JP2006209117A - 現像液組成物 - Google Patents
現像液組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006209117A JP2006209117A JP2006013766A JP2006013766A JP2006209117A JP 2006209117 A JP2006209117 A JP 2006209117A JP 2006013766 A JP2006013766 A JP 2006013766A JP 2006013766 A JP2006013766 A JP 2006013766A JP 2006209117 A JP2006209117 A JP 2006209117A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- mass
- developer composition
- integer
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
【解決手段】(a)水100質量部当たり0.01〜20質量部のアルカリ金属炭酸塩;
(b)水100質量部当たり0.01〜20質量部のアルカリ金属重炭酸塩;
(c)水100質量部当たり0.01〜25質量部の下記式(I)の非イオン界面活性剤:
(式中、R1は水素またはメチルであり、R2は水素またはメチルであり、nは0〜10の範囲の整数であり、mは4〜20の範囲の整数である。);および、
(d)水100質量部当たり0.01〜25質量部の下記式(II)の非イオン界面活性剤:
(式中、R3はC1−C12アルキルであり、pは0〜10の範囲の整数であり、qは4〜20の範囲の整数である。)
を含む現像液組成物。
【選択図】なし
Description
本発明は、現像液組成物および現像液を提供する。本発明の現像液は、フォトレジストパターンまたはカラーフィルターの露光において、かす、表面汚染物質、フィルム残渣等を形成することなく、不要な塗膜を溶解することによって除去することができる。それにより、フォトレジストパターンまたはカラーフィルターの鮮明な(clear defined)パターンを得ることを可能にするフォトレジスト組成物に使用するための現像液を得ることができる。
(a)水100質量部当たり0.01〜20質量部のアルカリ金属炭酸塩;
(b)水100質量部当たり0.01〜20質量部のアルカリ金属重炭酸塩;
(c)水100質量部当たり0.01〜25質量部の下記式(I)の非イオン界面活性剤:
(d)水100質量部当たり0.01〜25質量部の下記式(II)の非イオン界面活性剤:
現像された90nm×230nmの黒色マトリックスパターンのアルカリ未含有ガラス基板上に、着色フォトレジストを塗布した後、340rpmで20秒間スピンコートした。最終的に、均一な薄いフィルムが形成された。
表1に示す質量部のアルカリ化合物および非イオン界面活性剤を更に添加し、100質量部の超純水と混合し、水溶液(現像液)を調製した。
現像液1:かすが検出された
現像液2:かすが検出された
現像液3:良好(fine)
現像液4:かすが検出された
Claims (13)
- 式(I)において、nは0〜5の範囲の整数であり、mは6〜15の範囲の整数である、請求項1に記載の現像液組成物。
- 式(II)において、R3はC6−C12アルキルであり、pは0〜5の範囲の整数であり、qは4〜20の範囲の整数である、請求項1または2に記載の現像液組成物。
- 式(II)において、R3はC8−C9アルキルである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の現像液組成物。
- 前記アルカリ金属炭酸塩は炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の現像液組成物。
- 前記アルカリ金属重炭酸塩は、重炭酸ナトリウムまたは重炭酸カリウムである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の現像液組成物。
- 水100質量部当たり0.1〜10質量部のアルカリ金属炭酸塩を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の現像液組成物。
- 水100質量部当たり0.1〜10質量部のアルカリ金属重炭酸塩を含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の現像液組成物。
- 水100質量部当たり0.1〜20質量部の式(I)の非イオン界面活性剤を含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の現像液組成物。
- 水100質量部当たり0.1〜20質量部の式(II)の非イオン界面活性剤を含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載の現像液組成物。
- 着色剤を含むフォトレジスト組成物とともに使用される、請求項1〜11のいずれか1項に記載の現像液組成物。
- (メタ)アクリル樹脂を含むフォトレジスト組成物とともに使用される、請求項1〜11のいずれか1項に記載の現像液組成物。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN200510006257.9A CN1811602B (zh) | 2005-01-27 | 2005-01-27 | 显影液组成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006209117A true JP2006209117A (ja) | 2006-08-10 |
JP4641499B2 JP4641499B2 (ja) | 2011-03-02 |
Family
ID=36697216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006013766A Expired - Fee Related JP4641499B2 (ja) | 2005-01-27 | 2006-01-23 | 現像液組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7150960B2 (ja) |
JP (1) | JP4641499B2 (ja) |
CN (1) | CN1811602B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010134406A (ja) * | 2008-12-08 | 2010-06-17 | Everlight Usa Inc | 現像剤組成物 |
CN102096344A (zh) * | 2010-12-17 | 2011-06-15 | 合肥茂丰电子科技有限公司 | 显影液及其制备方法与应用 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101178548B (zh) * | 2006-11-08 | 2011-08-10 | 新应材股份有限公司 | 碱性显影液组成物 |
JP2008127507A (ja) * | 2006-11-22 | 2008-06-05 | Sony Corp | 記録液、記録方法及び記録液カートリッジ |
CN101246315B (zh) * | 2007-02-16 | 2011-05-11 | 明德国际仓储贸易(上海)有限公司 | 光阻剂清洗液组成物及其应用 |
JP5659873B2 (ja) * | 2010-12-16 | 2015-01-28 | 富士通株式会社 | レジストパターン改善化材料、レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法 |
CN102289160B (zh) * | 2011-08-24 | 2012-11-21 | 绵阳艾萨斯电子材料有限公司 | 光致蚀刻剂用显影液及其制备方法与应用 |
US9057960B2 (en) | 2013-02-04 | 2015-06-16 | International Business Machines Corporation | Resist performance for the negative tone develop organic development process |
CN103955119A (zh) * | 2014-04-17 | 2014-07-30 | 富士胶片电子材料(苏州)有限公司 | 一种用于半导体集成电路中的显影液 |
CN109062015A (zh) * | 2018-09-18 | 2018-12-21 | 周连惠 | 一种高浓度显影液原液组合物 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001215733A (ja) * | 2000-02-03 | 2001-08-10 | Asahi Denka Kogyo Kk | 感放射線性組成物用現像液 |
JP2001312073A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Shin Sti Technology Kk | ネガ型フォトレジスト用現像液 |
JP2010024580A (ja) * | 2008-07-18 | 2010-02-04 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | ポリエステル繊維の難燃加工剤とその加工方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3123563B2 (ja) | 1991-09-27 | 2001-01-15 | チッソ株式会社 | 感光性樹脂現像液 |
JPH07120935A (ja) | 1993-10-25 | 1995-05-12 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
JPH0934128A (ja) | 1995-07-20 | 1997-02-07 | Mitsubishi Chem Corp | カラーフィルターレジスト用現像液 |
JP3716538B2 (ja) | 1996-11-29 | 2005-11-16 | 三菱化学株式会社 | 感光性樹脂現像液およびカラーフィルターの製造方法 |
US6503694B1 (en) * | 2001-06-12 | 2003-01-07 | Chi Mei Corporation | Developer solution and edge bead remover composition |
JP2003302770A (ja) * | 2002-02-08 | 2003-10-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
-
2005
- 2005-01-27 CN CN200510006257.9A patent/CN1811602B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-08-11 US US11/201,255 patent/US7150960B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-01-23 JP JP2006013766A patent/JP4641499B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001215733A (ja) * | 2000-02-03 | 2001-08-10 | Asahi Denka Kogyo Kk | 感放射線性組成物用現像液 |
JP2001312073A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Shin Sti Technology Kk | ネガ型フォトレジスト用現像液 |
JP2010024580A (ja) * | 2008-07-18 | 2010-02-04 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | ポリエステル繊維の難燃加工剤とその加工方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010134406A (ja) * | 2008-12-08 | 2010-06-17 | Everlight Usa Inc | 現像剤組成物 |
CN102096344A (zh) * | 2010-12-17 | 2011-06-15 | 合肥茂丰电子科技有限公司 | 显影液及其制备方法与应用 |
CN102096344B (zh) * | 2010-12-17 | 2013-02-06 | 合肥茂丰电子科技有限公司 | 显影液及其制备方法与应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060166147A1 (en) | 2006-07-27 |
CN1811602B (zh) | 2010-10-06 |
JP4641499B2 (ja) | 2011-03-02 |
CN1811602A (zh) | 2006-08-02 |
US7150960B2 (en) | 2006-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4641499B2 (ja) | 現像液組成物 | |
US7467632B2 (en) | Method for forming a photoresist pattern | |
CN103080844B (zh) | 光刻用清洗液以及使用其的图案形成方法 | |
US20060194154A1 (en) | Developer composition | |
JP2005509693A (ja) | シンナー組成物 | |
KR101720967B1 (ko) | 기판 처리액 및 이것을 사용한 레지스트 기판 처리 방법 | |
JP2004184648A (ja) | リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたレジストパターン形成方法 | |
CN103443710B (zh) | 光刻用清洗液以及使用了其的图案形成方法 | |
CN103858058A (zh) | 细微抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法 | |
CN1975572B (zh) | 抗蚀剂组合物 | |
CN104995564A (zh) | 微细抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法 | |
US6503694B1 (en) | Developer solution and edge bead remover composition | |
TW527519B (en) | Method for forming resist pattern | |
TW200415441A (en) | Photoresist developer composition | |
JP4865834B2 (ja) | 現像剤組成物 | |
KR20170069268A (ko) | 레지스트 패턴 처리용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법 | |
JP3491978B2 (ja) | 表面反射防止塗布組成物 | |
TWI714670B (zh) | 形成細緻光阻圖案用之組成物及使用其之圖案形成方法 | |
TWI304161B (ja) | ||
KR20010053244A (ko) | 이온 교환팩에 의한 미량 금속 이온을 감소시키는 방법 | |
KR101161029B1 (ko) | 현상제 조성물 | |
CN101109899B (zh) | 抗蚀剂组合物 | |
JP4259714B2 (ja) | 感放射線性組成物用現像液 | |
JPH02187764A (ja) | 感遠紫外線樹脂組成物 | |
JP2001281874A (ja) | リソグラフィー用反射防止膜形成用組成物およびこれを用いたレジスト積層体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101124 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4641499 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |