり、300ミリジュールを超えるエネルギーでNd:YAGパルスレーザの第二高調波を用いてアブレーションにかけた。温度が3000℃を超えるカーボンロッドの剥離噴出した領域では、蒸着したカーボン原子がNi/Co成長触媒の助けを借りて凝縮し、CNTを形成する。レーザアブレーションの後、サンプルを高真空度で(約120℃以上の温度に)加熱し、不純物と共にフラーレンなどの物質を蒸発除去する。次に、サンプルをトルエンで洗浄し細かいメッシュでろ過する。さらに、サンプルをエタノールで洗浄し、かつ分散させてメッシュでろ過する。サンプルを、純水と混合分散させ、過酸化水素を添加して過酸化水素が体積比15%の溶液を得て、再計算容器内で3時間100℃に加熱して、非晶質カーボンを取り除き、その後メッシュでろ過する。サンプルは希釈弱酸HCl溶液で洗浄し、CoとNi金属粒子を取り除き、その後メッシュでろ過し、塩基(弱水酸化ナトリウム溶液)で洗浄し、酸を中性化して、その前の酸による洗浄とメッシュろ過からのその他の副産物を除去した。最後に、サンプルを真空で1時間、650℃まで加熱してすべての溶媒を除去する。サンプルを室温で冷却する。ごくわずかの金属触媒不純物を含有し、90%を超える純度のCNTサンプルが、上記の処理後に得られる。
実施例2:CNTの層、膜、またはコーティングを有するデバイス素子
図に示すように基板上のCNTの層、膜、またはコーティングを得るために様々な方法が適用できる。たとえば、CNT粉末のサンプルを任意のアルコール、望ましくはエタノールなどの揮発性アルコールと混ぜ合わせ、基板に吹き付ける。
CNTを含有する層は、CNT粉末をUVエポキシなでの接着剤や糊と混ぜ合わせることによっても準備することができる。接着剤としては、所望の動作波長で透過性を有し、融点が低いものが好ましい。同様にして、CNTの層はポリイミドなどのポリマまたはプラスチック内で形成することができる。ポリイミドなどのポリマを用いて基板上または基板の間にCNT層を形成することができる。層、膜、またはコーティングに添加されるCNT量は、ある用途についてどれだけの吸収が望まれるかによって変化する。CNT粉末を光ファイバに導入することも可能である。たとえば、CNTをポリマ溶液に混合して、加熱され、ファイバ状に引き伸ばし成形する。光ファイバを形成するのに利用可能ないずれのプラスチックまたはポリマも用いることができる。CNTの添加量は、ある用途ついてどれだけの吸収が望まれるかによって変化する。CNT組成物(たとえばCNT含有ポリマ)を穴あきファイバかフォトニック結晶ファイバ内に挿入することができる、たとえばCNT材料はファイバ内の穴か空洞に挿入されるかファイバ内の空気間隙に導入する。
2002年12月20日に出願された米国仮出願第60/435,577号を、本出願全体の参照として取り入れる。前記米国仮出願のすべての図面と図面説明文をここに参照として取り入れる。
当業者であれば、ここで具体的に説明した材料、方法、およびデバイス以外の材料、方法、およびデバイスを不適切な実験によることなく本発明の実施の範囲内で利用可能であることを理解するであろう。当業者であれば、具体的に説明した材料、方法、およびデバイスには当該技術で公知の等価物があることを理解するであろう。このような当該技術で認められた等価物も本発明に包含されるものである。
ここで引き合いに出したすべての引例は、最新技術の情報を与えるためにおおまかに引用するものである。詳細な引例は、明細書の中で具体的な情報を示す為、引用されるだろう。ここで引き合いに出した引例は、本発明全体に引例として取り入れ、情報の中でも特に、様々な方法によるカーボンナノチューブの合成の詳細、様々なレーザ構成における動作の詳細、当該技術では公知のレーザ構成の説明、当該技術では公知の光学素子と光学デバイスの説明を与えるものであり、これらはすべてここで記載した発明の実現において利用すればよい。
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本発明の第1の実施例にかかる、リングキャビティでカーボンナノチューブ(CNT)を用いた受動モード同期光パルスレーザの構成を示し、受動モード同期素子(CNT可飽和吸収体)と結合するための一例としての能動ファイバ、励起レーザ、および特にコリメータとレンズの組み合わせを利用することを示し、FC/PCコネクタと溶着接続点の位置づけが具体的な構成について示す。 図1に示す構成のレーザから生成されたFWHM幅が1.1ピコ秒である光パルスの自己相関波形を示す。 図1に示す構成のレーザから生成される3dBスペクトルの幅が3.7nmである光パルスの光スペクトル測定値を示す。 図1に示す構成のレーザから生成される基本波のパルス繰返しが6.1MHzであるモード同期光パルスのサンプリングオシロスコープのトレースを示す。 図1に示す構成のレーザから生成される繰返しが12.2MHzの第二高調波のモードロック光パルスのサンプリングオシロスコープのトレースを示す。 図1にかかるレーザから生成される、Qスイッチング領域で動作するQスイッチパルス(FWHM幅4ミクロン、秒繰返しは37.5kHz)のサンプリングオシロスコープのトレースを示すものである。 図1にかかるレーザから生成される、Qスイッチング領域で動作するQスイッチパルスのサンプリングオシロスコープスペクトルの測定値を示す。 本発明の第2の実施例にかかる、リニア共振器キャビティ内の、カーボンナノチューブ可飽和吸収体を用いた受動モード同期光パルスレーザの構成を示すものであり、第1の実施例同様、能動ファイバ(増幅器)と励起レーザの一例が示されており、一つの構成例におけるFCとPCコネクタおよび溶着接続点が示す。 図8にかかるレーザから生成される基本パルス反復度が9.8MHzであるモード同期光パルスのサンプリングオシロスコープのトレースを示す。 図8にかかるレーザから生成される3dBスペクトルの幅が13.66nmであるモード同期光パルスの光スペクトルの測定値を示す。 図8にかかるレーザから生成される推定FWHM幅が318フェムト秒である光パルスの自己相関波形を示す。 一方向リング構成を示す。 双方向リング構成と衝突パルスモード同期(CPM)の応用を示す。 混成モード同期を有した一方向リング構成を示す。 フィルタがミラーから分離しているリニア構成を示す。 図13Aの構成に対応した混成モード同期線形構成を示す。 フィルタとミラーとしての反射ミラーを有したリニア構成を示す。 単一素子としてのCNT可飽和吸収体と反射ミラーを有したリニアレーザ構成を示す。 単一光素子内に反射ミラー、フィルタ、およびCNT可飽和吸収体層を組み合わせたリニアレーザ構成を示す。 好ましくは低ピークパワーで用いられるCNT層にレンズが結合したリニア自由空間構成を示す。 図14-Aに類似した構成であって、好ましくは高ピークパワー時に用いられるレンズ結合の構成を示す。 干渉距離が変化するとレーザの周波数(および波長)が変化することを示す、自由空間レーザ構成の総括的図示である。 図14-Cに示した自由空間レーザ構成のうちErドープガラスがSOAに置き換えられている構成を示す。 可飽和吸収体素子の配置が異なる、3つの異なるシグマ自由空間レーザ構成を示す。 可飽和吸収体素子の配置が異なる、3つの異なるシグマ自由空間レーザ構成を示す。 可飽和吸収体素子の配置が異なる、3つの異なるシグマ自由空間レーザ構成を示す。 高繰返しのリニアレーザについての簡潔な構成を示す。 図16-Aの構成のレーザの拡大図である。 図16-Aと16-Bのレーザ構成においてレーザ波長とレーザ繰返し率を調整するための手段を示す。 図16-Aと16-Bのレーザ構成においてレーザ波長とレーザ繰返し率を調整するための手段を示す。 図16-Aと16-Bのレーザ構成においてレーザ波長とレーザ繰返し率を調整するための手段を示す。 CNT層(170)が2つの基板層(175)に挟まれ、反射防止コーティング(180)を設けるかARコーティングの1つをバンドパスフィルタに置き換えたデバイス構成を示す。 一方の基板表面がCNT層を有し、他方の表面がARコーティングを有する単純な構成を示す。 CNT層が基板(175)の間に挟まれ内部ミラーまたは帯域反射ミラー(190)を備えたより複雑な反射モードデバイス構成を示す。 可飽和吸収体がレンズの焦点に配置された、可飽和吸収体モード同期デバイス内へ結合させるための透過構成(低ピークパワー時の構成)を示す。 可飽和吸収体がレンズの焦点に配置された、可飽和吸収体モード同期デバイス内へ結合させるための透過構成(低ピークパワー時の構成)を示す。 反射構成である。 (高ピークパワーで)光が平行にCNT層に入射する構成を示す。 (高ピークパワーで)光が平行にCNT層に入射する構成を示す。 (高ピークパワーで)光が平行にCNT層に入射する構成を示す。 可飽和吸収体がファブリペロー構造内で挟まれている、より複雑な可飽和吸収体デバイス構造を示す。 CNT層が2つの基板層に挟まれ、外側の基板層に図示のようにハーフミラー(195)かバンドパスフィルタ(181)が設けられているデバイス構成を示す。 CNT層とミラーまたは帯域反射ミラー(200)が2つの基板層に挟まれている、反射モードで用いられる構成を示す。 CNT層がハーフミラーとミラーまたは帯域反射ミラー(200)に挟まれている、反射モードで用いられる装置構成を示す。 光がCNT層に集光した図17-J乃至17-Mのデバイス構成を用いた透過および反射モード時の構成(低ピークパワー時の構成)を示している。 光がCNT層に集光した図17-J乃至17-Mのデバイス構成を用いた透過および反射モード時の構成(低ピークパワー時の構成)を示している。 光がCNT層に集光した図17-J乃至17-Mのデバイス構成を用いた透過および反射モード時の構成(低ピークパワー時の構成)を示している。 光がCNT層に集光した図17-J乃至17-Mのデバイス構成を用いた透過および反射モード時の構成(低ピークパワー時の構成)を示している。 別の可飽和吸収体モードロッカー構成を示す。 別の可飽和吸収体モードロッカー構成を示す。 別の可飽和吸収体モードロッカー構成を示す。 レーザ構成を示す。 レーザ構成を示す。 レーザ構成を示す。 レーザ構成を示す。 レーザ構成を示す。 レーザ構成を示す。 低ピークパワー時の複雑なグレーティング型構成を示す。 低ピークパワー時の複雑なグレーティング型構成を示す。 低ピークパワー時の複雑なグレーティング型構成を示す。 低ピークパワー時の複雑なグレーティング型構成を示す。 複数の導波路を有した導波路素子を示す。 図18-Aの素子内にあるいくつかの導波路の拡大図である 可飽和吸収体導波路である。 可飽和吸収体とErドープされたゲイン導波路を示す。 可飽和吸収体と、利得及び、モード同期導波路を示す。 可飽和吸収体と、一部がCNTでドーピングされた(あるいはCNT層を有して)ゲイン導波路と、導波路の第二の部分が能動導波路(すなわちEr添加されている)である。 可飽和吸収体と、利得と、図示のようにデバイスにミラーが設けられているモード同期導波路である。 図18-C乃至18-Gに類似した導波路構成であるが、導波路がファイバと光結合した導波路構成である。 図18-C乃至18-Gに類似した導波路構成であるが、導波路がファイバと光結合した導波路構成である。 図18-C乃至18-Gに類似した導波路構成であるが、導波路がファイバと光結合した導波路構成である。 図18-C乃至18-Gに類似した導波路構成であるが、導波路がファイバと光結合した導波路構成である。 図18C乃至18Gに類似した導波路構成であるが、導波路がファイバと光結合した導波路構成である。 CNT層を有するファイバフェルールデバイスを示す。 CNT層を有するファイバフェルールデバイスを示す。 CNTを備えるファイバフェルールエタロンデバイスを示す。 CNTを備えるファイバフェルールエタロンデバイスを示す。 空洞長が調整可能であり、ミラー間の距離はファイバフェルールの少なくともひとつを移動させることにより調整可能である(すなわちピエゾモータを有したファイバフェルールエタロンデバイスを示す。 空洞長が調整可能であり、ミラー間の距離はフファイバフェルールの少なくともひとつを移動させることにより調整可能である(すなわちピエゾモータを有したファイバフェルールエタロンデバイスを示す。 ファイバフェルール端部が一定の距離である、別のファイバフェルールを示す。 ファイバフェルール端部が一定の距離である、別のファイバフェルールを示す。 (図20-Bに示す)バンドパスフィルタと可飽和吸収体としてサーキュレータと組み合わせて用いられるCNTでドーピングされたFBG(図20-A)を示す。 (図20-Bに示す)バンドパスフィルタと可飽和吸収体としてサーキュレータと組み合わせて用いられるCNTでドーピングされたFBG(図20-A)を示す。 MINT損失(dB)と閾値電流(mA)を関連づけたグラフであり、モード同期とQスイッチングを行うためのレーザパルス閾値と動作領域を示す。
符号の説明
175 基板層
170 CNT層
180 反射防止コーティング
181 バンドバスフィルタ
190 内部ミラーまたは帯域反射ミラー
180a ARコーティング
195 ハーフミラー
200 ミラーまたは帯域反射ミラー

Claims (47)

  1. 選択した動作波長または波長領域でかつ選択した基本繰り返し周波数で光パルスを生成するレーザであって、
    (a) 光パルスを複数回の往復で光パルスを蓄積することができる1つ以上の光共振器、または1つの閉光学通路であって、1つ以上の利得媒体を備え、往復光路長が選択した基本繰り返し周波数となるように選択されてなる1つ以上の光共振器または1つの閉光学通路と;
    (b) 1つ以上の励起光源と;
    (c) 前記選択した動作波長または波長領域で光学利得が得られるように、励起光源からの励起光を前記1つ以上の利得媒体に結合させるための1つ以上の光カプラと;
    (d) 前記1つ以上の光共振器または前記1つの閉光学通路と光学的に結合する1つ以上の非線形光学、あるいは可飽和吸収体素子またはデバイスと;
    (e) カーボンナノチューブを含んだ1つ以上の可飽和吸収素子もしくはデバイスを有するレーザから外へ光パルスを取り出す1つ以上の光カプラを備える。
  2. 前記1つ以上の光共振器または閉光学通路と光学的に結合した波長調整素子またはデバイスをさらに備える、請求項1に記載のレーザ。
  3. カーボンナノチューブを有する前記1つ以上の非線形光学、あるいは可飽和吸収体素子またはデバイスは、前記1つ以上の光共振器の内の1つ、または前記閉光学通路内に配置される、請求項1または2に記載のレーザ。
  4. 波長調整素子は前記1つ以上の光学共振器のうちの1つ、または前記閉光学通路内に配置される、請求項2または3に記載のレーザ。
  5. カーボンナノチューブを有する前記非線形光学、あるいは可飽和吸収体素子またはデバイスはモードロッカーである、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のレーザ。
  6. 前記モードロッカー素子またはデバイスは、自己始動または自己起動素子またはデバイスである、請求項5に記載のレーザ。
  7. リング構成をとる、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のレーザ。
  8. リニア構成をとる、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のレーザ。
  9. シグマ構成をとる、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のレーザ。
  10. 光パルスを生成するためにモードロッカーとしてカーボンナノチューブを用いた衝突パルスモード同期(CPM)構成をとる、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のレーザ。
  11. 光パルスを生成するために可飽和吸収体と協働する能動モード同期デバイスをさらに備え、ハイブリッドモード同期構成をとる、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のレーザ。
  12. カーボンナノチューブを含まない1つ以上の非線形光学あるいは可飽和吸収体素子、またはデバイスをさらに備える、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のレーザ。
  13. 可飽和吸収体素子またはデバイスがQスポイラとして用いられることを特徴とする受動Qスイッチレーザである、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のレーザ。
  14. 約1ピコ秒以下の長さの光パルスを生成することができる、請求項1乃至13のいずれか一項に記載のレーザ。
  15. 約10フェムト秒以下の長さの光パルスを生成することができる、請求項1乃至13のいずれか一項に記載のレーザ。
  16. 約1フェムト秒以下の長さの光パルスを生成することができる、請求項1乃至13のいずれか一項に記載のレーザ。
  17. 1パルス当たり約35pJより高いエネルギーの光パルスを生成することができる、あるいは約35ワットより高いピークパワーの光パルスを生成することができる、請求項1乃至13のいずれか一項に記載のレーザ。
  18. カーボンナノチューブは単層カーボンナノチューブ(SWNT)である、請求項1乃至17のいずれか一項に記載のレーザ。
  19. カーボンナノチューブはカーボンナノチューブを主成分とする、請求項1乃至17のいずれか一項に記載のレーザ。
  20. カーボンナノチューブは厚さが約10ミクロン以下の層内に設けられる、請求項1乃至19のいずれか一項に記載のレーザ。
  21. カーボンナノチューブは厚さが約1ミクロン以下の層内に設けられる、請求項1乃至19のいずれか一項に記載のレーザ。
  22. カーボンナノチューブを含む層の厚さを変化させることによって、モード同期およびQスイッチング閾値光エネルギを調整する、請求項1乃至19のいずれか一項に記載のレーザ。
  23. カーボンナノチューブは50重量パーセント以上の半導体カーボンナノチューブを含有する、請求項1乃至22のいずれか一項に記載のレーザ。
  24. カーボンナノチューブの直径は、レーザの動作波長領域内でエキシトン吸収特性が示されるよう選択される、請求項1乃至23のいずれか一項に記載のレーザ。
  25. カーボンナノチューブは2つ以上の層内に設けられる、請求項1乃至24のいずれか一項に記載のレーザ。
  26. カーボンナノチューブを有する1つ以上の層を備える、レーザモード同期素子またはデバイス。
  27. カーボンナノチューブを備える1つ以上の層を備える、レーザQスイッチング素子またはデバイス。
  28. カーボンナノチューブはSWNTである、請求項26または27に記載の素子またはデバイス。
  29. カーボンナノチューブの直径は所望の動作波長領域内で吸収を行うように選択される、請求項26乃至28のいずれか一項に記載の素子またはデバイス。
  30. カーボンナノチューブは、広い動作帯域幅となるように異なる直径範囲をもつよう選択される、請求項26乃至28のいずれか一項に記載の素子またはデバイス。
  31. 双方向と一方向のいずれでも動作可能である、請求項26乃至30のいずれか一項に記載の素子またはデバイス。
  32. 反射型と透過型のいずれでも動作可能である、請求項26乃至30のいずれか一項に記載の素子またはデバイス。
  33. カーボンナノチューブの層の厚さは均一に変化する、請求項26乃至32のいずれか一項に記載の素子またはデバイス。
  34. カーボンナノチューブは、モード同期とQスイッチング閾値光エネルギの両方またはいずれか一方を調整するよう厚さが変化する層内に設けられる、請求項26乃至33のいずれか一項に記載の素子またはデバイス。
  35. カーボンナノチューブの層が基板表面に設けられる、請求項26乃至34のいずれか一項に記載の素子またはデバイス。
  36. 基板の他方の面にはAR(反射防止)コーティング、バンドパスフィルタ、またはハーフミラーが設けられる、請求項35に記載の素子またはデバイス。
  37. 請求項26乃至36のいずれか一項に記載の素子またはデバイスを備える、パルスレーザ。
  38. 光が通過するカーボンナノチューブを備える層、膜、またはコーティングを備える、導波路。
  39. リッジ型導波路である、請求項38に記載の導波路。
  40. 光ファイバを備えるか光ファイバである、請求項38に記載の導波路。
  41. レーザで光パルスを生成するための方法であって、カーボンナノチューブを備え、レーザの共振器に光結合するモードロッカーを設けることを含む、方法。
  42. レーザはリングレーザ、ファブリペロー(FP)リニア共振器構成レーザ、シグマ構成レーザ、または衝突パルスモード同期(CPM)構成レーザのいずれかである、請求項41に記載の方法。
  43. 少なくともレーザの共振器に光結合するカーボンナノチューブを有さない1つ以上の可飽和吸収体デバイスを設ける工程をさらに備える、請求項41または42に記載の方法。
  44. 短光パルスを生成するためにレーザの受動モード同期を取るための方法であって、モード同期デバイスとしてレーザの共振器に光結合するカーボンナノチューブを備えるモードロッカーを与える工程を備え、光パルスは長さが<5ピコ秒、<2ピコ秒、<1ピコ秒、<500フェムト秒、<100フェムト秒、<50フェムト秒、または<10フェムト秒であることを特徴とする方法。
  45. 高エネルギパルスを生成するためにレーザを受動Qスイッチングするための方法であって、Qスポイラとしてレーザの共振器に光結合するカーボンナノチューブを備えるモードロッカーを設ける工程を備える方法。
  46. 請求項1に記載のレーザをモード同期する工程を備えることを特徴とするレーザで光パルスを生成するための方法。
  47. 請求項1に記載のレーザをQスイッチングする工程を備える、レーザで光パルスを生成するための方法。
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