JP2006245289A - 半導体装置及び実装構造体 - Google Patents
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Abstract
【課題】各バンプの高さを一定に保持する。
【解決手段】本発明に係る半導体装置100は、ポスト11と、ポスト11上に形成されたバンプ13と、バンプ13に対しポスト11より濡れ性に劣る濡れ性劣り部12とを、備えており、濡れ性劣り部12がポスト11とバンプ13との間に形成されている。
【選択図】図1
【解決手段】本発明に係る半導体装置100は、ポスト11と、ポスト11上に形成されたバンプ13と、バンプ13に対しポスト11より濡れ性に劣る濡れ性劣り部12とを、備えており、濡れ性劣り部12がポスト11とバンプ13との間に形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、バンプがポスト上に形成された電極構造を有する半導体装置及びそれを実装した実装構造体に関する。
携帯電話やデジタルカメラ等のさまざまな機器の小型化・高機能化に伴い、LSI(Large Scale Integration)やLSIパッケージの小型化を実現するバンプ・ピッチ(互いに隣接するバンプ同士の間隔)の微細化への要求が高まっている。近年では、LSIやLSIパッケージの実装面積の縮小に適した接続方法として「フリップチップ接続」が採用されているが、当該フリップチップ接続では、半田製のバンプを溶融させて接続している。その際、互いに隣接するバンプ同士が接触してショートが発生する可能性があるため、一般的にバンプ・ピッチを200〜250μm程度に保持している。
しかしながら、LSIやLSIパッケージの更なる小型化を図るには、バンプ・ピッチの微細化が不可欠な課題となっており、バンプ・ピッチの微細化を巡る種々の技術が開発されている(例えば非特許文献1参照)。
具体的に、非特許文献1に記載の技術では、フォトレジスト材料の改良,フォトレジスト・パターニング時の露光・現像パラメータの最適化,めっき時に用いる電流の精密なコントロール等によりバンプ・ピッチの微細化を図る旨記載されており、その技術を用いたバンプの形成方法がそのページ中の後半部分に図面を用いて掲載されている。
当該ページ中の図面を用いたバンプの形成方法を簡単に説明すると、始めに「1)ウェハ」に示す通り、ウェハ(無数のドット状を呈した部位)上に電極(青色を呈した部位)と保護膜(青色斜線を呈した部位)とを形成する。そして「2)シード層形成」,「3)フォトレジスト・パターニング、はんだめっき」,「4)フォトレジスト剥離、シード層エッチング」の各処理を経て、露出した状態の電極をシード層(緑色を呈した部位及びオレンジ色斜線を呈した部位で電極とバンプとの密着性を高める下地金属膜に相当するもの)で完全に覆い、その後「5)リフロー、バンプ形成」の処理で半田をリフローさせて略球形状の半田バンプを形成する。
しかしながら、非特許文献1に記載の技術では、バンプの形成に際して半田をリフローさせているため、そのリフロー工程の処理で半田が溶融してバンプの径が広がり、互いに隣接する電極同士の間隔を狭めようとすると、それと同時にバンプ・ピッチも狭まり、電極同士が接触するより先にバンプ同士が接触してショートを引き起こす可能性がある。
"超微細ピッチはんだバンプを形成、接続する技術を実用化〜世界初!35μmピッチはんだバンプの形成、接続を実現〜",[online],2003年12月15日,富士通株式会社,[2005年2月28日検索],インターネット<URL:http://pr.fujitsu.com/jp/news/2003/12/15.html>
"超微細ピッチはんだバンプを形成、接続する技術を実用化〜世界初!35μmピッチはんだバンプの形成、接続を実現〜",[online],2003年12月15日,富士通株式会社,[2005年2月28日検索],インターネット<URL:http://pr.fujitsu.com/jp/news/2003/12/15.html>
そのため、今日では、図9に示す通り、半田より高融点の「ポスト」を下地金属膜とバンプとの間に介在させてバンプを当該ポスト上に形成しているが、この場合には、バンプのリフロー工程において、バンプを構成する半田がポストの上面から側面に不規則に垂れ落ちて各バンプの高さを一定に保持することができない。
本発明の目的は各バンプの高さを一定に保持することである。
本発明の目的は各バンプの高さを一定に保持することである。
上記課題を解決するため請求項1に記載の発明の半導体装置は、
ポストと、
前記ポスト上に形成されたバンプと、
前記バンプに対し前記ポストより濡れ性に劣る濡れ性劣り部と、
を備え、
前記濡れ性劣り部が前記ポストと前記バンプとの間に形成されていることを特徴としている。
ポストと、
前記ポスト上に形成されたバンプと、
前記バンプに対し前記ポストより濡れ性に劣る濡れ性劣り部と、
を備え、
前記濡れ性劣り部が前記ポストと前記バンプとの間に形成されていることを特徴としている。
請求項2に記載の発明は、
請求項1に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が筒状を呈していることを特徴としている。
請求項1に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が筒状を呈していることを特徴としている。
請求項3に記載の発明は、
請求項1又は2に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部がNiで構成されていることを特徴としている。
請求項1又は2に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部がNiで構成されていることを特徴としている。
請求項4に記載の発明の半導体装置は、
ポストと、
前記ポスト上に形成されたバンプと、
前記バンプに対し前記ポストより濡れ性に劣る濡れ性劣り部と、
を備え、
前記濡れ性劣り部が前記ポストの側面に形成されていることを特徴としている。
ポストと、
前記ポスト上に形成されたバンプと、
前記バンプに対し前記ポストより濡れ性に劣る濡れ性劣り部と、
を備え、
前記濡れ性劣り部が前記ポストの側面に形成されていることを特徴としている。
請求項5に記載の発明は、
請求項4に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が前記ポストを構成する材料の酸化膜であることを特徴としている。
請求項4に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が前記ポストを構成する材料の酸化膜であることを特徴としている。
請求項6に記載の発明は、
請求項5に記載の半導体装置において、
前記酸化膜がCuO又はCu2Oで構成されていることを特徴としている。
請求項5に記載の半導体装置において、
前記酸化膜がCuO又はCu2Oで構成されていることを特徴としている。
請求項7に記載の発明は、
請求項4に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が樹脂膜であることを特徴としている。
請求項4に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が樹脂膜であることを特徴としている。
請求項8に記載の発明は、
請求項7に記載の半導体装置において、
前記樹脂膜がポリイミド又はエポキシで構成されていることを特徴としている。
請求項7に記載の半導体装置において、
前記樹脂膜がポリイミド又はエポキシで構成されていることを特徴としている。
請求項9に記載の発明は、
請求項4に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が金属膜であることを特徴としている。
請求項4に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が金属膜であることを特徴としている。
請求項10に記載の発明は、
請求項9に記載の半導体装置において、
前記ポストが柱状を呈し、
前記金属膜が前記ポストの側面を覆う筒状を呈し、
前記金属膜の幅が前記バンプの幅と同じかそれ以上となっていることを特徴としている。
請求項9に記載の半導体装置において、
前記ポストが柱状を呈し、
前記金属膜が前記ポストの側面を覆う筒状を呈し、
前記金属膜の幅が前記バンプの幅と同じかそれ以上となっていることを特徴としている。
請求項11に記載の発明は、
請求項9又は10に記載の半導体装置において、
前記金属膜がTi、TiW又はTiNで構成されていることを特徴としている。
請求項9又は10に記載の半導体装置において、
前記金属膜がTi、TiW又はTiNで構成されていることを特徴としている。
請求項12に記載の発明は、
請求項9〜11のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記ポストと前記金属膜との密着性を高める第2の金属膜が、前記ポストと前記金属膜との間に形成されていることを特徴としている。
請求項9〜11のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記ポストと前記金属膜との密着性を高める第2の金属膜が、前記ポストと前記金属膜との間に形成されていることを特徴としている。
請求項13に記載の発明は、
請求項12に記載の半導体装置において、
前記第2の金属膜がCu、Ni、Pd、NiP、NiB又はPtで構成されていることを特徴としている。
請求項12に記載の半導体装置において、
前記第2の金属膜がCu、Ni、Pd、NiP、NiB又はPtで構成されていることを特徴としている。
請求項14に記載の発明は、
請求項1〜13のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記バンプがPb、In、Sn、Au、Ag、Cu、Bi又はZnのいずれかを少なくとも1つ含む材料で構成されていることを特徴としている。
請求項1〜13のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記バンプがPb、In、Sn、Au、Ag、Cu、Bi又はZnのいずれかを少なくとも1つ含む材料で構成されていることを特徴としている。
請求項15に記載の発明は、
請求項1〜14のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記ポストがCu又はAuで構成されていることを特徴としている。
請求項1〜14のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記ポストがCu又はAuで構成されていることを特徴としている。
請求項16に記載の発明は、
請求項1〜15のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記バンプがボール状を呈しかつ格子状に配置されたBGAであることを特徴としている。
請求項1〜15のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記バンプがボール状を呈しかつ格子状に配置されたBGAであることを特徴としている。
請求項17に記載の発明は、
請求項1〜16のいずれか一項に記載の半導体装置において、
フリップ・チップ、ウェハレベルパッケージ又はチップサイズパッケージとして用いられることを特徴としている。
請求項1〜16のいずれか一項に記載の半導体装置において、
フリップ・チップ、ウェハレベルパッケージ又はチップサイズパッケージとして用いられることを特徴としている。
請求項18に記載の発明の実装構造体は、
請求項1〜17のいずれか一項に記載の半導体装置が実装用基板に実装されていることを特徴としている。
請求項1〜17のいずれか一項に記載の半導体装置が実装用基板に実装されていることを特徴としている。
請求項19に記載の発明は、
請求項18に記載の実装構造体において、
前記半導体装置が前記実装用基板に対しフリップチップ実装されていることを特徴としている。
請求項18に記載の実装構造体において、
前記半導体装置が前記実装用基板に対しフリップチップ実装されていることを特徴としている。
請求項20に記載の発明は、
請求項18又は19に記載の実装構造体において、
前記実装用基板が無機材料、ガラスエポキシ又は可撓性・絶縁性樹脂で構成されていることを特徴としている。
請求項18又は19に記載の実装構造体において、
前記実装用基板が無機材料、ガラスエポキシ又は可撓性・絶縁性樹脂で構成されていることを特徴としている。
請求項1に記載の発明では、濡れ性劣り部がポストとバンプとの間に形成されているから、バンプが自己との関係で濡れ性に劣る濡れ性劣り部の直上に配置され、リフロー工程においては、当該バンプを構成する材料が濡れ性劣り部に対し濡れ難い。そのため、バンプを構成する材料が濡れ性劣り部からその下のポストに向けて垂れ落ち難く、各バンプの高さを一定に保持することができる。
請求項2に記載の発明では、濡れ性劣り部が筒状を呈しているから、当該濡れ性劣り部には中空部が形成されており、濡れ性劣り部上に配されたバンプはリフロー工程においては当該中空部にゆきわたり、その後の硬化時においてはアンカー効果により濡れ性劣り部上に堅く保持される。そのため、バンプを構成する材料が濡れ性劣り部からその下のポストに向けて更に垂れ落ち難くなり、各バンプの高さを確実に一定に保持することができる。
請求項4に記載の発明では、濡れ性劣り部がポストの側面に形成されているから、ポストを平面視するとその外周が濡れ性劣り部で囲まれることになり、リフロー工程においては、当該バンプを構成する材料が当該外周の濡れ劣り部で塞き止められて濡れ広がり難い。そのため、バンプを構成する材料がポスト上からその側面に向けて垂れ落ち難く、各バンプの高さを一定に保持することができる。
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。ただし、以下の実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲は下記の実施形態及び図示例に限定されるものではない。
1.半導体装置
始めに、本発明に係る「半導体装置」について説明する。
当該半導体装置としては下記の4種の実施形態が適用可能であるので、下記では当該半導体装置を第1〜第4の各実施形態に分けてそれぞれ説明する。
始めに、本発明に係る「半導体装置」について説明する。
当該半導体装置としては下記の4種の実施形態が適用可能であるので、下記では当該半導体装置を第1〜第4の各実施形態に分けてそれぞれ説明する。
[第1の実施形態]
図1は半導体装置100の構成を示す断面図である。
図1に示す通り、半導体装置100はフリップ・チップ、ウェハレベルパッケージ又はチップサイズパッケージとして用いられるものであり、シリコン製のウェハ2を有している。
図1は半導体装置100の構成を示す断面図である。
図1に示す通り、半導体装置100はフリップ・チップ、ウェハレベルパッケージ又はチップサイズパッケージとして用いられるものであり、シリコン製のウェハ2を有している。
ウェハ2の図1中上面は公知の半導体素子(図示略)が形成された能動面2bとなっており、その裏面が受動面2aとなっている。
受動面2a下には半導体装置100を保護する保護膜1が形成されている。保護膜1は機械的な衝撃からチッピングが発生するのを防止したり、半導体装置100を実装用基板に実装した場合に発生する応力や光から当該半導体装置100を保護したりするもので、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリマー等から構成されている。なお、保護膜1はなくてもよい。
他方、能動面2b上にはSiO2のガラス質の酸化膜3が形成されており、酸化膜3上にはAl製の電極4とSiN,SiO等で構成された保護膜5とが形成されている。
電極4は平面視して方形状又は円形状を呈しており、その幅(直径)が約20〜100μm程度を有している。
保護膜5は能動面2b上の半導体素子や電極4等を保護するもので、当該保護膜5には平面視して円形状を呈しかつ電極4の表面積より小さい開口部6が形成されている。開口部6は電極4上に形成されて当該開口部6から電極4が露出するような形態となっており、図1に示す通り、保護膜5を断面視すると、保護膜5はその端部が電極4の一部に跨った状態で酸化膜3上に形成されている。
開口部6の内部の電極4上には下地金属膜7とピラーバンプ10とが形成されている。下地金属膜7は電極4とピラーバンプ10との密着性を高めるもので、Ti製の第1の下地金属膜8とCu製の第2の下地金属膜9とから構成されている。第1の下地金属膜8は電極4の直上に形成されており、当該第1の下地金属膜8の直上に第2の下地金属膜9が形成されている。第1,第2の各下地金属膜8,9は約300nm程度の厚さを有している。第1の下地金属膜8はTiW又はTiNで構成されてもよく、第2の下地金属膜9はNi又はAuで構成されてもよい。
ピラーバンプ10は、ピラー状(円柱状)を呈したCu製のポスト11と、Ni製の濡れ性劣り部12と、半球形状を呈した半田製のバンプ13とから構成されており、濡れ性劣り部12がバンプ13とポスト11との間に介在している。
ポスト11は第2の下地金属膜9の直上に形成されており、約40〜60μm程度の高さを有している。ポスト11はNi又はAuで構成されていてもよい。
濡れ性劣り部12はポスト11の直上に形成されており、約3〜6μm程度の高さ(厚さ)を有している。濡れ性劣り部12は、バンプ13を構成する材料に対しポスト11より濡れ性に劣る部位であり、バンプ13をリフローさせた場合(後述参照)に当該バンプ13がポスト11の部位まで垂れ落ちて当該バンプ13の径が広がったり、当該バンプ13の高さが不均一になったりするのを防止するものである。
濡れ性劣り部12は、図1中拡大図に示す通り、中空部12aが形成された円筒状を呈している。濡れ性劣り部12はCo製又はZn製であってもよいし、中空部11aが形成されていない円柱状を呈していてもよい。
バンプ13は濡れ性劣り部12の直上に形成されており、約25μm程度の高さを有している。バンプ13は共晶半田(Pb63Sn37等),高温半田(Pb97Sn3等),鉛フリー半田(Sn97Ag3等)等のいずれの半田で構成されてもよい。バンプ13は上記の他にIn,Sn,Au,Ag等の金属又はその合金で構成されてもよく、終局的にはPb、In、Sn、Au、Ag、Cu、Bi又はZnのいずれかを少なくとも1つ含む材料で構成することができる。半導体装置100では、バンプ13が濡れ性劣り部12の中空部12aを通じてポスト11と直接的に接触しており、ピラーバンプ10の電気抵抗が向上した構成となっている。
下地金属膜7及びピラーバンプ10が電極4上に占める面積は保護膜5の開口部6の面積より狭く、下地金属膜7(及びピラーバンプ10の下部)と保護膜5の端部との間には微小な隙間14が形成されている。
以上の構成を具備する半導体装置100は、バンプ13が半球形状(ボール状)を呈しかつ格子状に配置されたBGA(Ball Grid Array)となっている。
なお、半導体装置100では、電極4,開口部6が平面視して三角形状,四角形状等の多角形状を呈していてもよいし、ポスト11,濡れ性劣り部12,中空部12aが三角柱状,四角柱状等の多角柱状を呈していてもよい。
更に、半導体装置100では、ピラーバンプ10が下地金属膜7を介して電極4上に形成されているが、保護膜5上に引回し用の再配線を配して当該再配線上にピラーバンプ10を形成してもよい。
続いて、半導体装置100の製造方法について説明する。
図2は半導体装置100の製造方法の各工程を経時的に示す図面である。
図2(a)に示す通り、ウェハ2の能動面2b上に酸化膜3、電極4及び保護膜5が形成された状態において、公知のスパッタリング法による処理で第1の下地金属膜8及び第2の下地金属膜9をそれぞれ形成して、電極4及び保護膜5の全面を下地金属膜7で覆う(下地金属膜形成工程)。
図2(a)に示す通り、ウェハ2の能動面2b上に酸化膜3、電極4及び保護膜5が形成された状態において、公知のスパッタリング法による処理で第1の下地金属膜8及び第2の下地金属膜9をそれぞれ形成して、電極4及び保護膜5の全面を下地金属膜7で覆う(下地金属膜形成工程)。
下地金属膜7を形成したら、図2(b)に示す通り、当該下地金属膜7上にこれら全面を覆うように公知のスピンコート法による処理でフォトレジスト15を塗布し(塗布工程)、当該フォトレジスト15の上方にネガタイプのフォトマスク16を配した状態で露光する(露光工程)。
当該露光工程では、フォトマスク16として、開口部6より面積が狭い遮光性の遮光部17と光透過性の透過部18とが設けられたものを用い、遮光部17を開口部6(保護膜5から電極4が露出する部位)に対応する位置に配した状態で露光する。この場合、露光される光は、フォトマスク16の各部位のうち、遮光部17で遮光され、透過部18でフォトマスク16を透過してフォトレジスト15に入射する。
露光した状態で所定時間経過したら、図2(c)に示す通り、フォトレジスト15を公知の現像液で現像し(現像工程)、フォトレジスト15中の遮光部17に対向した部位を除去して第2の開口部19を形成する。
当該現像工程では、フォトレジスト15中の遮光部17に対向した部位が上記露光工程において光の照射を受けていないため当該部位のみが現像液に溶解し、他方、フォトレジスト15中の透過部18に対向した部位は現像液に溶解せずに残留する。
なお、ネガタイプのフォトマスク16に代えてポジタイプのフォトマスクを適用し、第2の開口部19を形成してもよい。
第2の開口部19を形成したら、図2(d)に示す通り、第2の開口部19に対し、ポスト11、濡れ性劣り部12及びバンプ13を構成する各金属を用いた公知のめっき法による処理でポスト11、濡れ性劣り部12及びバンプ13を形成し、ピラーバンプ10(の基礎)を形成する(めっき工程)。
当該めっき工程において、中空部12aを有する円筒状の濡れ性劣り部12を形成する場合には、ポスト11を形成した後に、中空部12aに対応するレジストのパターンを公知の手法でポスト11上に形成してめっき処理を施し、中空部12aに対応させたレジストを除去すればよい。また、中空部12を有さない円柱状の濡れ性劣り部12を形成する場合には、ポスト11を形成した後に、ポスト11上に単にめっき処理を施せばよい。
ピラーバンプ10を形成したら、図2(e)に示す通り、現像工程において残留したフォトレジスト15を剥離して当該フォトレジスト15を除去する(除去工程)。
フォトレジスト15を除去したら、図2(f)に示す通り、除去前のフォトレジスト15下に配された第1,第2の各下地金属膜8,9を所定のエッチャントでそれぞれエッチングして不要な下地金属膜7を除去する(エッチング工程)。
特に、当該エッチング工程における第1の下地金属膜8のエッチングでは、エッチャントとして、H2O2中にNaOH,KOH,Na2CO3,K2CO3等のアルカリ塩を添加した中性溶液(pH7程度の溶液)を用いるのがよく、この場合、第1の下地金属膜8の直下に配された電極4が腐蝕されるのを防止することができる。
不要な下地金属膜7を除去したら、図2(g)に示す通り、バンプ13をリフローしてピラーバンプ10を完全に形成する(リフロー工程)。
バンプ13をリフローしたら、図2(h)に示す通り、ウェハ2の受動面2a下にエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリマー等を供給・加熱して硬化させ、保護膜1を形成する(保護膜形成工程)。
保護膜1を形成したら、公知のダイシング法による処理で保護膜1、ウェハ2等を一括して切断・分割し(ダイシング工程,図示略)、半導体装置100の製造が完了する。
以上の第1の実施形態では、濡れ性劣り部12がポスト11とバンプ13との間に形成されているから、リフロー工程においては、当該バンプ13を構成する材料が濡れ性劣り部12に対し濡れ難い。そのため、バンプ13が濡れ性劣り部12からポスト11に向けて垂れ落ち難く、各バンプ13の高さを一定に保持することができる。
更に、第1の実施形態では、濡れ性劣り部12が円筒状を呈し中空部12aを有しているから、バンプ13はリフロー工程において中空部12a中にゆきわたり、その後の硬化時においてアンカー効果により濡れ性劣り部12上に堅く保持される。そのため、バンプ13が濡れ性劣り部12からポスト11に向けて更に垂れ落ち難く、各バンプ13の高さをより確実に一定に保持することができる。
なお、第1の実施形態では、エッチング工程において、保護膜5上の下地金属膜7の他に、保護膜5の開口部6内の電極4上(隙間14)でも下地金属膜7をエッチングしているが、当該エッチング工程の第1の下地金属膜8のエッチングにおいて中性のエッチャントを用いれば、隙間14内にエッチャントが残留しても当該エッチャントが電極4を腐蝕することはない。
また、隙間14内にエッチング済みの下地金属膜7が残渣として残留しても、保護膜5の開口部6がその側縁部の壁により囲まれているから、残渣としての下地金属膜7が隙間14の外部に漏出し難く、電極4同士やピラーバンプ10同士が電気的に接触してショートを引き起こす可能性も低い。
そのため、エッチング工程に起因する電極4の腐蝕やショート等の不都合を心配することなく、下地金属膜7をエッチングすることができ、電極4が保護膜5の開口部6から露出するのを容認することができる。
更に、第1の実施形態では、受動面2a下に保護膜1が形成されているから、機械的な衝撃でチッピングが起こり難く、半導体装置100の利便性や信頼性を向上させることができ、また、半導体装置100を実装用基板に実装した場合に発生する応力又は光から半導体装置100を保護することもできる。
[第2の実施形態]
第2の実施形態に係る半導体装置(200)は第1の実施形態に係る上記半導体装置100(半導体装置100の製造方法を含む。)と下記の点で異なっており、それ以外は同様となっている。以下では、上記半導体装置100と異なる点を中心に説明してそれ以外の部分の説明を省略している。
第2の実施形態に係る半導体装置(200)は第1の実施形態に係る上記半導体装置100(半導体装置100の製造方法を含む。)と下記の点で異なっており、それ以外は同様となっている。以下では、上記半導体装置100と異なる点を中心に説明してそれ以外の部分の説明を省略している。
図3は半導体装置200の構成を示す断面図である。
図3に示す通り、ピラーバンプ10が、ポスト11とバンプ13とで構成されており(図1の濡れ性劣り部12がない。)、ポスト11の側面上がCuO製又はCu2O製の酸化膜20で覆われている。
図3に示す通り、ピラーバンプ10が、ポスト11とバンプ13とで構成されており(図1の濡れ性劣り部12がない。)、ポスト11の側面上がCuO製又はCu2O製の酸化膜20で覆われている。
酸化膜20は、バンプ13を構成する材料に対しポスト11より濡れ性に劣る濡れ性劣り部であり、バンプ13をリフローさせた場合に当該バンプ13がポスト11の部位まで垂れ落ちて当該バンプ13の径が広がったり、当該バンプ13の高さが不均一になったりするのを防止するものである。
続いて、半導体装置200の製造方法について説明する。
図2(a)の下地金属膜形成工程から図2(c)の現像工程のまでの各処理をおこなって第2の開口部19を形成したら、図2(d)に示す通り、第2の開口部19に対し、ポスト11及びバンプ13を構成する各金属を用いた公知のめっき法による処理でポスト11及びバンプ13を形成し、ピラーバンプ10(の基礎)を形成する(めっき工程)。
ピラーバンプ10を形成したら、図2(e)の除去工程と図2(f)のエッチング工程との各処理をおこなって不要な下地金属膜7を除去し、ピラーバンプ10が形成されたウェハ2を大気雰囲気中においてバンプ13が溶融しない程度の温度(約150℃)で加熱し、CuO又はCu2O製の酸化膜20をポスト11の側面に形成する(酸化膜形成工程)。
酸化膜20を形成したら、図2(g)のリフロー工程、図2(h)の保護膜形成工程及び図示略のダイシング工程の各処理をおこない、半導体装置200の製造が完了する。
以上の第2の実施形態では、濡れ性劣り部としての酸化膜20がポスト11の側面に形成されているから、ポスト11を平面視するとその外周が酸化膜20で囲まれることになり、リフロー工程においては、バンプ13を構成する材料が酸化膜20で塞き止められて濡れ広がり難い。そのため、バンプ13を構成する材料がポスト11上からその側面に向けて垂れ落ち難く、各バンプ13の高さを一定に保持することができる。
[第3の実施形態]
第3の実施形態に係る半導体装置(300)は第1の実施形態に係る上記半導体装置100(半導体装置100の製造方法を含む。)と下記の点で異なっており、それ以外は同様となっている。以下では、上記半導体装置100と異なる点を中心に説明してそれ以外の部分の説明を省略している。
第3の実施形態に係る半導体装置(300)は第1の実施形態に係る上記半導体装置100(半導体装置100の製造方法を含む。)と下記の点で異なっており、それ以外は同様となっている。以下では、上記半導体装置100と異なる点を中心に説明してそれ以外の部分の説明を省略している。
図4は半導体装置300の構成を示す断面図である。
図4に示す通り、ピラーバンプ10が、ポスト11とバンプ13とで構成されており(図1の濡れ性劣り部12がない。)、ポスト11の側面上がポリイミド樹脂又はエポキシ樹脂により構成された樹脂膜30で覆われている。
図4に示す通り、ピラーバンプ10が、ポスト11とバンプ13とで構成されており(図1の濡れ性劣り部12がない。)、ポスト11の側面上がポリイミド樹脂又はエポキシ樹脂により構成された樹脂膜30で覆われている。
樹脂膜30は、バンプ13を構成する材料に対しポスト11より濡れ性に劣る濡れ性劣り部であり、バンプ13をリフローさせた場合に当該バンプ13がポスト11の部位まで垂れ落ちて当該バンプ13の径が広がったり、当該バンプ13の高さが不均一になったりするのを防止するものである。当該樹脂膜30は、ポスト11の側面だけでなく電極4及び保護膜5上の全面をも覆うように、ポスト11の側面の上部から電極4及び保護膜5上にかけて形成されている。
続いて、半導体装置300の製造方法について説明する。
図2(a)の下地金属膜形成工程から図2(c)の現像工程のまでの各処理をおこなって第2の開口部19を形成したら、図2(d)に示す通り、第2の開口部19に対し、ポスト11及びバンプ13を構成する各金属を用いた公知のめっき法による処理でポスト11及びバンプ13を形成し、ピラーバンプ10(の基礎)を形成する(めっき工程)。
ピラーバンプ10を形成したら、図2(e)の除去工程と図2(f)のエッチング工程との各処理をおこなって不要な下地金属膜7を除去し、ディスペンサ等を用いた公知の塗布法による処理で粘度を低下させた状態の樹脂を保護膜5上や隙間14等に垂らして加熱・硬化させ、樹脂膜30を形成する(樹脂膜形成工程)。
樹脂膜30を形成したら、図2(g)のリフロー工程、図2(h)の保護膜形成工程及び図示略のダイシング工程の各処理をおこない、半導体装置200の製造が完了する。
以上の第3の実施形態では、濡れ性劣り部としての樹脂膜30がポスト11の側面に形成されているから、ポスト11を平面視するとその外周が樹脂膜30で囲まれることになり、リフロー工程においては、バンプ13を構成する材料が樹脂膜30で塞き止められて濡れ広がり難い。そのため、バンプ13を構成する材料がポスト11上からその側面に向けて垂れ落ち難く、各バンプ13の高さを一定に保持することができる。
[第4の実施形態]
第4の実施形態に係る半導体装置(400)は第1の実施形態に係る上記半導体装置100(半導体装置100の製造方法を含む。)と下記の点で異なっており、それ以外は同様となっている。以下では、上記半導体装置100と異なる点を中心に説明してそれ以外の部分の説明を省略している。
第4の実施形態に係る半導体装置(400)は第1の実施形態に係る上記半導体装置100(半導体装置100の製造方法を含む。)と下記の点で異なっており、それ以外は同様となっている。以下では、上記半導体装置100と異なる点を中心に説明してそれ以外の部分の説明を省略している。
図5は半導体装置400の構成を示す断面図である。
図5に示す通り、ピラーバンプ10が、ポスト11とバンプ13とで構成されており(図1の濡れ性劣り部12がない。)、ポスト11の側面上が下地金属膜7で覆われている。
図5に示す通り、ピラーバンプ10が、ポスト11とバンプ13とで構成されており(図1の濡れ性劣り部12がない。)、ポスト11の側面上が下地金属膜7で覆われている。
詳しくは、ポスト11の側面が第2の下地金属膜9で覆われ、当該第2の下地金属膜9の表面が第1の下地金属膜8で覆われている。第1,第2の各下地金属膜8,9は断面視して略U字状を呈しており、円柱状を呈したポスト11の側面部分に着目すると円筒状を呈している。
特に、下地金属膜7(第1の下地金属膜8)の幅D(直径D)は、リフロー工程(後述参照)の前後に関わらず、バンプ13の幅d(直径d)と同じかそれ以上となっており、ポスト11上(第1,第2の各下地金属膜8,9の上面を含む。)に占めるバンプ13の占有面積が十分に確保された構成となっている。そのため、リフロー工程において、リフロー中のバンプ13をポスト11上に保持し続けやすく、バンプ13がポスト11上から垂れ落ちるのを防止することができるようになっている。
なお、ポスト11が多角柱状を呈する場合には、第1,第2の各下地金属膜8,9は断面視して略U字状を呈するが、当該ポスト11の側面部分に着目すると多角筒状を呈する。この場合においては、下地金属膜7(第1の下地金属膜8)の幅D(最大幅D)を、リフロー工程(後述参照)の前後に関わらず、バンプ13の幅d(直径d)と同じかそれ以上とする。
ポスト11の側部に配された第1の下地金属膜8は、バンプ13を構成する材料に対しポスト11より濡れ性に劣る濡れ性劣り部であり、バンプ13をリフローさせた場合に当該バンプ13がポスト11の部位まで垂れ落ちて当該バンプ13の径が広がるのを防止するものである。半導体装置400では、第1の金属膜8は、ポスト11の側部においてバンプ13の垂れ落ちを防止する機能と、ポスト11の底部において電極4と第2の金属膜9との密着性を高める機能との両機能を兼ねている。
濡れ性劣り部として機能する金属膜としての第1の下地金属膜8は、原則として上記の通りTi製であるのがよいが、これに代えてTiN製,TiW製のいずれかであってもよい。
他方、第2の下地金属膜は、第1の下地金属膜8とポスト11との密着性を高める第2の金属膜である。すなわち、半導体装置400では、ポスト11の側部に配された第1の下地金属膜8でバンプ13の垂れ落ちを防止し、第1,第2の両下地金属膜8,9で電極4とポスト11との密着性を高めるようになっている。
第2の金属膜としての第2の下地金属膜9も、原則として上記の通りCu製であるのがよいが、これに代えてNi製,Pd製,NiP製,NiB製,Pt製のいずれかであってもよい。
なお、半導体装置400では、半導体装置1と同様に、ポスト11とバンプ13との間に上記濡れ性劣り部12を介在させてもよい。
続いて、半導体装置400の製造方法について説明する。
図6は半導体装置400の製造方法の各工程を経時的に示す図面である。
図6(a)に示す通り、ウェハ2の能動面2b上に酸化膜3、電極4及び保護膜5が形成された状態において、公知のスピンコート法による処理でポリイミド製のフォトレジスト41を塗布し、電極4及び保護膜5の全面をフォトレジスト41で覆う(塗布工程)。
図6(a)に示す通り、ウェハ2の能動面2b上に酸化膜3、電極4及び保護膜5が形成された状態において、公知のスピンコート法による処理でポリイミド製のフォトレジスト41を塗布し、電極4及び保護膜5の全面をフォトレジスト41で覆う(塗布工程)。
フォトレジスト41を塗布したら、図2(b)の露光工程と図2(c)の現像工程との各処理をおこない、図6(b)に示す通り、第2の開口部42を形成する。当該第2の開口部42は図2(c)の第2の開口部19と同様のもので、平面視したときの面積が電極4のそれより狭くなっている。
第2の開口部42を形成したら、図6(c)に示す通り、公知のスパッタリング法による処理で第1の下地金属膜8及び第2の下地金属膜9をそれぞれ形成して、電極4及びフォトレジスト41の全面を下地金属膜7で覆う(下地金属膜形成工程)。
下地金属膜7を形成したら、図6(d)に示す通り、公知のフィリングめっき処理をおこない、ポスト11を構成する金属膜43で下地金属膜7の全面を覆う(フィリングめっき工程)。当該フィリングめっき工程において、ポスト11をCuで構成する場合にはめっき液として硫酸銅を用いるのがよい。
金属膜43を形成したら、当該金属膜43の表面を公知のバイトで切削加工し、図6(e)に示す通り、不要な下地金属膜7を除去する処理とウェハ2の能動面2b上を平滑(平坦)とする処理とを一括して同時におこない、ポスト11を形成する(切削加工工程)。当該切削加工工程によれば、下地金属膜7をウェットエッチングにより除去する訳ではないから、下地金属膜7のサイドエッチングが発生せず、電極4とポスト11との密着強度が低下するのを防止することができる。
ポスト11を形成したら、図6(f)に示す通り、バンプ13を構成するペースト状の材料をポスト11上にプリントしてバンプ13(の基礎)を形成し、ピラーバンプ10(の基礎)を形成する(プリント工程)。当該プリント工程においては、バンプ13を構成する材料のプリント面積を第1の下地金属膜8で囲繞される領域の面積と同じか又は小さくする。
なお、プリント工程による処理に代えて、図2(c)の第2の開口部19と同等の開口部を有するフォトレジストのパターンを形成して当該開口部に対しめっき処理を施し、その後フォトレジストを剥離・除去することでバンプ13を形成してもよいが、当該プリント工程によれば、フォトレジストの塗布・露光・現像・除去等の各工程を省けるので、それら各工程の処理に掛かる手間・コスト等を削減することができる。
ピラーバンプ10を形成したら、図6(g)に示す通り、フォトレジスト41を剥離して当該フォトレジスト41を除去する(除去工程)。
フォトレジスト41を除去したら、図6(h)に示す通り、バンプ13をリフローしてピラーバンプ10を完全に形成し(リフロー工程)、図6(i)に示す通り、ウェハ2の受動面2a下にエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリマー等を供給・加熱して硬化させ、保護膜1を形成し(保護膜形成工程)する。
保護膜1を形成したら、公知のダイシング法による処理で保護膜1、ウェハ2等を一括して切断・分割し(ダイシング工程,図示略)、半導体装置400の製造が完了する。
なお、本第4の実施形態においては、上記プリント工程の処理を終えてバンプ13を形成したら、フォトレジスト41を残留させたままバンプ13をリフローして(図6(g)の除去工程の処理を省略して図6(h)のリフロー工程の処理をおこない)、(1)その最終製造物を半導体装置400としてもよいし(図7(a)参照)、(2)その後、公知のウェット方式又はドライ方式エッチングの処理によりフォトレジスト41をエッチバッグしてその最終製造物を半導体装置400としてもよい(図7(b)参照)。
上記(1)の場合では、図6(e)の切削加工工程で平滑化されたフォトレジスト41がそのまま除去されずに残留し、フォトレジスト41が同一の高さ(ウェハ2の能動面2bからフォトレジスト41の上面までの高さ)を保持しながらポスト11の側方を完全に覆っている。
他方、上記(2)の場合では、図6(e)の切削加工工程で平滑化されたフォトレジスト41がそのまま除去されずに残留してその後エッチバッグの処理の用に供され、フォトレジスト41が、保護膜5上においては略同一の高さ(ウェハ2の能動面2bからフォトレジスト41の上面までの高さ)を保持しており、電極4上に跨った保護膜5上からバンプ13の近傍にかけては徐々に薄くなっている。
以上の第4の実施形態では、濡れ性劣り部としての第1の下地金属膜8がポスト11の側面に形成されているから、ポスト11を平面視するとその外周が第1の下地金属膜8で囲まれることになり、リフロー工程においては、当該バンプ13を構成する材料が第1の下地金属膜8で塞き止められて濡れ広がり難い。そのため、バンプ13を構成する材料がポスト11上からその側面に向けて垂れ落ち難く、各バンプ13の高さを一定に保持することができる。また、半導体装置400の製造に際して、切削加工工程で過酸化水素水等の化学薬品を一切使用せずに下地金属膜7を除去するため、環境に与える負荷を抑えることができる。
2.実装構造体
次に、本発明に係る「実装構造体」について説明する。
次に、本発明に係る「実装構造体」について説明する。
図8は実装構造体500の概略構成を示す断面図である。
図8に示す通り、実装構造体500は実装用基板501を有しており、当該実装用基板501に対して上記「1.半導体装置」で説明した半導体装置100がフリップチップ実装された構造を有している。
図8に示す通り、実装構造体500は実装用基板501を有しており、当該実装用基板501に対して上記「1.半導体装置」で説明した半導体装置100がフリップチップ実装された構造を有している。
詳しくは、実装用基板501上にはパッド電極502が形成されており、当該パッド電極502に対し半導体装置100のバンプ13が接続され、半導体装置100と実装用基板501との間がポリイミド、エポキシ等の封止用樹脂503で封止されている。
パッド電極502とバンプ13との接続に際しては、実装用基板500と半導体装置100とが位置合わせされ、その後にバンプ13がリフローされて、パッド電極502とバンプ13とが互いに接続されている。
実装用基板501は多層基板であり、それがセラミック,シリコン,ガリウム砒素等の無機材料から構成されていてもよいし、FR4,FR5,BT等のガラスエポキシ樹脂から構成されていてもよいし、ポリイミド,液晶ポリマー等の可撓性・絶縁性樹脂から構成されていてもよい。
以上の実装構造体500は、半導体装置100が実装用基板501に実装されたものであるから、バンプ13の高さが一定に保持された状態で半導体装置100が実装用基板501に接続され、半導体装置100と実装用基板501との接続が確実なものとなっている。
なお、半導体装置100に代えて、上記「1.半導体装置」で説明した半導体装置200,300,400を用いてもよいし、封止用樹脂503を設けなくてもよい。
100,200,300,400 半導体装置
1 保護膜
2 ウェハ
3 酸化膜
4 電極
5 保護膜
6 開口部
7 下地金属膜
8 第1の下地金属膜(濡れ性劣り部,金属膜)
9 第2の下地金属膜(第2の金属膜)
10 ピラーバンプ
11 ポスト
12 濡れ性劣り部
13 バンプ
14 隙間
20 酸化膜(濡れ性劣り部)
30 樹脂膜(濡れ性劣り部)
500 実装構造体
501 実装用基板
1 保護膜
2 ウェハ
3 酸化膜
4 電極
5 保護膜
6 開口部
7 下地金属膜
8 第1の下地金属膜(濡れ性劣り部,金属膜)
9 第2の下地金属膜(第2の金属膜)
10 ピラーバンプ
11 ポスト
12 濡れ性劣り部
13 バンプ
14 隙間
20 酸化膜(濡れ性劣り部)
30 樹脂膜(濡れ性劣り部)
500 実装構造体
501 実装用基板
Claims (20)
- ポストと、
前記ポスト上に形成されたバンプと、
前記バンプに対し前記ポストより濡れ性に劣る濡れ性劣り部と、
を備え、
前記濡れ性劣り部が前記ポストと前記バンプとの間に形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が筒状を呈していることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1又は2に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部がNiで構成されていることを特徴とする半導体装置。 - ポストと、
前記ポスト上に形成されたバンプと、
前記バンプに対し前記ポストより濡れ性に劣る濡れ性劣り部と、
を備え、
前記濡れ性劣り部が前記ポストの側面に形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項4に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が前記ポストを構成する材料の酸化膜であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置において、
前記酸化膜がCuO又はCu2Oで構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項4に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が樹脂膜であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項7に記載の半導体装置において、
前記樹脂膜がポリイミド又はエポキシで構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項4に記載の半導体装置において、
前記濡れ性劣り部が金属膜であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項9に記載の半導体装置において、
前記ポストが柱状を呈し、
前記金属膜が前記ポストの側面を覆う筒状を呈し、
前記金属膜の幅が前記バンプの幅と同じかそれ以上となっていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項9又は10に記載の半導体装置において、
前記金属膜がTi、TiW又はTiNで構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項9〜11のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記ポストと前記金属膜との密着性を高める第2の金属膜が、前記ポストと前記金属膜との間に形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項12に記載の半導体装置において、
前記第2の金属膜がCu、Ni、Pd、NiP、NiB又はPtで構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜13のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記バンプがPb、In、Sn、Au、Ag、Cu、Bi又はZnのいずれかを少なくとも1つ含む材料で構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜14のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記ポストがCu又はAuで構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜15のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記バンプがボール状を呈しかつ格子状に配置されたBGAであることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜16のいずれか一項に記載の半導体装置において、
フリップ・チップ、ウェハレベルパッケージ又はチップサイズパッケージとして用いられることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜17のいずれか一項に記載の半導体装置が実装用基板に実装されていることを特徴とする実装構造体。
- 請求項18に記載の実装構造体において、
前記半導体装置が前記実装用基板に対しフリップチップ実装されていることを特徴とする実装構造体。 - 請求項18又は19に記載の実装構造体において、
前記実装用基板が無機材料、ガラスエポキシ又は可撓性・絶縁性樹脂で構成されていることを特徴とする実装構造体。
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