JP2011155044A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 真空処理室と、前記真空処理室へ第１のガスを供給する第１のガス導入手段と、前記真空処理室へ第２のガスを供給する第２のガス導入手段と、前記第１のガス供給手段及び前記第２のガス供給手段のガス流量の設定値を制御する制御部とを有する真空処理装置において、
   前記制御部は、
   第１の時間帯において、前記第１のガス導入手段を第1の設定値に設定するとともに前記第１の時間帯終了時に前記第１の設定値をゼロに設定する機能と、
   前記第１の時間帯に連続する第２の時間帯において、前記第２のガス導入手段を第２設定値に設定するとともに前記第２の時間帯の開始時に一時的に前記第２の設定値を越える第３の設定値に設定する機能とを有することを特徴とする真空処理装置。
2. 請求項１記載の真空処理装置において、
   前記制御部は、前記第１の時間帯終了時直前の前記第１ガスの流量が前記第１の設定値よりも小さくなるように、前記第１のガス導入手段を第４の設定値に設定する機能を有することを特徴とする真空処理装置。
3. 真空処理室と、前記真空処理室へ第１のガスを供給する第１のガス導入手段と、前記真空処理室へ第２のガスを供給する第２のガス導入手段と、前記第１のガス供給手段及び前記第２のガス供給手段のガス流量の設定値を制御する制御部とを有する真空処理装置において、
   前記制御部は、
   第１の時間帯において、前記第１のガス導入手段を第1の設定値に設定し、前記第１の時間帯終了時直前の前記第１ガスの流量が前記第１の設定値よりも小さくなるように、前記第１のガス導入手段を第２の設定値に設定し、前記第１の時間帯終了時に前記第１の設定値をゼロに設定する機能と、
   前記第１の時間帯に連続する第２の時間帯において、前記第２のガス導入手段を第３の設定値に設定する機能と、を有することを特徴とする真空処理装置。
4. 真空処理室と、前記真空処理室へ第１のガスを供給する第１のガス導入手段と、前記真空処理室へ第２のガスを供給する第２のガス導入手段と、前記真空処理室へ第３のガスを供給する第３のガス導入手段と、前記第１のガス供給手段、前記第２のガス供給手段及び第３のガス供給手段のガス流量の設定値を制御する制御部とを有する真空処理装置において、
   前記制御部は、
   第１の時間帯において、前記第１のガス導入手段を第1の設定値に設定するとともに前記第１の時間帯終了時に前記第１の設定値をゼロに設定するする機能と、
   前記第１の時間帯に連続する第２の時間帯の前半部において、前記第２のガス導入手段を前記第１の設定値を越える第２の設定値に設定後、前記第２の時間帯の後半部において前記第２のガスが減少し、残留する前記第１のガスが排気されるように第３の設定値に設定する機能と、
   前記第２の時間帯に連続する第３の時間帯において、前記第３のガス導入手段を第４の設定値に設定する機能と、を有することを特徴とする真空処理装置。
5. 請求項４記載の真空処理装置において、
   前記第３の設定値はゼロであることを特徴とする真空処理装置。