JP2006346593A - ペースト塗布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ペーストを基板上に設定された塗布パターンで塗布するとき、ペーストを基板上の目的の箇所に正確に塗布することができるペースト塗布装置を提供する。
【解決手段】傾き検出器６１，６２を設け、一対のコラム４１，４２のＹ方向への傾きを測定するとともに、その測定値に基づき、コラム４１，４２に設けた連結機構（Ｙ軸駆動機構）を制御する。 制御器７による連結機構制御により、ヘッド５をＸ方向への移動に合わせてＹ方向に移動できるので、コラム４１，４２のＹ方向への傾きを補正して、同時塗布パターンを高精度に得ることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶表示パネルの製造に採用して好適なペースト塗布装置の改良に関する。

液晶表示パネルの製造では、２枚のガラス製の基板を液晶を間に挟んで貼り合わせるのに先立ち、基板の液晶表示領域を取り囲むように、シール剤としてのペーストがペースト塗布装置により塗布される。

液晶表示パネルの製造効率を高めるために、Ｘ−Ｙ方向にマトリクス状に複数個の表示領域を配列させたいわゆる多面取りの大きな基板が採用されることが多い。

従来のペースト塗布装置では、門型のコラムを表示領域のＹ方向のピッチに対応させて並立対向させ、塗布ヘッドを各コラムの長手（Ｘ）方向に移動可能に搭載し、基板のＹ方向への移動制御と、各ヘッドの同期したＸ方向への移動制御と、各ヘッドのノズルにおけるペースト吐出制御とにより、複数の塗布パターンを同時形成し、多面取りの基板に対するペースト塗布効率の向上が図られている。

図８は、従来のペースト塗布装置を示した斜視図で、図９は図８に示した装置の要部平面図、図１０は図８のＡ−Ａ矢視要部断面図である。図８ないし図１０に示したように、多面取りの塗布パターンがＸ−Ｙ方向に複数形成された基板１は、ステージ２上に吸着保持され、ステージ２は基台３上のＹ軸移動テーブル４に取り付けられ、基板１はＹ方向に搬送移動可能である。

基台３上には、基板１を挟んで、それぞれ図示左右に対をなした４個のＹ軸移動機構４１１，４１２、４２１，４２２が据え付けられ、各対をなすＹ軸移動機構４１１，４１２、４２１，４２２の可動部には、それぞれ門型のコラム４１，４２の脚部が連結固定されている。

各コラム４１，４２には、その長手方向、すなわちＸ方向に長尺なガイドレール４１３，４２３が取り付けられ、３個の塗布ヘッド５がそれぞれ各ガイドレール４１３，４２３に案内され、Ｘ方向に個別に移動可能に取り付けられている。各塗布ヘッド５はペーストを収納したシリンジ５１１，５１２，５１３、５２１，５２２，５２３を備えている。

図１１は、シリンジ５１１を搭載した塗布ヘッド５のガイドレール４１３との取り付け構造を示した拡大斜視図である。

図１１に示したように、シリンジ５１１を保持したクランプ５ｂは、ホルダ５ｃに固定され、ホルダ５ｃはＺ軸駆動機構５ｄにより鉛直（Ｚ軸）方向に上下動可能に取り付けられている。

Ｚ軸駆動機構５ｄは、ガイドレール４１３に沿いＸ方向に移動可動なＸ軸駆動機構５ｅを介して取り付けられている。

また、ホルダ５ｃには、ブラケット５ｆａを介して下方の基板面を撮像可能な状態で認識カメラ５ｆが一体的に取り付けられている。

図１１は、塗布ヘッド５のガイドレール４１３への取り付け構造を示したものであるが、他方のガイドレール４２３と塗布ヘッド５も同様に取り付けられている。

上記構成により、対向するＹ軸移動機構４１１，４２１、及び４１２，４２２間の間隔を、表示領域のＹ方向の配列ピッチに適正に一致させた状態で、制御器６は、Ｙ軸移動テーブル４によるＹ方向への基板１の移動制御と、各塗布ヘッド５のガイドレール４１３，４２３に沿った矢印Ｘ方向への移動制御と、各シリンジ５１１，５１２，５１３、５２１，５２２，５２３のノズル５ａからのペースト吐出制御により、Ｘ−Ｙ方向にマトリクス状に配列形成された表示領域に対応した塗布パターンを、同時に複数塗布できる。

上記のように、従来のペースト塗布装置は、塗布ヘッド５を表示領域のＹ方向のピッチに対応させ、基板１に対するＹ方向への移動制御と、塗布ヘッド５のＸ方向への同期移動と、同期したペースト吐出制御により、多面取りの基板に対するペースト塗布を効率的に行うことができる。

このようなペースト塗布装置を用いて、基板に形成された表示領域に対応して高精度にペーストを塗布するには、各ヘッド５の移動制御及びペーストの吐出制御がともに適正行われることはもとよりであり、とりわけ各ヘッド５を案内する各コラム４１，４２がＸ方向に傾くことなく、Ｘ方向に平行であることが要求される。

しかしながら、作業員が長尺なコラムを、Ｘ方向に平行に精度良く据え付けるのは容易ではない。また、一旦、仮にＸ方向に平行に精度良くコラムを据え付けたとしても、Ｙ軸移動機構４１１，４１２、４２１，４２２の可動部にそのコラムの脚部が取り付けられているので、Ｙ方向への移動操作の繰り返し等によって、Ｘ方向に対する平行度が低下し、塗布パターンを目的の箇所に正確に形成できなくなる恐れもあり改善が要望されていた。

そこで本発明は、ペーストを基板上に設定された塗布パターンで塗布するとき、ペーストを基板上の目的の箇所に正確に塗布することができるペースト塗布装置を提供することを目的とする。

第１の本発明は、Ｘ方向に長尺なガイド部材と、そのガイド部材に案内されてＸ方向に移動する塗布ヘッドと、この塗布ヘッドと基板とを前記Ｘ方向及びそれに直交するＹ方向に相対的に移動させる移動手段とを有し、前記塗布ヘッドからのペーストの吐出により前記基板上に塗布パターンを形成するペースト塗布装置において、前記ガイド部材のＸ方向に対する傾きを検出する傾き検出手段と、この傾き検出手段によって検出された前記ガイド部材の傾きに基づいて前記塗布ヘッドと前記移動手段とを制御する制御手段と、を具備することを特徴とする。

第２の本発明は、Ｘ方向に長尺なガイド部材と、そのガイド部材に案内されてＸ方向に移動する塗布ヘッドと、この塗布ヘッドと基板とを前記Ｘ方向及びそれに直交するＹ方向に相対的に移動させる移動手段とを有し、前記塗布ヘッドからのペーストの吐出により前記基板上に塗布パターンを形成するペースト塗布装置において、前記ガイド部材のＸ方向に対する傾きを検出する傾き検出手段と、前記塗布ヘッドを前記ガイド部材に対してＹ方向に移動させるＹ軸駆動機構と、前記傾き検出手段によって検出された前記ガイド部材の傾きに基づいて前記Ｙ軸駆動機構を制御する制御手段と、を具備することを特徴とする。

第３の本発明は、Ｘ方向に長尺な一対のガイド部材と、その一対のガイド部材それぞれに設けられ当該ガイドレールに案内されてＸ方向に移動する塗布ヘッドと、これら塗布ヘッドと基板とを前記Ｘ方向及びそれに直交するＹ方向に相対的に移動させる移動手段とを有し、前記各塗布ヘッドからのペーストの吐出により前記基板上に塗布パターンを形成するペースト塗布装置において、前記ガイド部材それぞれについてＸ方向に対する傾きを検出する傾き検出手段と、前記各塗布ヘッドを当該塗布ヘッドが案内される前記ガイド部材に対してＹ方向に移動させるＹ軸駆動機構と、前記傾き検出手段によって検出された前記各ガイド部材の傾きに基づいて前記Ｙ軸駆動機構それぞれを制御する制御手段と、を具備することを特徴とする。

第４の本発明は、Ｘ方向に長尺なガイド部材と、そのガイド部材に案内されてＸ方向に移動する塗布ヘッドとを有し、前記塗布ヘッドからのペーストの吐出により前記基板上に塗布パターンを形成するペースト塗布装置において、前記ガイド部材を、Ｘ方向及びＹ方向に直交する方向を軸として回動自在に支持する軸機構と、前記ガイド部材を回動させる駆動装置と、前記ガイド部材のＸ方向に対する傾きを検出する傾き検出手段と、この傾き検出手段によって検出された前記ガイド部材の傾きに基づいて前記駆動装置を制御して前記ガイド部材の傾きを補正する制御手段と、を具備することを特徴とする。

本発明によれば、ペーストを基板上の目的の箇所に正確に塗布することができる。

本発明のペースト塗布装置の一実施例を図１ないし図７を参照して詳細説明する。なお、図８ないし図１１に示した従来のペースト塗布装置と同一構成には同一符号を付して、詳細説明は省略する。

図１は、本発明に係るペースト塗布装置の第１の実施例を示した斜視図で、図２は図１に示した装置の平面図、図３は図２のＡ−Ａ矢視要部断面図である。

図１ないし図３に示したように、Ｘ−Ｙ方向に多面取りに形成されたガラス製の基板１はステージ２上に精度良く位置決めされて吸着保持される。

基台３には、それぞれ左右に対をなしてＹ軸移動機構４１１，４１２、４２１，４２２が据え付けられる。また、ステージ２を跨ぐように、門型のコラム４１，４２が対向して設けられ、その脚部はそのＹ軸移動機構４１１，４１２、４２１，４２２の可動部に立設するように連結構成される。

Ｙ軸移動テーブル４の移動方向（Ｙ方向）と、Ｙ軸移動機構４１１，４１２、４２１，４２２における移動方向（Ｙ方向）とは、同一方向となるように予め設定され基台３上に据え付けられている。

また、Ｙ軸移動機構４１１，４１２、４２１，４２２の可動部に各脚部が連結されて対向する一対のコラム４１，４２は、予め設定されたＹ方向に向けて同期して移動可能である。

また、上記一対のコラム４１，４２には、それぞれ複数個（この実施例では３個）の塗布ヘッド５が、Ｘ方向に複数配列搭載され、図１に示した制御器７による、これら複数個の塗布ヘッド５の長手方向（図示Ｘ方向）への同期移動制御と、一対のコラム４１，４２のステージ２との矢印Ｙ方向への相対移動制御と、各ヘッド５のノズル５ａからのペースト吐出制御とにより、基板１にマトリクス状に形成された複数の表示領域に対し、同時平行的にペースト塗布操作が可能である。

図４は、ヘッド５のひとつがガイド部材としてのガイドレール４１３に取り付けられた状態を図４に拡大して示したもので、ペーストとを収容したシリンジ５１１を保持したクランプ５ｂは、ホルダ５ｃに固定され、ホルダ５ｃはＺ軸駆動機構５ｄにより鉛直（Ｚ軸）方向に上下動可能に取り付けられている。

Ｚ軸駆動機構５ｄ自体は、ガイドレール４１３に案内されてＸ方向に移動するＸ軸駆動機構５ｅ、及びこのＸ軸駆動機構５ｅとＺ軸駆動機構５ｄとを連結し、制御手段である制御器７によりＺ軸駆動機構５ｄを矢印Ｙ方向に移動調整可能なＹ軸駆動機構５ｇが連結構成されている。

従って、ヘッド５は、Ｘ軸駆動機構５ｅ、Ｙ軸駆動機構５ｇ、Ｚ軸駆動機構５ｄを介してＸ、Ｙ、Ｚ方向に移動可能とされる。なお、このようなＸ軸駆動機構５ｅ、Ｙ軸駆動機構５ｇ、及びＺ軸駆動機構５ｄとしては、サーボモータを駆動源とするねじ送り機構やリニアモータを採用すること可能である。

また、ホルダ５ｃには、ブラケット５ｆａを介して下方の基板面を撮像可能な認識カメラ５ｆが一体的に取り付けられている。この認識カメラ５ｆは、各ノズル５ａによって基板１上に塗布されたペーストの画像を取得するために用いられ、取得された画像に基づいてペーストの塗布状態等が制御装置によって判別される。

図４は、シリンジ５１１を有するヘッド５のコラム４１との間の取り付け構造を示したものであるが、他のヘッド５のコラム４１に対する取り付け構造も、また対応する相手方ヘッド５もコラム４２に対して同様に取り付けられている。

また図１ないし図３に示したように、基台３には、コラム４１，４２間に位置するとともに、Ｘ方向にステージ２を挟んで対向するように傾き検出器６１，６２が設けられている。

傾き検出器６１，６２は、基台３の上面にステージ２を挟んでＸ方向に並んで配置された２個の塗布台６１１ａ，６１１ｂ、及び６２１ａ，６２１ｂと、塗布台６１１ａ，６１１ｂ、６２１ａ，６２１ｂを上方から撮像する撮像機器６１２，６２２と、撮像機器６１２，６２２をＸ−Ｙ方向に移動可能な移動支持台６１３，６２３とをそれぞれ有して構成されている。

２個の塗布台６１１ａ，６１１ｂ及び６２１ａ，６２１ｂは、それぞれその上面に中心位置マークＰａ、Ｐｂが設けられており、この中心位置マークＰａ、Ｐｂを結ぶ直線がＸ軸方向と平行を成し、Ｘ軸方向における中心位置マークＰａ、Ｐｂ間の間隔が距離Ｌとなるようにその位置が設定される。

傾き検出器６１，６２は、各コラム４１，４２及び各ヘッド５によるＸ−Ｙ方向への移動操作と、ヘッド５のノズル５ａにおけるペースト塗布動作とによる塗布台６１１ａ，６１１ｂ、６２１ａ，６２１ｂ上に形成されたの塗布パターン（Ｘ−Ｙ座標軸上の位置）から、各コラム４１，４２（ガイドレール４１３、４２３）のＸ方向に対する傾きを検出する。

ここで、制御器７は、傾き検出器６１、６２の構成の一部としての機能し、撮像機器６１２、６２２の撮像画像に基づいて、後述する検出原理により各コラム４１、４２の傾きを求める。

図５を参照し、傾き検出器６１，６２による、コラム４１，４２の傾きの検出原理を説明する。

すなわち、図５において、２個の塗布台６１１ａ，６１１ｂの中心位置マークＰａ，ＰｂはＸ方向に距離Ｌを隔てている。

また、塗布台６１１ａ，６１１ｂの中心位置マークＰａ，Ｐｂを結ぶ直線は、Ｘ方向と平行である。

制御器７は、Ｙ軸移動機構４１４，４１２及びシリンジ５１１，５１３を有するヘッド５のＸ軸駆動機構５ｅ，５ｅを制御し、シリンジ５１１のノズル５ａが塗布台６１１ａの中心位置マークＰａ上に、シリンジ５１３のノズル５ａが塗布台６１１ｂの中心位置マークＰｂ上に、それぞれ位置するように、各ヘッド５をそのＸＹ方向における原点位置から予め設定された距離だけ移動させる。

そして、制御器７は、Ｚ軸駆動機構５ｄを制御して、各ノズル５ａ、５ａを、塗布台６１１ａ、６１１ｂ上に近接させるように、待機位置から塗布台６１１ａ、６１１ｂに向けて予め設定された距離だけ下降させる。制御器７は、この位置で、各ノズル５ａ、５ａから予め設定された量だけペーストを吐出させて塗布台６１１ａ、６１１ｂ上にペーストを点状のパターンで塗布する。ペーストの塗布後、制御器７は、ヘッド５を元の位置へ移動させる。ここで、待機位置は、塗布台６１１ａ、６１１ｂやステージ２の上面よりも十分高い位置に設定される。

このとき、各ヘッド５，５のＹ軸駆動機構５ｇは共通して基準位置にあって、各ヘッド５，５のノズル位置とコラム４１との間の距離は同一であるものとする。

ここで、基準位置は、例えば、Ｙ軸駆動機構５ｇの移動ストロークの中央位置である。

ヘッド５，５を搭載したコラム４１が、Ｘ方向に対して平行のとき、塗布台６１１ａ，６１１ｂに塗布されたペーストの塗布位置を結ぶ直線は、中心位置マークＰａ，Ｐｂを結ぶ直線と平行となる。

一方、コラム４１が、Ｘ方向に対して角度θだけ傾いていたとき、塗布台６１１ａ、６１１ｂ上に塗布されたペーストの塗布位置は、中心位置マークＰａ、Ｐｂに対してずれた位置Ｑａ、Ｑｂとなる。そして、これらの塗布位置Ｑａ、Ｑｂを結ぶ直線は、中心位置マークＰａ、Ｐｂを結ぶ直線対して角度θだけ傾く。

そこで、傾き検出器６１，６２は、撮像機器６１２，６２２をＸ−Ｙ方向に移動して、それぞれ塗布台６１１ａ，６１１ｂ上の塗布位置Ｑａ，Ｑｂの撮像画像（Ｘ−Ｙ座標画像）を制御器７に供給する。

制御器７は、傾き検出器６１，６２からの撮像画像に基づき、塗布位置Ｑａ、Ｑｂの中心位置マークＰａ、Ｐｂに対する位置ずれを求める。

例えば、撮像機器６１２、６２２は、その撮像視野中心が中心位置マークＰａ、Ｐｂの真上に位置するように位置付けられるものとする。この場合、撮像画像の中心位置は、中心位置マークＰａ、Ｐｂの位置に一致する。従って、上記位置ずれは、撮像機器６１２、６２２の撮像画像中において、撮像画像の中心位置に対する塗布位置Ｑａ、Ｑｂの位置ずれを算出することで求めることができる。

なおここで、コラム４１の傾きは比較的微小なものであるので、中心位置マークＰａ、Ｐｂ間の距離Ｌが比較的大きなときには、コラム４１の傾きによって生じる塗布位置Ｑａ、Ｑｂの位置ずれのうち、Ｘ方向の位置ずれはＹ方向の位置ずれに対して無視できるほど小さなものとなる。そこで、この実施例においては、Ｘ方向の位置ずれはないものとして説明する。

制御器７は、撮像画像から求めた塗布位置Ｑａ、Ｑｂの位置ずれ（Ｙ方向の位置ずれ）Δａ、Δｂと、予め設定された中心位置マークＰａ、Ｐｂ間の距離Ｌとからコラム４１の傾きθを算出する。

上記説明は、コラム４１の例であったが、コラム４２についても同様な原理動作により、塗布台６２１ａ，６２１ｂへのペースト塗布動作を経て、コラム４２の傾きを検出することができる。

制御器７は、基板１上に塗布パターンを形成するとき、Ｙ軸駆動機構５ｇを制御して、ヘッド５を、そのＸ方向における原点位置からの距離に応じてＹ方向に補正移動させる。この補正値ΔＹは、Ｘ方向における原点位置からの距離をΔＸとしたとき、ΔＹ＝−ΔＸ・ｃｏｓθ（θは、コラム４１の傾き）により求めることができる。これにより、ヘッド５をＸ方向へ移動させたときに、コラム４１、４２の傾きによって生じるヘッド５のＹ方向の位置ずれを補正する。

このようにすることにより、ヘッド５をＸ方向へ移動させたときに、コラム４１、４２の傾きによって生じるヘッド５のＹ方向の位置ずれを補正することができるので、基板上の目的の箇所に正確にペーストを塗布することができ、精度良く塗布パターンを形成することができる。

また、コラム４１，４２の傾きによって生じるヘッド５のＹ方向の位置ずれを補正するのに、ヘッド５のＹ軸駆動機構５ｇを駆動制御する方法を説明したが、Ｙ軸移動機構４１１，４１２、４２１，４２２を駆動制御して、コラム４１，４２をＸＹ平面内で回動させても良い。

また、上記説明では、１つのコラム４１に３（複数）個のヘッド５を有して、左端のヘッド５を塗布台６１１ａに、右端のヘッド５を塗布台６２１ａに対応させたが、１つのコラム４１（あるいはガイドレール４１３）に１個のヘッド５のみが搭載された場合には、１個のヘッド５を移動させて左右２つの塗布台６１１ａ，６２１ａに対応させても良い。

また、図１ないし図３に示したように、この第１の実施例のペースト塗布装置は、コラム４１の左右両端部の対応する相手方コラム４２に面した側壁に、レーザ光により相手方コラム４２との間の距離を測定する距離計４１４，４１５を設け、この距離計４１４,４１５を制御器７に接続することができる。

例えば、一対の並設されたコラム４１，４２がともにＸ方向と一致しているときは、両者は平行となり、コラム４１，４２間の対向間隔（すなわちＹ方向の距離）は一定となるので、各距離計４１４、４１５からの相手方コラム４２までの距離測定データは一致する。ところが、いずれか一方のコラム（例えば、コラム４２）がＸ方向に対して傾き、両者間の平行度が崩れたとき、各距離計４１４，４１５による距離計測データは、不一致となる。従って、制御器７は、各距離計４１４、４１５による距離測定データが不一致のときに、それを一致させるようにコラム４２のＹ軸移動機構４２１、４２２を駆動制御することで、一対のコラム４１、４２が互いにＸ方向に平行となるように調整することができる。

また、これにより、一方のコラム４１に対する他方のコラム４２の傾きを求めることができるので、第１の実施例において、２つのコラム４１、４２それぞれについて傾き検出手段６１、６２を用いて行なった、コラム４１、４２の傾きを検出する動作を、一方のコラム４１についてのみとすることもできる。

本来、一対のコラム４１，４２間及び一対のガイドレール４１３，４２３間の平行度が適正であって、同時に、各コラム４１，４２及び各ガイドレール４１３，４２３がＸ方向に完全に一致していれば問題はない。

このように、ペースト塗布装置においては、たとえ各コラム４１，４２及びガイドレール４１３，４２３に取り付けられた複数個のヘッド５において、平行度及びＸ軸方向との一致度が適正かつ良好となるように一旦据え付けられたとしても、コラムは脚柱部においてＹ軸移動機構の可動部に連結されていることもあって、また長尺なコラムやガイドレール等における経年変化による変形等から、Ｘ方向への方向性が低下し、要求精度の塗布パターンを形成し得なくなる恐れがあるが、この実施例によれば、傾き検出器６１，６２を設けて、コラム（すなわち、ガイドレール）のＸ方向に対する傾きを検出して、Ｙ軸駆動機構５ｇを駆動するように制御器７は制御できるので、ヘッドのＸ方向への移動に合わせたＹ方向への移動制御により、Ｘ−Ｙ方向にパターン化された複数の塗布パターンを高精度に形成することができる。

なお、上記第１の実施例では、コラム４１，４２の傾きを補正するのに、Ｙ軸駆動機構５ｇ或いはＹ軸移動機構４１１，４１２，４２１，４２２を調整して行うもので説明したが、たとえばコラム４２を構造上Ｙ方向に第１及び第２のコラムに二分し、門型の第１のコラムの脚部をＹ軸移動機構４２１，４２２の可動部に連結して支持部材とし、ヘッド５を搭載した第２のコラムは第１のコラムに支持されつつＸ方向及びＹ方向に直交する鉛直軸を中心に回動可能とし、その回動角度調整により、Ｘ方向に対する傾きが補正されるように構成することができる。

すなわち、一方のヘッド群を搭載したコラムを鉛直軸を中心に回動可能に構成した本発明による第２の実施例に係るペースト塗布装置を図６及び図７を参照して説明する。なお、図１ないし図５に示した第１の実施例の構成と同一構成には同一符号を付して説明し、第１の実施例と相違する点のみを主に説明するが、図６及び図７では説明の便宜上、また煩雑さをさけるため、傾き検出器６１，６２は省略して示している。

第２の実施例では、コラム４１、４２は、支持部材としての第１のコラム４１Ａ、４２Ａと第２のコラム４１Ｂ、４２Ｂとで構成され、第１のコラム４１Ａ、４２ＡはＹ軸移動機構４２１，４２２の可動部に連結して門型を形成し、上部に段部４１Ａａ、４２Ａａを有し、その段部４１Ａａ、４２Ａａの中央位置に鉛直方向に軸機構４１Ｃ、４２Ｃを立設させ、第２のコラム４１Ｂ、４２Ｂは、ガイド部材としてのガイドレール４１３、４２３を介して塗布ヘッド５を搭載し、軸機構４１Ｃ、４２Ｃに嵌め込まれて回動可能に構成されている。

そして、左右の第１及び第２のコラム４１Ａ、４１Ｂ及び４２Ａ，４２Ｂとの間には、図８に示したように、駆動装置としての圧電素子４１Ｄ１、４１Ｄ２及び４２Ｄ１，４２Ｄ２が嵌め込まれていて、これら圧電素子４１Ｄ１、４１Ｄ２及び４２Ｄ１，４２Ｄ２は制御器７に接続されている。

圧電素子４１Ｄ１、４１Ｄ２及び４２Ｄ１，４２Ｄ２は、印加電圧の大きさに応じて機械的変位量が変化するので、上記構成において、制御器７は、第１の実施例と同様に、第２のコラム４１Ｂ、４２Ｂ（ガイドレール４１３、４２３）の傾きに応じて、その傾きを補正するように圧電素子４１Ｄ１、４１Ｄ２及び４２Ｄ１，４２Ｄ２を制御することができる。

よって、第２の実施例によれば、第２のコラム４１Ｂ、４２Ｂの傾きに応じた圧電素子４１Ｄ１、４１Ｄ２及び４２Ｄ１，４２Ｄ２の駆動制御により、第２のコラム４１Ｂ、４２Ｂは軸機構４１Ｃ、４２Ｃを中心に回動して傾きが補正されるように制御されるので、第２のコラム４１Ｂ、４２Ｂ間の平行度は適正なものとなり、第１の実施例と同様に、多面取りに構成された基板１に対する同時平行する塗布作業における精度は確保され、ペースト塗布作業の歩留まりを向上させることができる。

以上説明したように、上記第１及び第２の実施例によれば、コラム４１、４２（ガイドレール４１３、４２３）のＸ方向に対する傾きを検出し、この傾きを補正するように、ヘッド５をそのＸ方向における原点位置からの距離に応じてＹ方向に補正移動させる、或いは、この傾きを補正するようにコラム４１、４２（ガイドレール４１３、４２３）をＸＹ平面内で回動させるようにしたので、コラム４１、４２が傾きを有している場合でも、その傾きを補正して、ペーストを基板上の目的の箇所に正確に塗布することができ、塗布パターンを精度よく形成することができる。

なお、上記各実施例において、コラムが、２つの例で説明したが、１つでも、３つ以上であっても良い。

また、塗布ヘッドを、一つのコラムに対して３つ設けた例で説明したが、１つまたは２つ、或いは４つ以上設けても良い。

また、塗布ヘッド５が基板に対して移動する例で説明したが、塗布ヘッドと基板とは相対的に移動すればよいので、基板が塗布ヘッドに対して移動するものでも、基板と塗布ヘッド双方が移動するものでも適用可能である。

従って、第１の実施例において、Ｙ軸駆動機構５ｇを用いて行なった補正移動を、ステージ２をＹ方向に移動させるＹ軸移動テーブル４を用いて行なうようにしても良い。

また、第１の実施例において、コラム４１、４２（ガイドレール４１３、４２３）の傾きθを補正するために行うＹ軸駆動機構５ｇの駆動制御を、原点位置を基準としたＸ方向におけるヘッド５の位置（原点位置からの距離）に応じて行なう例で説明したが、Ｘ方向におけるヘッド５の単位時間当たりの移動量（速度）に応じて行なうようにしても良い。

例えば、図５において、ヘッド５をＸ方向へ速度Ｖｘで移動させる場合、ヘッド５をＹ方向へ速度Ｖｙ（＝−Ｖｘ×ｓｉｎθ）で移動させるように、Ｙ軸駆動機構５ｇをＸ軸駆動機構５ｅの駆動と同期して駆動制御するという具合である。なおここでは、Ｘ方向における右方向への移動を正（＋）、左方向への移動を負（−）、Ｙ方向における上方向への移動を正（＋）、下側方向への移動を負（−）とし、反時計回り方向の傾きを正（＋）、時計回り方向の傾きを負（−）とする。

また、上記第１の実施例において、傾き検出器６１、６２が、ペーストの塗布位置に関する情報として、中心位置マークＰａ、Ｐｂに対する塗布位置Ｑａ、Ｑｂの位置ずれを検出する例で説明したが、塗布位置Ｑａ、Ｑｂの絶対的な位置を検出するようにしても良い。

また、複数の塗布ヘッドを用いて複数の塗布パターンを同時並行的に形成する例で説明したが、１つずつ形成するようにしても良い。

本発明によるペースト塗布装置の第１の実施例を示した斜視図である。 図１に示した装置の要部平面図である。 図２のＡ−Ａ矢視要部断面図である。 図１に示した塗布ヘッド部の拡大斜視図である。 図１に示した装置の傾き検出器の動作説明図である。 本発明によるペースト塗布装置の第２の実施例を示した要部斜視図である。 図６に示した装置の要部平面図である。 従来のペースト塗布装置を示した斜視図である。 図８に示した装置の要部平面図である。 図８のＡ−Ａ矢視要部断面図である。 図８に示した塗布ヘッド部の拡大斜視図である。

符号の説明

１ ガラス基板（基板）
２ ステージ
３ 基台
４１，４２ コラム（フレーム）
４１１，４１２，４２１，４２２ Ｙ軸移動機構
４１３、４２３ Ｘ軸ガイドレール（ガイド部材）
４１４，４１５ 距離計
５ 塗布ヘッド
５ａ 塗布ノズル
５ｄ Ｚ軸駆動機構
５ｅ Ｘ軸駆動機構
５ｆ 認識カメラ（撮影機器）
５ｇ Ｙ軸駆動機構（連結機構）
６１，６２ 傾き検出器（傾き検出手段）
６１１ａ，６１１ｂ，６２１ａ，６２２ｂ 塗布台
６１２，６２２ 撮像機器
６１２ 傾き検出器
６１３，６２３ Ｘ−Ｙ移動機構
７ 制御器（制御手段）
４２Ａａ 段部
４２Ｃ 軸機構（補正制御機構）
４２Ａ 第１のコラム（支持部材）
４２Ｂ 第２のコラム（コラム）
４２Ｄ１，４２Ｄ２ 圧電素子
４１４，４１５ 距離計

Claims (6)

1. Ｘ方向に長尺なガイド部材と、そのガイド部材に案内されてＸ方向に移動する塗布ヘッドと、この塗布ヘッドと基板とを前記Ｘ方向及びそれに直交するＹ方向に相対的に移動させる移動手段とを有し、前記塗布ヘッドからのペーストの吐出により前記基板上に塗布パターンを形成するペースト塗布装置において、
   前記ガイド部材のＸ方向に対する傾きを検出する傾き検出手段と、
   この傾き検出手段によって検出された前記ガイド部材の傾きに基づいて前記塗布ヘッドと前記移動手段とを制御する制御手段と、
   を具備することを特徴とするペースト塗布装置。
2. Ｘ方向に長尺なガイド部材と、そのガイド部材に案内されてＸ方向に移動する塗布ヘッドと、この塗布ヘッドと基板とを前記Ｘ方向及びそれに直交するＹ方向に相対的に移動させる移動手段とを有し、前記塗布ヘッドからのペーストの吐出により前記基板上に塗布パターンを形成するペースト塗布装置において、
   前記ガイド部材のＸ方向に対する傾きを検出する傾き検出手段と、
   前記塗布ヘッドを前記ガイド部材に対してＹ方向に移動させるＹ軸駆動機構と、
   前記傾き検出手段によって検出された前記ガイド部材の傾きに基づいて前記Ｙ軸駆動機構を制御する制御手段と、
   を具備することを特徴とするペースト塗布装置。
3. Ｘ方向に長尺な一対のガイド部材と、その一対のガイド部材それぞれに設けられ当該ガイドレールに案内されてＸ方向に移動する塗布ヘッドと、これら塗布ヘッドと基板とを前記Ｘ方向及びそれに直交するＹ方向に相対的に移動させる移動手段とを有し、前記各塗布ヘッドからのペーストの吐出により前記基板上に塗布パターンを形成するペースト塗布装置において、
   前記ガイド部材それぞれについてＸ方向に対する傾きを検出する傾き検出手段と、
   前記各塗布ヘッドを当該塗布ヘッドが案内される前記ガイド部材に対してＹ方向に移動させるＹ軸駆動機構と、
   前記傾き検出手段によって検出された前記各ガイド部材の傾きに基づいて前記Ｙ軸駆動機構それぞれを制御する制御手段と、
   を具備することを特徴とするペースト塗布装置。
4. 前記傾き検出手段は、前記ペーストを塗布可能に前記Ｘ方向に間隔を隔てて設けられた一対の塗布台と、この一対の塗布台上のペーストを撮像可能な撮像機器とを有し、
   前記撮像機器による撮像画像から前記一対の塗布台上に塗布された前記ペーストの塗布位置に関する情報を検出し、この情報に基づいて前記ガイド部材の傾きを検出する
   ことを特徴とする請求項１〜３のうちのいずれか１項に記載のペースト塗布装置。
5. 前記傾き検出手段は、前記一対のガイド部材のいずれか一方に間隔を隔てて設けられ、他方のガイド部材との間の対向距離を測定可能な複数の距離計を有し、
   前記制御手段は、この距離計による距離測定データに基づき前記一方のガイド部材に対する他方のガイド部材の傾きを検出する
   ことを特徴とする請求項３〜４のうちのいずれか１項記載のペースト塗布装置。
6. Ｘ方向に長尺なガイド部材と、そのガイド部材に案内されてＸ方向に移動する塗布ヘッドとを有し、前記塗布ヘッドからのペーストの吐出により前記基板上に塗布パターンを形成するペースト塗布装置において、
   前記ガイド部材を、Ｘ方向及びＹ方向に直交する方向を軸として回動自在に支持する軸機構と、
   前記ガイド部材を回動させる駆動装置と、
   前記ガイド部材のＸ方向に対する傾きを検出する傾き検出手段と、
   この傾き検出手段によって検出された前記ガイド部材の傾きに基づいて前記駆動装置を制御して前記ガイド部材の傾きを補正する制御手段と、
   を具備することを特徴とするペースト塗布装置。

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