JP5161469B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明を平行平板型ECRプラズマ処理装置に適用した第1の実施例の概略図を示すものである。図2(図2A、図2B)は、図1の要部を拡大して説明する図である。
Claims (2)
- 被処理体をプラズマ処理する処理室と、前記処理室にガスを供給する手段と、前記処理室内を減圧する排気手段と、プラズマ生成用電源と、前記処理室内の下部に配置され前記被処理体がその上面に載置される載置電極と、この載置電極の上方で対向して配置され前記ガスを供給する手段からのガスを前記処理室内に導入するための導入孔を備えたシャワープレートとを有するプラズマ処理装置において、
前記シャワープレートの上方で、前記被処理体が前記載置電極上に載置された状態での当該被処理体の外周縁の位置と前記処理室の側壁との間の領域に向けて配置され前記処理室内の発光を検出する検出器と、前記被処理体の前記プラズマ処理の前に実施される放電中に前記検出器からの出力に基づいて前記領域の前記ガス分子の回転温度を検出した結果を用いて前記放電の終点を判定する手段とを備えたプラズマ処理装置。 - 被処理体をプラズマ処理する処理室と、前記処理室にガスを供給する手段と、前記処理室内を減圧する排気手段と、プラズマ生成用電源と、前記処理室内の下部に配置され前記被処理体がその上面に載置される載置電極とを有するプラズマ処理装置において、
前記処理室の側壁に配置されて前記処理室内の発光を検出する検出器であって、その検出の方向が前記被処理体を前記載置電極上に載置した状態での当該被処理体の上方の領域は通らずに当該被処理体の外周縁の位置と前記処理室の側壁との間の領域を通るように水平方向に向けて配置された検出器と、前記被処理体の前記プラズマ処理の前に実施される放電中に前記検出器からの出力に基づいて前記領域の前記ガス分子の回転温度を検出した結果を用いて前記放電の終点を判定する手段とを備えたプラズマ処理装置。
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