JP2015500921A5

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Publication number: JP2015500921A5
Application number: JP2014543775A
Authority: JP
Filing date: 2011-11-30
Publication date: 2015-02-26
Anticipated expiration: 2031-11-30

Claims

反応性堆積プロセスを制御する方法であって、
電源によってカソードに電力を供給することと、
前記電源に電圧設定点を与えることと、
前記カソードに供給された前記電力に相関する電力値を受信することと、
閉ループ制御を与えるため前記電力値に基づいてプロセスガスの流れを制御することと
を含む方法。
前記カソードに供給される前記電力は、特に１ｋＨｚから２００ｋＨｚの発振周波数を有するＭＦ電力である、請求項１に記載の方法。
前記電圧設定点は前記電源のための上限値である、請求項１または２に記載の方法。
前記電圧設定点は、前記カソードを移行モードにおいて動作させるように構成される、請求項１ないし３のいずれか一項に記載の方法。
前記電力値は、特にＭＦ電力として、前記カソードに供給される実際の電力である、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の方法。
前記受信された電力値は、前記プロセスガスの流れを制御することによって安定する、請求項１ないし５のいずれか一項に記載の方法。
前記プロセスガスは酸素を含み、特に酸素流が制御される、請求項１ないし６のいずれか一項に記載の方法。
前記電源によって供給される前記電圧の実際の電圧値を受信し、前記実際の値に基づいて堆積モードを監視することを更に含む、請求項１ないし７のいずれか一項に記載の方法。
中にチャンバ（３２）及びカソード（２１４，２１５，３１４，５２２）を有する堆積装置（３００，５００）内で反応性堆積プロセスのために構成される閉ループ制御アセンブリ（２００）であって、
前記カソード（２１４，２１５，３１４，５２２）に電力を供給するため前記カソードに接続される電源（２１０）と、
前記チャンバ（３２）内にプロセスガスを供給するように構成されるガス供給源（３３０）と、
前記電源（２１０）に電圧設定点を与え、かつ前記電源から電力値を受信するため、前記電源に接続されるコントローラ（３１０）であって、前記コントローラは、前記電力値に基づいて前記プロセスガスのガス流を制御するために前記ガス供給源（３３０）に更に接続される、コントローラと
を備える閉ループ制御アセンブリ。
前記電力値は前記カソード（２１４，２１５，３１４，５２２）に供給される前記電力である、請求項９に記載のアセンブリ（２００）。
前記電源（２１０）は、特にＤＣ発生器（４１２）及び発振器（４１４）を有する、ＭＦ電源である、請求項９または１０に記載のアセンブリ（２００）。
前記電源（２１０）は、１ｋＨｚから２００ｋＨｚの発振周波数を有する前記電力を供給するように構成される、請求項９ないし１１のいずれか一項に記載のアセンブリ（２００）。
前記コントローラ（３１０）は、アセンブリが請求項１ないし８のいずれか一項に記載の方法の少なくとも１つを実行するように適応されたプログラムコードを含む、請求項９ないし１２のいずれか一項に記載のアセンブリ（２００）。
前記電圧設定点（２２２，４２２）は電圧上限値である、請求項９ないし１３のいずれか一項に記載のアセンブリ（２００）。
基板上への層の反応性堆積のための堆積装置（３００，５００）であって、
その中で前記基板上に前記層を堆積するためのチャンバ（３２）と、
前記チャンバ内にプラズマを生成するためのカソード（２１４，２１５，３１４，５２２）と、
請求項９ないし１４のいずれか一項に記載の閉ループ制御アセンブリ（２００）と
を備える堆積装置。