JP2006229131A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路 Download PDF

Info

Publication number
JP2006229131A
JP2006229131A JP2005044004A JP2005044004A JP2006229131A JP 2006229131 A JP2006229131 A JP 2006229131A JP 2005044004 A JP2005044004 A JP 2005044004A JP 2005044004 A JP2005044004 A JP 2005044004A JP 2006229131 A JP2006229131 A JP 2006229131A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
data holding
electrode pad
holding circuit
data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005044004A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4592080B2 (ja
Inventor
Shinichi Nakatsu
真一 中津
Hideo Isogai
英夫 磯貝
Nagahiro Masumoto
長宏 桝本
Kazuyuki Nishizawa
一幸 西沢
Toshihide Tsuboi
俊秀 坪井
Kimiharu Eto
公治 江藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Electronics Corp
Original Assignee
NEC Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Electronics Corp filed Critical NEC Electronics Corp
Priority to JP2005044004A priority Critical patent/JP4592080B2/ja
Priority to US11/355,958 priority patent/US7564255B2/en
Publication of JP2006229131A publication Critical patent/JP2006229131A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4592080B2 publication Critical patent/JP4592080B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/1201Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details comprising I/O circuitry
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/48Arrangements in static stores specially adapted for testing by means external to the store, e.g. using direct memory access [DMA] or using auxiliary access paths
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/56External testing equipment for static stores, e.g. automatic test equipment [ATE]; Interfaces therefor
    • G11C2029/5602Interface to device under test

Abstract

【課題】回路機能部と複数のパッドとが形成されている半導体チップにおいて、プローブテストするパッドの数を減らした半導体集積回路の提供。
【解決手段】半導体チップは、第1電極パッド及び第2電極パッドと、前記第1電極パッドと接続される第1データ保持回路、及び、前記第2電極パッドと接続される第2データ保持回路と、前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路と電気的に接続される内部回路と、前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路間のデータ転送を制御する制御回路と、を有する半導体チップであって、前記第1電極パッドの面積は前記第2電極パッドの面積より大きいことを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、回路機能部と複数のパッドとが形成されている半導体チップに関する。
半導体ウェハーには、複数の半導体チップが行列上に形成されており、各半導体チップには、目的とする機能を実現する回路機能部が形成されている。その回路機能部の電気的特性を確認した後、半導体ウェハーから個々の半導体チップを切り出すダイシングが行われる。
半導体チップには、回路機能部に加え、さらに、その回路機能部の入力端子、出力端子、制御端子、及び電源端子等と各々接続される電極パッド(以下、パッド)が同時に形成されている。
回路機能部の電気的特性確認は、各々のパッドと対応する位置にプローブ針を設けたプローブカードを介して、検査装置(テスター)にて行う。以下、この電気的特性確認試験をプローブテストという。
プローブテストは、回路機能部の電気的特性確認試験であるので、回路機能部と電気的に接続される各パッドに対してプローブ針を同時に接触させる必要がある。また、半導体ウェハーに形成されたすべての半導体チップについてプローブテストを行う必要があるため、その試験時間は、半導体チップ数とともに増加する。
半導体チップ上のパッド密度を向上させる構造が、特開2003−332450に開示されている(特許文献1)。この特許文献1では、半導体集積回路に大きさの異なるパッドを交互にインラインで配置し、まず、プローブ接触用のパッドである第1パッド(大きいパッド)にプローブの針を接触させて第1内部回路に信号を印加する。次に、その状態を保持したままで、第2パッド(小さいパッド)と接続されている第2内部回路に信号を印加する。第1パッドからそれぞれ第1、第2内部回路への信号切り替えは半導体集積回路に形成されるスイッチ回路にて行っている。
一方、プローブテストの時間短縮を実現する手法が、特開2001−77162に開示されている(特許文献2)。これは、半導体集積回路チップ上にパッドを一列に配置することで、複数の半導体集積回路チップに対して同時にテスト信号を供給するものである。このプローブテストで使用するプローブカードは、パッドの位置に対応したプローブ針を並列に測定するチップ数分だけ備えている。
特開2003−332450号公報 特開2001−77162号公報
特許文献1では、各内部回路のテストを個々に行わなければならない。例としては、まず、第1パッドに接続されている第1内部回路のテストを行い、このテストが終了してからスイッチ回路により第2パッドに接続されている第2内部回路を第1パッドに接続させ、この第2内部回路のテストを行うことになる。つまり、特許文献1では、複数並んでいる入力端子または出力端子に各々接続されている内部回路を2つのグループに分け、各々を同じテストパターンで測定するためテスト時間が長くなる、という欠点がある。
特許文献2では、プローブカードにプローブ針を複数チップ分設けて並列測定を可能としている。しかし、各半導体チップに形成されるパッドのすべてにプローブ針を接触させる必要がある。したがって、プローブカード自体の特性を考慮するとパッドを一列、または千鳥状に配置することが条件となる。回路規模増大に伴い、必要となるパッド数も増大する。半導体チップにおけるパッド配置の上記制約は、並列測定を実現するものであっても半導体チップの設計自体を困難にする原因となる。
以下に、[発明を実施するための最良の形態]で使用する番号・符号を用いて、課題を解決するための手段を説明する。これらの番号・符号は、[特許請求の範囲]の記載と[発明を実施するための最良の形態]の記載との対応関係を明らかにするために付加されたものであるが、[特許請求の範囲]に記載されている発明の技術的範囲の解釈に用いてはならない。
本発明の半導体チップ(10)は、
第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)及び第2電極パッド(2−1〜2−4)(4−1〜4−4)と、
前記第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)と接続される第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)、及び、前記第2電極パッド(2−1〜2−4)(4−1〜4−4)と接続される第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)と、
前記第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)及び前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)と電気的に接続される内部回路(6)と、
前記第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)及び前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)間のデータ転送を制御する制御回路(7)と、
を有する半導体チップ(10)であって、
前記第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)の面積は前記第2電極パッド(2−1〜2−4)(4−1〜4−4)の面積より大きいことを特徴とする。
本発明の半導体チップ(10)は、
第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)及び第2電極パッド(2−1〜2−4)(4−1〜4−4)と、
前記第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)と接続される第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)、及び、前記第2電極パッド(2−1〜2−4)(4−1〜4−4)と接続される第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)と、
前記第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)及び前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)と電気的に接続される内部回路(6)と、
前記第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)及び前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)間のデータ転送を制御する制御回路(7)と、
を有する半導体チップ(10)であって、
前記第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)にはプローブ針跡が形成されていることを特徴とする。
本発明の半導体チップ(10)は、
第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)及び第2電極パッド(2−1〜2−4)(4−1〜4−4)と、
前記第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)と接続される第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)、及び、前記第2電極パッド(2−1〜2−4)(4−1〜4−4)と接続される第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)と、
前記第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)及び前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)と電気的に接続される内部回路(6)と、
前記第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)及び前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)間のデータ転送を制御する制御回路(7)と、
を有する半導体チップ(10)であって、
前記内部回路(6)は、前記第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)に印加される外部データの演算処理結果を内部回路(6)出力データとして出力し、
前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)は、前記内部回路(6)出力データを保持し、
前記制御回路(7)は、前記内部回路(6)出力データを前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)から前記第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)に転送させる、
ことを特徴とする。
本発明の半導体チップ(10)は、
プローブされる第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)と、
プローブされない第2電極パッド(2−1〜2−4)(4−1〜4−4)と、
前記第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)と接続される第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)、及び、前記第2電極パッド(2−1〜2−4)(4−1〜4−4)と接続される第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)と、
前記第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)、前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)にそれぞれ第1出力データ、第2出力データを出力する内部回路(6)と、
前記第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)及び前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)に接続された制御回路(7)と、
を有する半導体チップ(10)であって、
前記第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)には前記第1出力データが供給され、
前記制御回路(7)は、制御信号に応じて前記第2出力データを前記第2データ保持回路(2L−1〜2L−4)(4L−1〜4L−4)から前記第1データ保持回路(1L−1〜1L−4)(3L−1〜3L−4)に転送し、前記第1電極パッド(1−1〜1−4)(3−1〜3−4)には前記第2出力データが供給される。
以上の構成により、本発明の半導体チップでは、プローブされている第1電極パッドへの出力データについてテストすることができる上に、プローブされていない第2電極パッドへの出力データについては、第2データ保持回路から第1データ保持回路に転送して、プローブされている第1電極パッドに供給することにより、テストすることができる。このように、本発明の半導体チップによれば、プローブするパッドの数を減らすことができる。
以下に添付図面を参照して、本発明の半導体チップについて詳細に説明する。
図1は、本発明の半導体チップの構成を示すブロック図である。本発明の半導体チップ10は、半導体ウェハー上に行列上に形成され、その半導体チップ10には、目的とする機能を実現する回路機能部5と、複数の電極パッド(以下、パッド)とが同時に形成されている。
複数のパッドは、第1パッド群1−1〜1−4、第2パッド群2−1〜2−4、第3パッド群3−1〜3−4、第4パッド群4−1〜4−4を含んでいる。
第1パッド群1−1〜1−4と第3パッド群3−1〜3−4は、半導体チップ10上の対向する2辺に配置されている。即ち、第1パッド群1−1〜1−4は、半導体チップ10上の辺Y1に形成されている。第3パッド群3−1〜3−4は、半導体チップ10上の辺Y1に対向する辺Y2に形成されている。
第2パッド群2−1〜2−4と第4パッド群4−1〜4−4は、半導体チップ10上の対向する他の2辺に配置されている。即ち、第2パッド群2−1〜2−4は、半導体チップ10上の辺Y1及び辺Y2に直交する辺X1に形成されている。第4パッド群4−1〜4−4は、半導体チップ10上の辺X1に対向する辺X2に形成されている。
第1パッド群1−1〜1−4、第3パッド群3−1〜3−4はプローブ接触用のパッドであり、その形状は、第2パッド群2−1〜2−4及び第4パッド群4−1〜4−4の形状よりも大きい。
例えば、第2パッド群2−1〜2−4及び第4パッド群4−1〜4−4の形状は正方形であり、第1パッド群1−1〜1−4及び第3パッド群3−1〜3−4の形状は、上記の正方形よりも面積が大きい長方形である。第1パッド群1−1〜1−4及び第3パッド群3−1〜3−4は、プローブされるプロービング領域と、プローブ後にボンディングされるボンディング領域とを有する。
回路機能部5は、演算回路である内部回路6を具備している。内部回路6は、半導体チップ10上の中央部に形成されている。
回路機能部5は、更に、複数のデータ保持回路を具備している。データ保持回路としては、ラッチ回路、レジスタが例示される。本実施例では、データ保持回路をラッチ回路とする。複数のデータ保持回路は、第1ラッチ回路1L、第2ラッチ回路2L、第3ラッチ回路3L、第4ラッチ回路4Lを含んでいる。第1ラッチ回路1Lは、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4を含み、第2ラッチ回路2Lは、第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4を含み、第3ラッチ回路3Lは、第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4を含み、第4ラッチ回路4Lは、第4ラッチ回路群4L−1〜4L−4を含んでいる。
第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4は、内部回路6と第1パッド群1−1〜1−4との間に形成され、内部回路6に接続されている。第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4は、内部回路6と第2パッド群2−1〜2−4との間に形成され、内部回路6に接続されている。第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4は、内部回路6と第3パッド群3−1〜3−4との間に形成され、内部回路6に接続されている。第4ラッチ回路群4L−1〜4L−4は、内部回路6と第4パッド群4−1〜4−4との間に形成され、内部回路6に接続されている。
回路機能部5は、更に、入出力回路である第1入出力回路1IO、第2入出力回路2IO、第3入出力回路3IO、第4入出力回路4IOを具備している。第1入出力回路1IOは、第1入出力回路群1IO−1〜1IO−4を含み、第2入出力回路2IOは、第2入出力回路群2IO−1〜2IO−4を含み、第3入出力回路3IOは、第3入出力回路群3IO−1〜3IO−4を含み、第4入出力回路4IOは、第4入出力回路群4IO−1〜4IO−4を含んでいる。
第1入出力回路群1IO−1〜1IO−4は、それぞれ、第1パッド群1−1〜1−4と、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4とに接続されている。第2入出力回路群2IO−1〜2IO−4は、それぞれ、第2パッド群2−1〜2−4と、第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4とに接続されている。第3入出力回路群3IO−1〜3IO−4は、それぞれ、第3パッド群3−1〜3−4と、第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4とに接続されている。第4入出力回路群4IO−1〜4IO−4は、それぞれ、第4パッド群4−1〜4−4と、第4ラッチ回路群4L−1〜4L−4とに接続されている。
回路機能部5は、更に、制御回路7を具備している。制御回路7は、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4、第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4、第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4、第4ラッチ回路群4L−1〜4L−4と、第1入出力回路群1IO−1〜1IO−4、第2入出力回路群2IO−1〜2IO−4、第3入出力回路群3IO−1〜3IO−4、第4入出力回路群4IO−1〜4IO−4とに接続されている。
制御回路7は、外部からの入出力制御信号により、第1入出力回路群1IO−1〜1IO−4、第2入出力回路群2IO−1〜2IO−4、第3入出力回路群3IO−1〜3IO−4、第4入出力回路群4IO−1〜4IO−4における入出力動作を制御する。
制御回路7は、外部からのラッチ制御信号により、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4、第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4、第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4、第4ラッチ回路群4L−1〜4L−4におけるラッチ動作を制御する。
本発明の半導体チップ10は、その回路機能部5の電気的特性が確認された後に、半導体ウェハーから切り出される(ダイシングが行われる)。本発明では、図2に示されるように、プローブテストは、第1パッド群1−1〜1−4、第3パッド群3−1〜3−4のそれぞれにプローブカード20のプローブ針を設け、プローブカード20を介して、検査装置(テスター)30にて行う。
図3は、本発明の半導体チップ10が製造されるときに行なわれるプローブテストを示すフローチャートである。プローブテストでは、取付処理(ステップS11)、プローブ処理(ステップS12)を実行する。
取付処理(ステップS11)では、第1パッド群1−1〜1−4及び第3パッド群3−1〜3−4のプロービング領域にそれぞれプローブカード20のプローブ針を取り付ける。この場合、第1パッド群1−1〜1−4及び第3パッド群3−1〜3−4の形状が長方形であり、第2パッド群2−1〜2−4及び第4パッド群4−1〜4−4よりも大きいので、プローブカード20のプローブ針を取り付けるべき位置が第1パッド群1−1〜1−4及び第3パッド群3−1〜3−4であることが分かる。
プローブ処理(ステップS12)では、テスター30によってプローブカード20を介して、第1パッド群1−1〜1−4と第3パッド群3−1〜3−4とをプローブする。図4は、本発明の半導体チップ10におけるプローブテストのプローブ処理(ステップS12)を示すフローチャートである。このプローブ処理(ステップS12)では、データ入力処理(ステップS21)、データ実行処理(ステップS22)、データ転送処理(ステップS23)、判定処理(ステップS24)を実行する。
データ入力処理(ステップS21)において、第1パッド群1−1〜1−4は、データを内部回路6に供給するための入力用パッドとして用いられ、第3パッド群3−1〜3−4は、内部回路6からの出力データ(演算処理結果)が供給される出力用パッドとして用いられる。この場合、制御回路7は、外部からの入出力制御信号に応じて、第1入出力回路群1IO−1〜1IO−4、第3入出力回路群3IO−1〜3IO−4を活性化する。このとき、制御回路7は、第1入出力回路群1IO−1〜1IO−4を、第1パッド群1−1〜1−4から第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4にデータ転送を行なう入力バッファとして用いる。また、制御回路7は、第3入出力回路群3IO−1〜3IO−4を、第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4から第3パッド群3−1〜3−4にデータ転送を行なう出力バッファとして用いる。また、第2パッド群2−1〜2−4、第4パッド群4−1〜4−4は、プローブされないため、データ転送時にノイズがのらないように、制御回路7は、第2入出力回路群2IO−1〜2IO−4、第4入出力回路群4IO−1〜4IO−4を非活性化する。
次に、データ入力処理(ステップS21)において、テスター30によってプローブカード20を介して、入力データである第1データ群をそれぞれ第1パッド群1−1〜1−4に供給する。このとき、第1入出力回路群1IO−1〜1IO−4は、それぞれ第1パッド群1−1〜1−4に供給される第1データ群を第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4に出力する。第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4は、それぞれ、第1入出力回路群1IO−1〜1IO−4からの第1データ群をラッチし、第1データ群をそれぞれ内部回路6に出力する。
データ実行処理(ステップS22)において、内部回路6は、第1データ群をそれぞれ第2データ群、第3データ群、第4データ群に変換し、演算処理結果として第2データ群、第3データ群、第4データ群をそれぞれ第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4、第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4、第4ラッチ回路群4L−1〜4L−4に出力する。第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4はそれぞれ第2データ群をラッチし、第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4はそれぞれ第3データ群をラッチし、第4ラッチ回路群4L−1〜4L−4はそれぞれ第4データ群をラッチする。
第3入出力回路群3IO−1〜3IO−4は、第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4にラッチされた第3データ群をそれぞれ第3パッド群3−1〜3−4に出力する。第3パッド群3−1〜3−4に供給された第3データ群は、それぞれ、入力データ(第1データ群)に対する出力データとして、プローブカード20を介してテスター30に供給される。これにより、第1パッド群1−1〜1−4に供給された入力データ(第1データ群)に対して、第3パッド群3−1〜3−4には出力データ(第3データ群)が供給される。
プローブされていない第2パッド群2−1〜2−4、第4パッド群4−1〜4−4への出力データ(第2データ群、第4データ群)については、データ転送処理(ステップS23)において、転送して、プローブされている第3パッド群3−1〜3−4、第1パッド群1−1〜1−4に供給する。
このデータ転送処理(ステップS23)において、第1パッド群1−1〜1−4、第3パッド群3−1〜3−4は、それぞれ、内部回路6からの出力データが供給される出力用パッドとして用いられる。この場合、制御回路7は、外部からの入出力制御信号に応じて、第1入出力回路群1IO−1〜1IO−4、第3入出力回路群3IO−1〜3IO−4を活性化する。このとき、制御回路7は、第1入出力回路群1IO−1〜1IO−4を、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4から第1パッド群1−1〜1−4にデータ転送を行なう出力バッファとして用いる。また、制御回路7は、第3入出力回路群3IO−1〜3IO−4を、第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4から第3パッド群3−1〜3−4にデータ転送を行なう出力バッファとして用いる。
次に、データ転送処理(ステップS23)において、制御回路7は、外部からのラッチ制御信号に応じて、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4、第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4、第3ラッチ回路群3L−4〜3L−1、第4ラッチ回路群4L−4〜4L−1を、この順で直列接続するシフトレジスタとして用いる。
制御回路7は、演算処理結果である第2データ群、第3データ群、第4データ群を、それぞれ、第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4、第3ラッチ回路群3L−4〜3L−1、第4ラッチ回路群4L−4〜4L−1を経由して、第3ラッチ回路群3L−4〜3L−1、第4ラッチ回路群4L−4〜4L−1、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4に転送する。この場合、制御回路7にラッチ制御信号が4回供給されたとき、第2データ群、第3データ群、第4データ群は、それぞれ、第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4、第3ラッチ回路群3L−4〜3L−1、第4ラッチ回路群4L−4〜4L−1から、第3ラッチ回路群3L−4〜3L−1、第4ラッチ回路群4L−4〜4L−1、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4に転送される。
第3ラッチ回路群3L−1〜3L−4に第2データ群が転送されたとき、第3入出力回路群3IO−1〜3IO−4は、その第2データ群をそれぞれ第3パッド群3−1〜3−4に出力する。第3パッド群3−1〜3−4に供給された第2データ群は、それぞれ、入力データ(第1データ群)に対する出力データとして、プローブカード20を介してテスター30に供給される。
第1ラッチ回路群1L−4〜1L−1に第4データ群が転送されたとき、第1入出力回路群1IO−1〜3IO−4は、その第4データ群をそれぞれ第1パッド群1−1〜1−4に出力する。第1パッド群1−1〜1−4に供給された第4データ群は、それぞれ、入力データ(第1データ群)に対する出力データとして、プローブカード20を介してテスター30に供給される。
判定処理(ステップS24)において、テスター30は、入力データ(第1データ群)に対する演算処理結果(第2データ群、第3データ群、第4データ群)に基づいて、半導体チップ10の良否を判定する。判定の結果、良品を表す場合、本発明の半導体チップ10は、組立工程においてパッケージ品として組み立てられる。このときに、半導体チップ10上の複数のパッドにボンディングが行なわれ、その後、出荷される。
以上の説明により、本発明の半導体チップ10によれば、上記のプローブテスト(ステップS12)において、プローブされている第1パッド群1−1〜1−4に第1データ群を供給することにより、プローブされている第3パッド群3−1〜3−4には、内部回路6の演算処理結果として第3データ群が供給される。これにより、第1パッド群1−1〜1−4に供給された入力データ(第1データ群)に対して、第3パッド群3−1〜3−4への出力データ(第3データ群)についてテストすることができる。
また、演算処理結果である第2データ群、第3データ群、第4データ群は、それぞれ、第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4、第3ラッチ回路群3L−4〜3L−1、第4ラッチ回路群4L−4〜4L−1に保持されている。このため、制御回路7により、第2データ群、第3データ群、第4データ群を第3ラッチ回路群3L−4〜3L−1、第4ラッチ回路群4L−4〜4L−1、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4に転送することにより、プローブされている第3パッド群3−1〜3−4に第2データ群を供給し、プローブされている第1パッド群1−1〜1−4に第4データ群を供給する。これにより、プローブされていない第2パッド群2−1〜2−4、第4パッド群4−1〜4−4への出力データ(第2データ群、第4データ群)についてテストすることができる。
このように、本発明の半導体チップ10によれば、プローブするパッドの数を減らすことができる。
また、本発明の半導体チップ10によれば、上記のプローブテスト(ステップS12)において、半導体チップ10上の対向する2辺に形成されているパッドとして第1パッド群1−1〜1−4、第3パッド群3−1〜3−4をプローブすることにより、半導体ウェハー上に縦一列に並ぶ複数の半導体チップ10に対して同時にテストを行なうことができる。このように、同時にテストできる半導体チップ10を増やすことができ、結果として1個の半導体チップ10をテストする時間で複数の半導体チップ10を同時にテストすることができる。そのため、1個あたりのテスト時間が短縮される。
また、本発明の半導体チップ10によれば、上記のプローブテスト(ステップS12)において、半導体チップ10上の対向する2辺に形成されているパッドにプローブすればよいため、並列測定を実現する上で、プローブカード20自体の特性を考慮したパッド配置の制約はない。
また、本発明の半導体チップ10によれば、第1パッド群1−1〜1−4及び第3パッド群3−1〜3−4と、第2パッド群2−1〜2−4及び第4パッド群4−1〜4−4との形状が異なる。これにより、プローブテスト(ステップS12)において、第1パッド群1−1〜1−4及び第3パッド群3−1〜3−4のプロービング領域にプローブした場合、そのプロービング領域にはプローブ針跡が形成されるが、そのボンディング領域にはプロービングによる傷が付かない。このため、組立工程において、第1パッド群1−1〜1−4及び第3パッド群3−1〜3−4のボンディング領域にボンディングを行なったときに、プロービングによる傷が原因となるボンディング剥がれや接続不良などの不具合が起きにくくなる。したがって、出荷後に使われる上記の複数のパッドの品質劣化を避けることができる。
なお、上記の実施例では、例えば、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4は、それぞれ第1パッド群1−1〜1−4に供給(印加)される入力データである第1データ群を保持し、内部回路6に入力させ、第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4は、それぞれ、内部回路6の出力データ(演算処理結果)として第2データ群を保持し、制御回路7は、その第2データ群を、それぞれ、第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4を経由して、第3ラッチ回路群3L−4〜3L−1に伝えている。
一方、他の実施例として、例えば、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4は、それぞれ第1パッド群1−1〜1−4に供給(印加)される外部信号である第1データ群を保持し、制御回路7は、その第1データ群を、それぞれ、第1ラッチ回路群1L−1〜1L−4から第2ラッチ回路群2L−1〜2L−4を経由して、内部回路6に入力させてもよい。
図1は、本発明の半導体チップ10の構成を示すブロック図である。 図2は、本発明の半導体チップ10におけるプローブテストを説明するための図である。 図3は、本発明の半導体チップ10が製造されるときに行なわれるプローブテストを示すフローチャートである。 図4は、本発明の半導体チップ10におけるプローブテストのプローブ処理(ステップS12)を示すフローチャートである。
符号の説明
1−1〜1−4 第1パッド
2−1〜2−4 第2パッド
3−1〜3−4 第3パッド
4−1〜4−4 第4パッド
1IO−1〜1IO−4 第1入出力回路
2IO−1〜2IO−4 第2入出力回路
3IO−1〜3IO−4 第3入出力回路
4IO−1〜4IO−4 第4入出力回路
1L−1〜1L−4 第1ラッチ回路
2L−1〜2L−4 第2ラッチ回路
3L−1〜3L−4 第3ラッチ回路
4L−1〜4L−4 第4ラッチ回路
5 回路機能部
6 内部回路
10 半導体チップ
20 プローブカード
30 検査装置(テスター)
X1 辺
X2 辺
Y1 辺
Y2 辺

Claims (11)

  1. 第1電極パッド及び第2電極パッドと、
    前記第1電極パッドと接続される第1データ保持回路、及び、前記第2電極パッドと接続される第2データ保持回路と、
    前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路と電気的に接続される内部回路と、
    前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路間のデータ転送を制御する制御回路と、
    を有する半導体チップであって、
    前記第1電極パッドの面積は前記第2電極パッドの面積より大きいことを特徴とする半導体チップ。
  2. 第1電極パッド及び第2電極パッドと、
    前記第1電極パッドと接続される第1データ保持回路、及び、前記第2電極パッドと接続される第2データ保持回路と、
    前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路と電気的に接続される内部回路と、
    前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路間のデータ転送を制御する制御回路と、
    を有する半導体チップであって、
    前記第1電極パッドにはプローブ針跡が形成されていることを特徴とする半導体チップ。
  3. 前記第2データ保持回路は前記内部回路の出力データを保持し、
    前記出力データは前記第1データ保持回路を経由して前記第1電極パッドに伝えられる
    ことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体チップ。
  4. 前記第1データ保持回路は前記第1電極パッドに印加された外部信号を保持し、
    前記外部信号は前記第1データ保持回路から前記第2データ保持回路を経由して前記内部回路に入力される
    ことを特徴とする請求項1乃至3いずれかに記載の半導体チップ。
  5. 前記半導体チップは、
    前記第1電極パッドと前記第1データ保持回路の間に接続される第1入出力回路と、
    前記第2電極パッドと前記第2データ保持回路の間に接続される第2入出力回路とを更に有し、
    前記第2入出力回路は、前記第2データ保持回路が前記出力データを保持している期間、非活性化される、
    ことを特徴とする請求項3記載の半導体チップ。
  6. 前記第1電極パッド及び前記第2電極パッドは前記半導体チップの異なる辺に形成されていることを特徴とする請求項1乃至5いずれかに記載の半導体チップ。
  7. 前記第1電極パッドは互いに対向する2辺に、各々複数配置され、
    前記第2電極パッドは他の2辺に、各々複数配置されている、
    ことを特徴とする請求項1乃至6いずれかに記載の半導体チップ。
  8. 第1電極パッド及び第2電極パッドと、
    前記第1電極パッドと接続される第1データ保持回路、及び、前記第2電極パッドと接続される第2データ保持回路と、
    前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路と電気的に接続される内部回路と、
    前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路間のデータ転送を制御する制御回路と、
    を有する半導体チップであって、
    前記内部回路は、前記第1電極パッドに印加される外部データの演算処理結果を内部回路出力データとして出力し、
    前記第2データ保持回路は、前記内部回路出力データを保持し、
    前記制御回路は、前記内部回路出力データを前記第2データ保持回路から前記第1データ保持回路に転送させる、
    ことを特徴とする半導体チップ。
  9. プローブされる第1電極パッドと、
    プローブされない第2電極パッドと、
    前記第1電極パッドと接続される第1データ保持回路、及び、前記第2電極パッドと接続される第2データ保持回路と、
    前記第1データ保持回路、前記第2データ保持回路にそれぞれ第1出力データ、第2出力データを出力する内部回路と、
    前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路に接続された制御回路と、
    を有する半導体チップであって、
    前記第1電極パッドには前記第1出力データが供給され、
    前記制御回路は、制御信号に応じて前記第2出力データを前記第2データ保持回路から前記第1データ保持回路に転送し、前記第1電極パッドには前記第2出力データが供給される
    半導体チップ。
  10. 第1電極パッド及び第2電極パッドと、
    前記第1電極パッドと接続される第1データ保持回路、及び、前記第2電極パッドと接続される第2データ保持回路と、
    前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路と電気的に接続される内部回路と、
    前記第1データ保持回路及び前記第2データ保持回路間のデータ転送を制御する制御回路と、
    を有する半導体チップの製造方法であって、
    前記半導体チップが複数配置された半導体基板に対し、前記第1電極パッドにプローブ針を接触させて前記内部回路に外部データを入力する工程と、
    前記内部回路の演算処理結果を、前記第2データ保持回路を経由して前記第1データ保持回路に転送する工程と、
    前記第1電極パッドに出力される前記内部回路の演算処理結果に基づき前記半導体チップの良否を判定する工程と、
    からなる半導体チップの製造方法。
  11. 前記第1電極パッドへのプローブ針接触は、前記半導体基板における複数の半導体チップに対して行う、
    ことを特徴とする請求項10記載の半導体チップの製造方法。
JP2005044004A 2005-02-21 2005-02-21 半導体集積回路 Expired - Fee Related JP4592080B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005044004A JP4592080B2 (ja) 2005-02-21 2005-02-21 半導体集積回路
US11/355,958 US7564255B2 (en) 2005-02-21 2006-02-17 Semiconductor integrated circuit for reducing number of contact pads to be probed in probe test

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005044004A JP4592080B2 (ja) 2005-02-21 2005-02-21 半導体集積回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006229131A true JP2006229131A (ja) 2006-08-31
JP4592080B2 JP4592080B2 (ja) 2010-12-01

Family

ID=36914254

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005044004A Expired - Fee Related JP4592080B2 (ja) 2005-02-21 2005-02-21 半導体集積回路

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7564255B2 (ja)
JP (1) JP4592080B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010062266A (ja) * 2008-09-02 2010-03-18 Rohm Co Ltd 半導体モジュール
KR101036924B1 (ko) * 2009-12-28 2011-05-25 주식회사 하이닉스반도체 반도체 집적회로
TWI571642B (zh) 2015-09-10 2017-02-21 新特系統股份有限公司 使用單一探針測試晶片的多個連接墊的測試裝置及方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63199439A (ja) * 1987-02-16 1988-08-17 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JPH06302768A (ja) * 1993-04-15 1994-10-28 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
JP2000315771A (ja) * 1999-04-30 2000-11-14 Seiko Epson Corp 半導体集積回路
JP2006222200A (ja) * 2005-02-09 2006-08-24 Elpida Memory Inc 半導体チップ

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH081457B2 (ja) * 1989-09-29 1996-01-10 株式会社東芝 ディジタル集積回路におけるテスト容易化回路
US6456099B1 (en) * 1998-12-31 2002-09-24 Formfactor, Inc. Special contact points for accessing internal circuitry of an integrated circuit
JP2001077162A (ja) 2000-08-01 2001-03-23 Toshiba Corp 半導体集積回路のプロービング試験方法
JP4313544B2 (ja) 2002-05-15 2009-08-12 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63199439A (ja) * 1987-02-16 1988-08-17 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JPH06302768A (ja) * 1993-04-15 1994-10-28 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
JP2000315771A (ja) * 1999-04-30 2000-11-14 Seiko Epson Corp 半導体集積回路
JP2006222200A (ja) * 2005-02-09 2006-08-24 Elpida Memory Inc 半導体チップ

Also Published As

Publication number Publication date
US20060190779A1 (en) 2006-08-24
US7564255B2 (en) 2009-07-21
JP4592080B2 (ja) 2010-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6400173B1 (en) Test system and manufacturing of semiconductor device
US8471588B2 (en) Semiconductor wafer device and method for testing the same
US20080116910A1 (en) Apparatus for mass die testing
KR100556639B1 (ko) 반도체 검사 장치, 반도체 집적 회로 장치, 및 반도체 집적 회로 장치의 검사 방법
JP4313544B2 (ja) 半導体集積回路
JP4592080B2 (ja) 半導体集積回路
US6356095B1 (en) Semiconductor integrated circuit
JPWO2006080111A1 (ja) 半導体集積回路及びシステムlsi
JP3509001B2 (ja) 自己診断テスト回路機能を備えた半導体集積回路および半導体集積回路のテスト方法
US20030126524A1 (en) Semiconductor storage unit
JPH07201935A (ja) プローブカード及び検査方法
KR100768578B1 (ko) 집적회로의 검사 장치
CN113224034B (zh) 一种晶圆及光掩膜版
KR100842909B1 (ko) 번-인 테스트의 스캔 방법
KR100977060B1 (ko) 반도체칩 테스터용 프로브 카드와 이를 사용하는 테스터 및그 테스터를 이용한 반도체칩의 검사방법
JP4690731B2 (ja) 半導体装置とそのテスト装置及びテスト方法。
KR20090075515A (ko) 프로브 카드 및 이를 포함하는 테스트 장비
JP2009239259A (ja) 半導体装置
KR100641471B1 (ko) 반도체 소자의 입력 ic 구조
JP2008186829A (ja) ウェハー検査用治工具及びその治工具を使用した測定方法
JP4744884B2 (ja) ウエハ検査装置及びウエハ検査方法
JP4234826B2 (ja) 半導体集積回路の評価方法
JP2005121553A (ja) プローブカード及び半導体チップの試験方法
JP2002009119A (ja) 半導体ウエハおよび半導体装置の製造方法
JPH06252234A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071011

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100913

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100916

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100913

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees