JP2006210948A5 - - Google Patents
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- 真空処理室を形成する真空処理容器と、
前記真空処理容器内に処理ガスを供給する処理ガス供給装置と、
前記真空処理容器内に電磁エネルギを供給し処理室内に供給した処理ガスを解離してプラズマを生成するプラズマ生成手段とを備え、
前記真空処理容器内に搬入したウエハにプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
真空処理室内表面温度を制御する処理室表面温度制御部を備え、該制御部は、ウエハ処理に先立って、直前のロットの処理時間又は直前のロットの処理電力又は直前のロットの処理圧力又は直前のロットのウエハ処理枚数を元に直前のロット終了時の真空処理容器内表面温度を推定し、次に直前のロット終了時からの処理室の空き時間をもとに現在のロット処理開始時の真空処理容器内表面温度を推定し、該推定結果をもとに真空処理容器内に生成されるプラズマの生成条件を変更して真空処理容器内表面温度を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 真空処理室を形成する真空処理容器と、
前記真空処理容器内に処理ガスを供給する処理ガス供給装置と、
前記真空処理容器内に電磁エネルギを供給し処理室内に供給した処理ガスを解離してプラズマを精製するプラズマ生成手段とを備え、
前記真空処理容器内に搬入したウエハにプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
真空処理室内表面温度を制御する処理室表面温度制御部を備え、該制御部は、ロット前のクリーニング処理に先立って、直前のロットからの空き時間、及び直前のロットの処理時間又は直前のロットの処理電力又は直前のロットの処理圧力又は直前のロットのウエハ処理枚数を元にロット前クリーニング開始時の真空処理容器内表面温度を推定し、該推定結果を元にロット前クリーニング終了時の真空処理室内表面温度が一定となるように前期ロット前クリーニング処理条件を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。
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