JP2006279044A - リソグラフィー装置、液浸型投影装置とデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のリソグラフィー装置は、基板を保持するための基板テーブルと、基板の標的部分にパターン形成された放射ビームを投影するための投影系を含む。リソグラフィー装置は、さらに基板と前記投影系の最終の光学素子との間に流体を供給するための流体供給系と、この流体供給系の位置を制御するための位置制御系を備えている。前記位置制御系は基板の位置量を与えられ、基板の位置量へ位置のオフセットを加算することにより前記流体供給系の望ましい位置を決定し、その望ましい位置に基づいて流体供給系の位置決めを行うように形成されている。前記位置量は、基板の位置と、基板テーブルの回転位置と、基板の高さの高さ関数のすべて、又はいずれかを含んでもよい。
【選択図】図7
Description
放射ビームB(例えば紫外放射又は深紫外放射)を調整するように構成された照射系(照射器)IL。
パターン形成装置(例えばマスク)MAを保持するために構成され、あるパラメータに従って前記パターン形成装置を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置に接続された支持構造(例えばマスク・テーブル)。
基板(例えばレジストを塗布したウェハ)Wを保持するように構成され、あるパラメータに従って前記基板を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置に接続された基板テーブル(例えばウェハ・テーブル)WT。
パターン形成装置MAにより放射ビームに付与されたパターンを、基板Wの標的部分C(例えば、1つ又はそれ以上のダイを含む)に照射するように構成された、投影系(例えば、屈折型投影レンズ系)PS。
Claims (19)
- リソグラフィー装置であって、
基板を保持するように形成された基板テーブルと、
基板の標的部分にパターン形成された放射ビームを投影するように形成された投影系と、
前記基板と前記投影系の間に流体を供給するように構成された流体供給系と、
前記流体供給系の位置を制御し、前期基板の位置量を入力として受け入れるための位置制御装置とを有し、
さらに前記位置制御装置は、前記基板の位置量にオフセットを加算することにより前記流体供給系の望ましい位置を決定し、その望ましい位置に応じて前記流体供給系の位置決めをするように形成されている、リソグラフィー装置。 - 前記基板の位置量が、前記基板テーブルの前記投影系の焦点面に対する傾きに関連した量を含む、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記基板の位置量が、前記投影系の前記焦点面に垂直な方向の前記基板テーブルの位置を含む、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記位置のオフセットが、前記基板の走査の間の実質的に一定のオフセット量を含む、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記実質的に一定のオフセット量が、前記投影系の前記焦点面に垂直な方向の一定なオフセット量を含む、請求項4に記載のリソグラフィー装置。
- 前記実質的に一定のオフセット量が、名目上のオフセット量に前記基板の厚さパラメータの少なくとも一部分を加算することにより決定される、請求項4に記載のリソグラフィー装置。
- 前記基板の厚さパラメータが、前記基板の厚さの最大値と最小値の平均値を含む、請求項6に記載のリソグラフィー装置。
- 前記位置制御装置が、前記流体供給系を前記基板の走査の間一定の位置に保つように形成され、前記基板の位置量が、前記基板テーブルの前記投影系の焦点面に垂直な方向での平均位置を含む、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記位置制御装置が、さらに前記液体供給系と前記基板の間の瞬間的な距離を決定し、前記距離が予め決められた望ましい距離の範囲の閾値に達した時に、一時的にオフセットを調整するようにされている、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記位置制御装置が、さらに前記液体供給系と前記基板の間の距離を決定し、前記距離が予め決められた安全な距離の範囲を超えた時に、警告を出すように形成されている、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記基板の前記位置量が前記基板の高さの高さ関数を含む、請求項1に記載のリソグラフィー装置。
- 前記位置制御装置が、
前記高さ関数を用いることにより、前記液体供給系で覆われた基板表面の部分に最も適合した面を決定し、
前記最も適合した面の高さに、予め決められた高さを加算することにより、前記液体供給系の好ましい位置を決定するように形成されている、請求項11に記載のリソグラフィー装置。 - 前記位置制御装置が、
前記高さ関数を用いることにより、前記液体供給系に覆われた前記基板の表面部分の前記高さ関数が、正の値で最小値を保つような面を決定し、
前記高さ関数が正の値で最小値を保つような面に、予め決められた高さを加算することにより、前記液体供給系の好ましい位置を決定するように形成されている、請求項11に記載されたリソグラフィー装置。 - 前記位置制御装置が、
前記液体供給系で覆われた前記基板の表面の部分の前記高さ関数を用いて和をとり、
前記和を前記液体供給系で覆われた前記基板の表面の部分の面積で割り、
前記割られた高さの和に、予め決められた値を加えることにより前記液体供給系の望ましい位置を決定するように形成されている、請求項11に記載のリソグラフィー装置。 - 前記位置制御装置が、
前記高さ関数を用いて、前記液体供給系で覆われた前記基板の表面の部分の高さ平均を決定し、
前記高さ平均に予め決められた高さを加えることにより、前記液体供給系の望ましい位置を決定するように形成されている、請求項11に記載のリソグラフィー装置。 - 前記位置制御装置が、
前記液体供給系で覆われた前記基板の表面の部分の、前記基板と前記液体供給系の間に働く、前記基板と前記液体供給系の間の距離に依存した力を表現する擾乱力関数を決定し、
前記液体供給系で覆われた前記基板の表面の部分の前記高さ関数と前記擾乱力関数を利用して積分し、前記液体供給系の望ましい位置を決定するように形成されている、請求項11に記載のリソグラフィー装置。 - 前記位置制御装置が、
前記基板表面の前記液体供給系で覆われた部分の前記擾乱力関数であって、前記擾乱力関数は前記基板と前記液体供給系の間に働く前記基板と前記液体供給系の間の距離に依存した力を表現する前記擾乱力関数を決定し、
前記擾乱力関数から、位置に依存した高さのオフセット量を決定し、
前記高さ関数により、前記液体供給系で覆われた前記基板の表面の部分に最も良く適合した面を決定し、
前記最も良く適合した面の高さに、位置に依存した前記高さのオフセット量を加算することにより、前記液体供給系の所望の位置を決定するように形成されている、請求項11に記載のリソグラフィー装置。 - 液浸型投影装置であって、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板の標的部分に放射ビームを投影するように形成された投影系と、
液体を前記基板と前記投影系の間に供給するように構成された液体供給系と、
前記基板の位置量が提供され、前記液体供給系の位置を制御する位置制御装置とを有し、
前記位置制御装置が、前記基板の位置量に位置のオフセットを加算することにより、液体供給系の望ましい位置を決定し、前記望ましい位置に基づいて前記液体供給系の位置決めを行うように形成されている、前記基板上にビームを投影するための液浸型投影装置。 - デバイスの製造方法であって、
投影系により基板の標的部分にパターン形成された放射ビームを投影することと、
液体供給系により前記基板と前記投影系の間に液体を供給することと、
前記液体供給系の位置を制御することを有し、
前記位置制御が、
前記基板の位置量を獲得し、前記基板の前記位置量に位置のオフセットを加算することにより、前記液体供給系の望ましい位置を決定し、
前記望ましい位置に基づいて前記液体供給系の位置決めを行うことを含む、デバイスの製造方法。
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